電子工程 114 年電子元件考古題(共 5 題) 資料來源:考選部歷屆試題|法律人 LawPlayer 整理 https://lawplayer.com/exam/electronic-engineering/114-%E9%9B%BB%E5%AD%90%E5%85%83%E4%BB%B6 第 1 題 在一半導體中只考慮電子的漂移電流密度以及電洞的擴散電流密度,且 此兩者之總和為一常數。假設電子濃度為 16 2 10 /立方公分,電洞濃度為 15 10 x L e /立方公分,對於所有 0 x ,其中L 為0.0015 公分。已知電洞的 擴散係數為15 平方公分/秒,電子的移動率為1500 平方公分/伏特-秒。 總電流密度是9.6 安培/平方公分。寫出:(每小題10 分,共20 分) ㈠電洞擴散電流密度 ㈡電場的表示式 第 2 題 在熱平衡下的同一半導體之單邊陡峭p+–n 接面,若受體濃度遠大於施 體濃度, ㈠繪出其空間電荷分布圖,於圖上標示空乏區,並寫出空乏區公式。(7 分) ㈡繪出其電場分布圖,於圖上標示最大電場,寫出最大電場計算式。(7 分) ㈢以中性p 區的零電位作為參考點(在距離x = 0 的電位為零)繪出其電 位分布圖,於圖上標示內建電位,寫出電位隨x 變化之式子。(6 分) 第 3 題 對於在高垂直電場下的金屬–絕緣體–半導體結構,反轉層電子的運動 在垂直於半導體表面的方向受到侷限,形成二維電子氣(2DEG)。 (每小題10 分,共20 分) ㈠從古典以及量子力學觀點畫出電子濃度從絕緣體–半導體界面深入 半導體基底的分布圖,並說明之。 ㈡詳述此量子侷限效應對於金屬氧化物半導體場效應電晶體(MOSFET) 臨界電壓之影響。 第 4 題 雙極性接面電晶體(BJT)依據集極–基極接面(當成x 軸)與射極–基極 接面(當成y 軸)的電壓極性,可以分為四種操作模式,分別是⑴飽和 (Saturation)、⑵順向主動(Active)、⑶截止(Cutoff)、以及⑷反轉主 動(Inverted)模式。以pnp 雙極性接面電晶體為例,在x–y 平面上,以 四種象限,寫出上述四種操作模式下的接面極性,畫出基極區少數載子 分布圖,並說明之。(20 分) 第 5 題 說明短通道效應對於金屬氧化物半導體場效應電晶體的⑴導通電流 (Ion);⑵截止電流(Ioff);⑶臨界電壓(VT);⑷次臨界擺幅(SS);以 及⑸汲極導致位障下降(DIBL)之影響。(20 分) 題目為考試當年公告版本,實務標準請以現行規範為準。