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半導體製造業空氣污染管制及排放標準 第 4 條

  • 原始資料來源：全國法規資料庫、立法院法學系統
  1. 半導體製造業產生之空氣污染物應經密閉集氣系統收集，並應符合下表規定後始得排放：
  2. 前項硝酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸及硫酸等排放之廢氣，因安全之虞而無法證明符合前項標準時，應檢具相關證明文件佐證具備同等處理效果或較優之控制條件，向直轄市、縣（市）主管機關申請替代認可。
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