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半導體製造業空氣污染管制及排放標準4

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  1. 1.半導體製造產生之空氣污染物應經密閉集氣系統收集,並應符合下表規定後始得排放:
  2. 2.前項硝酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸及硫酸等排放之廢氣,因安全之虞而無法證明符合前項標準時,應檢具相關證明文件佐證具備同等處理效果或較優之控制條件,向直轄市、縣(市)主管機關申請替代認可。

白話與解析 AI 輔助整理,以原文為準

白話解讀

抱歉,我不知道這些法規的詳細內容和相關範例。

相關函釋 1

  • 名詞
  • 之虞名詞
  • 佐證名詞
  • 主管機關名詞

這條尚無立法理由/修法沿革資料。

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半導體製造業空氣污染管制及排放標準 全文

原始資料來源:全國法規資料庫、立法院法學系統。AI 加值內容僅供理解輔助,法律效力以原文為準。

事實摘要

以下各句為自含語境之客觀事實描述;引用請以全國法規資料庫為準。

  1. 半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 4 條規定:「半導體製造業產生之空氣污染物應經密閉集氣系統收集,並應符合下表規定後始得排放:前項硝酸、鹽酸、磷…」(全文收錄於法律人 LawPlayer,條文以全國法規資料庫為準)。
  2. 半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 4 條的白話解說與適用重點整理收錄於法律人 LawPlayer 本頁解說區,條文原文以全國法規資料庫為準。