智慧財產及商業法院100年度行專訴字第56號

• 裁判案由: 發明專利舉發
• 案件類型: 智財
• 審判法院: 智慧財產及商業法院
• 裁判日期: 100 年 11 月 17 日

智慧財產法院行政判決
100年度行專訴字第56號民國100年10月27日辯論終結原 告　日商信越工程股份有限公司
代　表　人　矢澤征吾
訴訟代理人　桂齊恆律師
江郁仁律師
被 告　經濟部智慧財產局
代　表　人　王美花
訴訟代理人　黃振東
參 加 人　日商日立創新工業科技股份有限公司
代　表　人　東原敏昭
訴訟代理人　黃瑞賢律師
廖文慈律師
高山峰專利師
上列當事人間因發明專利舉發事件，原告不服經濟部中華民國100 年4 月12日經訴字第10006098240 號訴願決定，提起行政訴訟，並經本院命參加人獨立參加被告之訴訟，本院判決如下︰
主 文
訴願決定及原處分均撤銷。
被告就第92102581N01 號「基板組裝裝置」發明專利舉發事件，應依本判決之法律見解另為處分。
原告其餘之訴駁回。
訴訟費用由被告負擔二分之一，餘由原告負擔。
事實及理由
一、事實概要︰
緣案外人日商日立產業有限公司前於民國92年2 月7 日以「基板組裝裝置」向被告申請發明專利，並以西元2002年7 月19日在日本申請之第2002-210443 號專利案主張優先權，經被告編為第92102581號審查，准予專利（下稱系爭專利），並於公告期滿後，發給發明第206635號專利證書。案外人日商日立產業有限公司於96年2 月9 日申准將系爭專利專利權讓與登記予參加人。嗣原告以系爭專利申請專利範圍第1 、2 、7 、8 項有違核准審定時專利法第20條第1 項第1 款及第2 項之規定，對之提起舉發，經被告審查，以99年10月27日（99）智專三㈤01029 字第09920769360 號專利舉發審定書為「舉發不成立」之處分。原告不服，提起訴願，經經濟部100 年4 月12日經訴字第10006098240 號決定駁回，遂向本院提起行政訴訟。本院認本件訴訟之結果，將影響參加人之權利或法律上之利益，乃依行政訴訟法第42條第1 項規定，依職權命參加人獨立參加本件訴訟。
二、原告主張：
（一）證據3 、4 、5 之組合可證明系爭專利請求項1 、2 不具進步性：
１、證據3 段落〔0007〕、〔0008〕及圖9 已揭露「具有用來形成減壓氣相的箱室（相當於證據3 真空容器C ）、在箱室（真空容器C ）內把持上基板（相當於證據3 上基板12）且構成為能往上下移動之加壓板（相當於證據3 設置有吸附機構19之構件）、及與把持在加壓板（設置有吸附機構19之構件）之上基板（上基板12）成對向而隔有間隔把持下基板（下基板11）之基板把持載置台（相當於證據3
之載置台17），進行上基板（上基板12）與下基板（下基板11) 之位置對準，往上下驅動加壓板（設置有吸附機構19之構件），縮小基板間的間隔，用設在基板的其中一者之黏接劑（相當於證據3 設在下基板11之黏著劑14），在減壓氣相中進行貼合之基板組裝裝置，其特徵：為了使上基板（上基板12）把持在加壓板（設置有吸附構件19之構件）而具備有用負壓之複數個吸引孔」之請求項1 大部分構成，系爭專利請求項1 與證據3 差異僅在於「吸引孔設在具備上下移動機構之吸盤」。
２、證據3 已揭露系爭專利請求項1 吸盤以外之構成；而依據證據4 段落[0017]之「該等貫通孔27透過真空線28連接於真空泵29，該貫通孔23透過真空線30連接於真空泵29」與段落[0021]之「如上述，在使晶圓34強制為平坦狀態下，開啟電磁閥32，晶圓34吸附於載台21」之記載與圖2 、圖7 、8 可知，證據4 之吸盤（晶圓夾頭）具有「水平矯正基板的功能、及負壓吸引機構（貫通孔）」；依據證據5
段落[0008]之「首先將多層印刷板中央部以中央部上下動作用汽缸之中央部吸附用吸附墊來吸附後，使吸附墊上升至與周邊部相同高度。接著，以周邊部上下動作用汽缸之周邊部吸附用吸附墊來吸附多層印刷板周邊部，藉此可將該多層印刷板保持為幾乎水平之狀態」之記載與圖1 可知，證據5 之吸盤具有「抬起基板的功能、水平矯正基板的功能、及把持基板的功能」。
３、證據3 、4 、5 與系爭專利確實為相關之技術領域，本發明所屬技術領域中具有通常知識者可輕易結合證據4之 吸盤（晶圓夾頭）與證據5 之吸盤得到系爭專利請求項1 之吸盤之構成及達成與系爭專利請求項1 之吸盤相同的功能。本發明所屬技術領域中具有通常知識者可輕易結合證據3 至證據5 而得到系爭專利請求項1 之發明及達到系爭專利請求項1 之效果，因此系爭專利請求項1 不具進步性。４、系爭專利請求項2 將複數吸盤設置於加壓板中央部旁邊係必須要件，但請求項2 依附之請求項1 中，將複數吸盤設置於加壓板中央部旁邊已為必須要件，因此請求項2 所請發明僅將此重複表現，實質上與請求項1 係相同構成，從此點考量系爭專利請求項2 亦不具可專利性，是組合證據3 、4 、5 即可否定系爭專利請求項2 之進步性。
（二）系爭專利請求項7 與申請前已公開之證據3 所記載實質相同，或根據申請前已公開之證據3 至6 與新證據7 記載之發明，乃熟習該項技術者所能輕易完成者，不應准予專利：
１、證據3 或證據3 與證據7 之組合可證明系爭專利請求項7
不具進步性：
（１）系爭專利請求項7 記載之發明已揭露於證據3：
①證據3 揭露「在真空容器C 內上下隔著間隔使上、下基板6 、3 相對向且利用上載置台之吸附機構7 ，下載置台4 之吸附機構5 分別保持，進行下基板3 與上基板6
之位置對準，經縮小上、下基板6 、3 的間隔，用設在下基板3 之黏著劑1 ，進行上、下基板6 、3 的貼合之基板組裝方法」以及「當上基板6 （基板）保持在設置有吸附機構7 之構件（上側載置台）時，在上基板6 （基板）使吸持力作用」之系爭專利請求項7 大部分技術特徵。
②系爭專利請求項7 之構成要素（7-b ）在證據3 似無明示，然證據3 段落[0020]有記載：「[0020]其次，以與下基板3 對向之方式以既定間隔配置由透光性材料構成之上基板6 ，在大氣中藉由吸附機構7 之真空吸附固定此上基板6 上側面（步驟b ）。僅藉由吸附機構7 之第1 吸附系統7a吸附固定。其次，追加藉由第2 吸附系統7b之真空吸附以增大吸附孔之開口率，以第1 及第2 吸附系統7a、7b吸附定上基板6 之全面（步驟c ）」
③參照圖1(b)已顯示出上基板6 係被設有吸附機構7 構件（上側載置台）之第1 吸附系統7a保持。根據圖1(b)可知，第1 吸附系統7a係設於兩處，且位於上基板6 之圖面上左右方向之中央部分。參照圖1(b)可知，上基板6
係從下基板3 往上方分離，而被以第1 吸附系統7a保持，此種上基板6 之保持狀態係在上基板6 之中央部分使吸持力作用而予以吸附固定。
④系爭請求項7 記載「當基板把持在上側載置台時，從基板的中央部開始使吸持力作用」之構成要件，包含經時之意義，意指在中央部使吸持力作用，其後於中央部之外側使吸持力作用，與此內容類似之構成已揭露於證據3 。上述說明已說明在第1 吸附系統7a之吸附固定後藉由第2 吸附系統7b吸附固定上基板6 。與此說明對應者為圖1(c)，該圖顯示於第1 吸附系統7a中心與外側兩處之合計三處具有第2 吸附系統7b。
⑤圖1 所示使吸附系統7a, 7b依此順序作動，上基板6 首先係從中央部分藉由第1 吸附系統7a使吸持力作用而被保持，其後藉由第2 吸附系統7b在中央部分外側與中心使吸持力作用被保持。證據3 之揭露內容，已與系爭專利請求項7 構成要素（7-b ）極為近似可謂實質相同。（２）縱認證據3 未揭露系爭專利請求項7 構成要素（7-b ），該構成要素（7-b ）亦已揭露於證據7 ，故依據證據3 與證據7 之組合亦可證明系爭專利請求項7 不具進步性：
①證據7 之圖11及說明書段落[0034]已揭露「說明如圖11所示於基板10之中央部有凸狀翹曲之情形。最初，如圖11(a) 所示於中央部有翹曲之基板10被搬送機構3 搬送而來。接著基板10在到達吸附面時則在該位置停止。在此種情形下，首先從基板10之中央部（B 區塊）開始吸附。此情形下，由於B 區塊周圍之吸附面與基板10接觸，因此在B 區塊之部分即使吸附面與基板10有些許分離，其間之壓力亦藉由B 區塊之吸引並因來自排氣管15b
之吸引而較容易降低，而以充分之吸引力吸引並吸附基板10之B 區塊之部分。此時，即使因在B 區塊基板10之撓曲部分被吸附而延展，使得在與A 區塊、C 區塊相當之部分基板10有產生些許位置偏移，由於在A 區塊、C
區塊並未吸附基板10，因此不會產生基板10之破損等（圖11(a) ）。CPU40 接著正常進行B 區塊之吸附後，其次進行A 區塊，C 區塊之吸附。A 區塊、C 區塊之吸附可同時進行，或可以不同時序進行。接著，在A 區塊,C區塊亦正常進行吸附後，則於基板10全面進行吸附（圖11(b) ）」。上開記載揭露了將載置台（吸附板1 ）之吸附面區分成三個區塊(A、B 、C)，首先開始中央部B
區塊之吸持，其次進行周邊A 區塊、C 區塊之吸持，藉以吸附基板10之構成。
②由於證據3 與證據7 間欲解決之課題具共通性，因此將證據7 技術適用於證據3 係容易的，系爭專利請求項7
構成要素（7-b ）係在大氣中保持上基板時之構成，亦係在基板之貼合技術中之特徵構成，與減壓無關，與位置對準、縮小間隔以進行貼合亦無關，係一極其一般之慣用技術。構成要素（7-b ）僅係與「在常壓下吸附基板以進行基板之姿勢變換或移動等處理」之慣用技術相關者，只要與包含此等機構之裝置相關之技術領域人士，縱使無基板之貼合技術背景，亦可輕易思及之構成。另證據7 與「吸附基板以進行基板之姿勢變換或移動等處理」技術相關者，已揭露與構成要素（7-b ）實質上相同之內容。只要考量到兩者證據實質性技術領域之關聯性，對於發明所屬技術領域中具有通常知識者而言，將證據7 技術適用於證據3 係極其容易的。
２、證據3 與證據4 、5 、6 之組合可證明系爭專利請求項7
不具進步性：
（１）證據4 說明書段落[0013]已揭露「又，在將翹曲成凹狀之晶圓吸附於載台時，係藉由與上述相反之程序，從晶圓之中央部開始依序往外周吸附。在結束既定之處理後，同時關閉電磁閥16a ～16g ，而能搬出晶圓18」，是證據4 已揭露從晶圓之中央部開始依序往外周吸附之構成。
（２）證據5 之圖1 及說明書段落[0008]已揭露「首先將多層印刷板中央部以中央部上下動作用汽缸之中央部吸附用吸附墊來吸附後，使吸附墊上升至與周邊部相同高度。接著，以周邊部上下動作用汽缸之周邊部吸附用吸附墊來吸附多層印刷板周邊部，藉此可將該多層印刷板保持為幾乎水平之狀態」，從上開記載與圖1 可知，證據5
已揭露當吸附對象基板彎曲成凸狀時，從使設於中央部之吸附用墊先動作，吸附基板中央部並上升移動至與周邊部相同高度，接著，使設於周邊部之吸附墊動作，藉此保持基板之水平。
（３）證據6 之圖1(a)及說明書段落[0006]已揭露「大型玻璃基板如上述周邊向上方彎曲，依照接近玻璃基板之中心點之吸附槽至遠離玻璃基板之中心點之吸附槽之順序，相隔適當之時差依序進行空氣吸附，使整面確實與載置台緊貼」，從上開記載與圖1 可知，證據6 已揭露從接近玻璃基板之中心點之吸附槽至遠離玻璃基板之中心點進行吸附之構成，藉以吸附大型玻璃基板之構成。
（４）從而，該構成要素（7-b ）已揭露於證據4 、5 、6 ，依據證據3 與證據4 、5 、6 之組合確實可證明系爭專利請求項7 不具有進步性：
（三）聲明：
１、原處分及訴願決定均撤銷。
２、被告應對申請第092102581 號「基板組裝裝置」發明專利案為舉發成立、應撤銷專利權之審定。
三、被告則以：
（一）證據3 之圖1 及圖2 揭露在真空中上下基板之配置及上基板之吸持作用，證據3 之段落【0020】揭露吸附機構及2
個吸附系統之吸附作用，證據3 圖1 則揭露吸附吸統彼此順序作用，上基板之吸附借由第1 及第2 吸附系統經由中央及中央部分外側與中心吸引力作用而被把持之技術內容，證據3 並無揭露系爭專利申請請求項7 中在兩片基板經位置對準且縮小兩基板之間格後用設在其中一者的基板之粘接劑，進行兩基板貼合之基板組裝方法，尤其該方法中當基板把持在上開上側載置台時，從基板中央部開始使吸持力作用之特徵。依據系爭專利說明書第16頁末段敘述，於第5 圖中先對中央吸引孔作用較大的負壓吸引中央部，接著對兩側吸引孔施加比施加給中央部的負壓更小的負壓，就能在基板沒有畸變的狀態下吸引基板，如此可使基板中央部朝向基板端部件件吸引而能有更高精度的吸引，證據3 與系爭專利請求項7 顯屬不同之發明，系爭專利之目的為提供即使基板大型化也能有良好精度把持基板，又能有高精度且高速下進行貼合的高性能組裝裝置，可證明系爭專利請求項7 之進步性。再者，證據7 為原告於行政訴訟階段始提出之「新證據」，證據7 之圖11及其說明已揭露係將基板分成ABC 三個區塊予以分別吸附，與系爭專利請求項7 為完全不同之發明，原告謂系爭專利請求項7 為該發明所屬技術領域中具通常知識者所能輕易思及及不具可預期之功效，並無可採。
（二）證據4 係為解決半導體晶圓之矯正問題而設，係關於吸附固定晶圓之晶圓載台裝置，其中之段落【0013】揭露有關晶圓吸附及使用電磁閥動作之機制，係用以矯正晶圓的彎曲並保持在載置台上之技術內容，證據5 係為解決多層印刷板之吸附搬送課題而設，係關於多層印刷板之吸附搬送裝置，其中段落【0008】揭露使用汽缸作用吸附印刷電路板之技術，證據6 係關於玻璃基板之真空吸附方法，其段落【0006】說明玻璃基板與吸附槽之吸附動作，尤其係於空氣吸附下進行，從而證據4 至6 等證據所欲解決課題均與系爭專利不同，證據4 及證據5 之標的、發明目的及所採用裝置明顯不同於系爭專利，自非屬系爭專利之相關技術領域。證據6 係在一基板上設置吸引部下進行吸附力作用（參圖式第2 圖至第4 圖），並無揭露系爭專利請求項7 上下基板進行之相關動作。另據系爭專利說明書所載之實施例步驟，係先對中央的吸引孔作用較大的負壓吸引中央部，接著對兩側吸引孔施加比施加給中央部的負壓更小的負壓，就能在基板沒有畸變的狀態下吸引基板，如此可使基板中央部朝向基板端部件吸引而具更高精度的吸引，故系爭專利請求項7 具有特定功效，從而證據3 與證據4
、5 、6 之組合無法證明系爭專利請求項7不 具進步性。（三）系爭專利請求項1 為一種基板組裝裝置，是針對具有用來形成減壓氣相的箱室、及在上開箱室內把持上基板且構成為能往上下移動之加壓板、及與把持在上開加壓板之上基板成對向而隔有間隔把持下基板之基板把持載置台，驅動前述基板把持載置台，進行前述上基板與下基板之位置對準，往上下驅動前述加壓板，縮小基板間的間隔，用設在前述基板的其中一者之粘接劑，在減壓氣相中進行貼合之基板組裝裝置，其特徵為：為了使前述上基板把持在前述加壓板而具備有用負壓之複數個吸引孔，前述複數個吸引孔當中，加壓板中央部旁邊及其周圍的吸引孔設在具備上下移動機構之複數個吸盤，使前述上下移動的吸盤下降並把持前述上基板後，後退至前述加壓板的基板保持面為止，並由朝前述吸引孔及吸盤供給之負壓來把持前述上基板。證據3 除未揭露系爭專利之吸盤構造，及「為了使前述上基板把持在前述加壓板而具備有用負壓之複數個吸引孔，前述複數個吸引孔當中，加壓板中央部旁邊及其周圍的吸引孔設在具備上下移動機構之複數個吸盤，使前述上下移動的吸盤下降並把持前述上基板後，後退至前述加壓板的基板保持面為止並由朝前述吸引孔及吸盤供給之負壓來把持前述上基板」之技術特徵外，且未敘明解決基板因大型化、薄型化所產生因自身重量致其下垂彎曲問題之技術手段。此外，證據3 並未如系爭專利具抬起、水平矯正及把持基板等功效。原告雖主張證據3 段落【0007】及【0008】及圖9 已揭露系爭專利請求項1 大部分之內容，惟「減壓氣箱的箱室」精確而言不等於「真空室」，「加壓板」亦不等於「吸附機構之構件」之推論，又證據4 及證據5 均非屬系爭專利液晶面板之基板組裝裝置之相關技術領域。證據4 之「晶圓夾頭」與系爭專利之「吸盤」相較，其元件及吸附基構不同。證據5 之印刷電路板係以「汽缸」之作動完成吸附，系爭專利之驅動機構則非以「汽缸」之作動完成吸附。況證據4 及證據5 亦未如系爭專利具有抬起、水平矯正及把持基板等功效。是系爭專利請求項1
非為熟習該項技術者運用申請前之證據3 、證據4 及證據5 所揭示之技術或知識，所能輕易完成者，而具進步性。（四）系爭專利請求項2 為依附於第1 項獨立項之附屬項，就該獨立項所載技術內容進一步界定為「其中前述複數吸盤設在加壓板中央部旁邊」，次查證據3 、證據4 及證據5 之組合無法證明系爭專利請求項1 不具進步性，自亦無法證明依附於該獨立項之附屬項（第2 項）不具進步性等語，資為抗辯。
（五）聲明：原告之訴駁回。
四、參加人主張：
（一）證據3 、4 、5 之組合無從否定系爭專利請求項1 具進步性：
１、系爭專利請求項1 係由加壓板面吸引孔及吸盤負壓力的雙方將基板保持地進行貼合作業的構成。且在加壓板將基板保持的情況時，是將基板朝反重力方向抬起保持。過去技術則是基板把持在真空中，下側基板載置在平坦機座上，上側之基板在大氣狀態下以負壓吸引，到達一定真空狀態則用靜電力所形成靜電吸持夾把持基板之構成。最近已有基板尺寸1m×lm以上之大型化，且基板厚度也由3mm 轉變
為2mm 、1mm 之薄型化傾向。因而當用加壓板（上載置台）吸持基板之際，基板中央部撓曲，基板中央部之基板與加壓板間隔變大，當基板從基板搬運手段轉交到加壓板之際，會發生無法把持基板的情形。特別是把持大畫面之基板時，由於在基板中央部形成有配向膜或TFT 等，因而只能支撐基板的周邊部，對於防止基板的撓曲會造成困難。另外即使能把持，基板也會發生殘留應力，或呈基板對準標記位置偏離之狀態把持基板。另外把持搬運基板之自動機器手爪部也增長把持基板時，前端側撓曲，自動機器手爪前端側之基板與加壓板間隔仍會變大而無法吸收基板。因此，對大型基板若不能解決上述問題就無法正確進行貼合。系爭專利請求項1 為解決上開問題，在加壓板2 之基板吸引面設有複數個以負壓吸引的吸引孔。用上開構成進行從自動機器手50轉交基板60作業時，如第3(b)圖所示使利用加壓板2 負壓吸引之吸持機構作動，並且將能上下移動吸盤之連桿部57必要量伸出到基板側，以吸盤部56把持基板60後，直到上載置台2 之基板把持面為止使連桿部57後退，而確實吸引在中央部附近之吸引孔。並能消除基板發生撓曲之影響，可以確實將基板把持在一定位置，因而能提高位置對準之精度，也能縮短位置對準所花之時間。２、證據3 無揭露系爭專利請求項1 「吸盤」裝置之技術內容：
證據3 因僅由真空吸引，且由設在上載置台面之「吸引孔」將基板全面由真空吸引保持之技術，所以未如系爭專利請求項1 揭示除使用「吸引孔」外另使用具備上下移動機構之「吸盤」將上基板中央部抬起直到載置台面為止之技術。
３、證據4 無揭露系爭專利請求項1 之技術內容：
證據4 係關於「半導體晶圓之平坦化機構」發明，其發明目的係為矯正晶圓之撓曲。證據四之段落[0020]～[0021]揭示，在第2 實施例中，只有由吸引上下移動在上凸狀態下將被載置在載置台上的晶圓返回至水平狀態用的晶圓挾盤，與晶圓的彎曲部抵接之後供給負壓，彎曲打直成水平狀態，成為水平狀態之後朝被設在載置台面的吸引環溝(23) 供給負壓將晶圓吸引後，停止朝晶圓挾盤的負壓供給，將晶圓挾盤放下至載置台面的下方，將晶圓強制地平板化而成為被吸引在載置台的狀態下，進行曝光等的作業。證據4 之晶圓夾頭與系爭專利吸盤相較，其元件及吸附結構大不相同。證據4 之晶圓挾盤是將基板朝重力方向強制壓下，非如系爭專利為朝反重力方向抬起。因證據4 係為晶圓夾盤及吸引環溝之併用方式，所以並未揭示如系爭案真空吸盤及真空吸引孔併用方式將基板保持。
４、證據5無揭露系爭專利請求項1之技術內容：
證據5 係關於「多層印刷板之搬送裝置」發明。證據5 說明書段落[0012]～[0015]揭示，中央部的吸盤將多層印刷電路基板保持並抬起直到預定高度為止，之後由周邊部吸盤將多層印刷電路基板的周邊部保持，並抬起直到中央部吸盤的高度為止，將基板成為水平之後，直到搬運高度為止使中央部及周邊部吸盤上昇後在該狀態下將多層印刷電路基板搬運之技術。而證據5 只有揭示由吸盤將基板保持搬運，而沒有揭示由吸盤供給負壓之構成。非如系爭專利係將基板抬起直到載置台面為止，且併用設在載置台吸引孔將基板保持之技術。且證據5 係適用於電路基板，電路基板尺寸遠小於系爭專利所適用之面板基板之尺寸，故與系爭專利所面臨之問題大不相同。
５、組合證據3 、4 、5 無法否定系爭專利請求項1 具進步性：
證據4 與證據5 非相同、相關之技術領域，其吸盤目的及構成亦不相同，熟悉該項技術者並無動機將二者組合，即便勉強將二者組合亦無法獲得系爭專利請求項1 之吸盤構造及功能；又證據4 適用之晶圓及證據5 所適用之電路基版與本案所適用之面板，於尺寸上相差極大，證據4 及證據5 均未考量本案基板大型化、薄型化所產生自重下垂彎區的問題。
（二）系爭專利請求項2 係依附於請求項1 之附屬項，既然組合證據3 至5 無從否定系爭專利請求項1 具進步性，則組合證據3 至5 當然亦無從否定系爭專利請求項2 具進步性。（三）證據3 或組合證據3 與證據7 無從否定系爭專利請求項7
具進步性：
１、證據3 之吸附方式與系爭專利請求項7 並不相同，該差異非熟悉該項技術者可輕易思及，無從否定系爭專利請求項7 具進步性：
在證據3 中揭示，將上基板在上載置台上將基板整體由吸引保持。但自說明書段落[0020]揭示，證據3 之吸引方法是使用第1 吸引系統(7a)、第2 吸引系統(7b)進行吸引固定。證據3 之吸引系統是先從遠離中央位置的第1 吸引系統(7a)進行吸附之後，才從該處同時往中央部及往周邊部之第2 吸引系統(7b)，進行吸附保持，因此證據3 的吸附處理方式完全與系爭專利請求項7 不同，且該差異亦非熟悉該項技術者可輕易思及。
２、證據3 、7 組合無從否定系爭專利請求項7 具進步性：
證據7 係對於已發生撓曲之基板進行校正使成為平面之技術，與系爭專利請求項7 為了防止在中央部發生殘留應力而從中央部使吸附力作用之技術特徵並不相同，證據7係
將真空吸附系統分為複數區塊，並依據基板的撓曲狀態（如段落0031及圖9 揭示呈段差狀撓曲的例、而段落0034及圖11揭示呈凸狀撓曲的例）變更各區塊的吸附順序，使基板撓曲部分被吸附而伸展。證據7 之說明書[0034]段落及圖11之例示，只是恰巧說明撓曲較多在中央之情形，故從中央開始吸附控制之順序。且系爭專利請求項7 對於吸附面基板之撓曲方向也與證據7 圖11不同。證據7 基板處理裝置之撓曲狀態，主要是將基板以「直立」狀態進行，雖然在段落0043中有提及也可使用於傾斜及水平之狀態，但是並非如系爭專利請求項7 係將吸附板「水平」且「吸附面朝向下方」之實施形態。故因二者之基版面向不同，所面臨需解決之課題自然大不相同。
（四）證據3 與證據4 、5 、6 之組合並無從否定系爭專利請求項7 具進步性：
１、組合證據3 、4 無從否定系爭專利請求項7 具進步性：
證據4 在載置台上基板在凹狀態下被載置之情況時，是從與載置台接觸部分保持。而系爭專利請求項7 雖類似從中央部保持，但是從最遠離上載置台面之中央部由真空吸引保持。再者，證據3與證據4 非相同、相關之技術領域，
其面臨之課題其所欲解決之問題亦不相同，熟悉該項技術者並無動機將二者組合，即便勉強將二者組合亦無法獲得系爭專利請求項7 之發明。
２、組合證據3、5無從否定系爭專利請求項7具進步性：
證據5 雖先從中央部吸附多層印刷板，但隨後，並非直接馬上進行周邊部吸附而是先將中央部抬昇至與周邊部略相同高度之後，才進行周邊部之吸附，且證據5 是為解決多層印刷板之吸附搬送課題而設，而非如證據3 係關於基板貼合之發明，且亦非針對本件液晶等基板之大型化及薄型化課題，因證據5 是以多層印刷板為對象（較厚且較小型），所以沒有問題，但以本件為對象，則可能會有因彎曲過大而導致彎曲殘留，或是因過重而導致中央部分無法保持的問題，證據5 完全無需且未考量到此問題解決方式。其次，證據3 與證據5 非相同、相關之技術領域，其面臨之課題及所欲解決之問題亦不相同，熟悉該項技術者並無將證據5 與證據3 組合之動機，且原告亦無敘明要將證據5 與證據3 如何組合。即使勉強將證據3 及證據5 組合，因證據3 及證據5 均無揭露系爭專利請求項7 之技術內容，當然亦無法獲致功效。
３、組合證據3、6無法否定系爭專利請求項7具進步性：
證據6 係從與載置台面接觸之玻璃基板中央部分吸引。而系爭專利請求項7 則是先吸引最遠離上載置台面之位置中基板中央部之後，將周邊部吸引保持。是證據6 雖是從中央部吸引，但其動作、構成與系爭專利請求項7 顯然相異。其次，證據6 是在本件發明的下載置台將基板保持情況之發明，在系爭專利下基板具有彎曲狀態下被載置在載置台上的情況時將彎曲去除保持。即證據6 係從與載置台面接觸的部分真空吸引，而未如系爭專利進行從最遠離載置台面的部分吸引。即使將證據3 、6 組合也無法獲至系爭專利請求項7 之功效而否定其進步性。
（五）聲明：原告之訴駁回。
五、本院之判斷：
（一）系爭專利申請日為92年2 月7 日，主張優先權日為91年7
月19日，核准日期則為93年6 月21日，故系爭專利是否具備可專利要件，應依核准審定時有效之90年10月24日施行之專利法為斷。而按凡可供產業上利用之發明，無下列情事之一者，得依本法申請取得發明專利：一、申請前已見於刊物或已公開使用者。但因研究、實驗而發表或使用，於發表或使用之日起六個月內申請專利者，不在此限。二、申請前已陳列於展覽會者。但陳列於政府主辦或認可之展覽會，於展覽之日起六個月內申請專利者，不在此限。發明係運用申請前既有之技術或知識，而為熟習該項技術者所能輕易完成時，雖無前項所列情事，仍不得依本法申請取得發明專利，系爭專利核准審定時之專利法第20條第1 項、第2 項定有明文。查原告於95年12月28日提出證據3 至6 ，以本件「基板組裝裝置」發明專利請求項7 違反核准審定時專利法第20條第1 項第1 款及第2 項之規定；請求項1 、2 、8 違反核准審定時專利法第20條第2 項之規定，對之提起舉發，嗣參加人於96年3 月15日更正請求項1 之申請專利範圍，經被告依更正本審查為「舉發不成立」之審定。原告不服，認上開專利請求項有違核准審定時專利法第20條第2 項之規定，提起訴願，經經濟部訴願審議委員會以相同理由駁回訴願，原告仍未甘服，向本院提起行政訴訟，惟僅爭執上開專利請求項1 、2 、7 之部分，對系爭專利請求項8 則不再爭執（見本院卷第123 頁），並於本院審理時另提出證據7 即87年7 月4 日公開之日本特開平00000000號專利案，主張以上開不同證據組合作為系爭專利請求項1 、2 、7 不具進步性之理由。按關於撤銷專利權之行政訴訟中，當事人於言詞辯論終結前，就同一撤銷理由提出之新證據，智慧財產法院仍應審酌之，智慧財產案件審理法第33條第1 項定有明文。本件原告於本院審理時所提之證據7 係用以證明系爭專利不具進步性，核係就同一撤銷理由提出之新證據，本院自應予以審酌。故本件爭點應為原告所舉上開證據組合是否能證明系爭專利係運用申請前既有之技術或知識，而為熟習該項技術者所能輕易完成者。
（二）經查依據96年3 月15日之更正本，系爭專利申請專利範圍更正後仍為8 項，其中請求項1 、4 、5 、7 、8 為獨立項，其餘為附屬項。原告係對請求項1 、2 、7 提起本件訴訟，其請求項1 申請專利範圍為：一種基板組裝裝置，是針對具有用來形成減壓氣相的箱室、及在前述箱室內把持上基板且構成為能往上下移動之加壓板、及與把持在前述加壓板之上基板成對向而隔有間隔把持下基板之基板把持載置台，驅動前述基板把持載置台，進行前述上基板與下基板之位置對準，往上下驅動前述加壓板，縮小基板間的間隔，用設在前述基板的其中一者之粘接劑，在減壓氣相中進行貼合之基板組裝裝置，其特徵為：為了使前述上基板把持在前述加壓板而具備有用負壓之複數個吸引孔，前述複數個吸引孔當中，加壓板中央部旁邊及其周圍的吸引孔設在具備上下移動機構之複數個吸盤，使前述上下移動的吸盤下降並把持前述上基板後，後退至前述加壓板的基板保持面為止並由朝前述吸引孔及吸盤供給之負壓來把持前述上基板。請求項2 申請專利範圍：如申請專利範圍第1 項之基板組裝裝置，其中前述複數吸盤設在加壓板中央部旁邊。請求項7 申請專利範圍：一種基板組裝方法，是針對在真空箱室內上下隔著間隔使2 片基板相對向而利用吸引分別把持在上下的載置台，進行位置對準，經縮小兩基板的間隔，用設在其中一者的基板之粘接劑，進行兩基板的貼合之基板組裝方法，其特徵為：當基板把持在前述上側載置台時，從前述基板的中央部開始使吸持力作用（主要圖式見附表一）。
（三）次查證據3 係89年11月7 日公開之日本特開00000000000
號專利（主要圖式見附表二）；證據4 係84年3 月3 日公開之日本特開平7-58191 號專利（主要圖式見附表三）；證據5 係86年4 月15日公開之日本特開平00000000號專利（主要圖式見附表四）；證據6 係84年7 月21日公開之日本特開平00000000號專利（主要圖式見附表五）；證據7
係87年4 月7 日公開之日本特開平00000000號專利（之新證據，主要圖式見附表六）。上開證據之公告日均早於系爭專利優先權日即91年7 月19日，雖參加人辯稱證據4 、5 非相關技術領域，吸盤構件之目的亦不相同云云，惟查證據4 、5 均係與電路基板有關之技術，應屬相關技術領域，均得作為判斷系爭專利是否不具進步性之先前技術。（四）證據3 、4 、5 之組合可否證明系爭專利請求項1 、2 不具進步性？
１、證據3 係一種將反相沒有損壞兩基板以高精密度貼合作為提供液晶表面製造裝置。在具有已注入液晶材料（2 ）之下基板（3 ）塗佈黏著劑（1 ）放置於真空容器（C ）中，使上、下基板（3 ）（6 ）兩者一同移動、或僅有其一基板向另一基板移動並使兩基板靠近黏著一起，本發明係藉複數個吸著系統（7a、7b）提供吸著機構（7 ）吸引及固定相對於下基板（3 ）方向相反之上基板（6 ）於大氣境，避免破損上基板（6 ）。
２、證據4 為提供一吸引晶圓工作台，該工作台係承載晶圓，如果該晶圓扭曲時，可修正並使晶圓平坦。工作台（11）具有複數貫孔（13）藉由真空管路（14）進接至真空泵（15 ） ，每個真空管路設有電磁單向閥（16a 至16g ），依據晶圓扭曲處可由控制部（17）進行獨立控制上述電磁單向閥（16a 至16g ），即使基板一開始被吸附時就已扭曲，工作台能夠持續吸引晶圓。
３、證據5 係為運送大量多層印刷電路板在升降台，在藉由分別在中央及週邊處不同高度位置吸著多層印刷電路板。中央部設有垂直氣壓缸（9 ）包括一吸盤（11），用來吸著多層印刷電路板中央部，以及週邊處設有垂直氣壓缸（10）及吸盤（12），為避免沿著軌道（14）行進時干涉，中央部之氣壓缸（9 ）之垂直行程相較於設置週邊部之氣壓缸（10）之垂直行程為大。
４、系爭專利參照系爭專利說明書第7 頁【發明內容】本發明之目的為提供即使基板大型化也能有良好精度把持基板，又能有高精度且高速下進行貼合的高生產性之基板組裝裝置。為了達成上述目的，本發明是針對具有裝設用來形成減壓氣相的真空室、及一者的基板把持在前述真空室內且構成為能往上下移動之加壓板（上側載置台）、及與把持在前述加壓板上的基板成對向隔有間隔把持他者的基板之基板把持載置台（下側載置台）、及驅動前述基板把持載置台，進行前述一者的基板與他者的基板之位置對準，往上下驅動前述加壓板而縮小基板間的間隔，利用設在前述基板任何一者之粘接劑在減壓氣相中進行貼合之基板組裝裝置，其特徵為：為了將基板把持在加壓板上而加設用負壓的複數個吸引孔、及複數個靜電吸持機構，加壓板設有可上下作動之複數個可動式吸盤。
５、比對證據3 、4 、5 與系爭專利請求項1 ，證據3 段落【0007】、【0008】所載，及對照圖9 所示，證據3 製造液晶面板之裝置及方法，包括有一真空容器C （相當於系爭專利請求項1 之具有用來形成減壓氣相的箱室），在該真空容器內設置可上下移動之吸著機構19可吸著上基板12，縮小上、下基板間間隔（相當於系爭專利請求項1 之在前述箱室內把持上基板且構成為能往上下移動之加壓板），在該真空容器C 相對於吸著機構19設置一可水平方向移動載置台17並可放置下基板11（相當於系爭專利請求項1 之把持下基板之基板把持載置台），在下基板11有黏著劑14（相當於系爭專利請求項1 之用設在前述基板的其中一者之粘接劑），該吸著機構19上設有產生負壓之複數吸引孔（相當於系爭專利請求項1 之前述上基板把持在前述加壓板而具備有用負壓之複數個吸引孔）。惟系爭專利請求項1 之複數個吸引孔當中，加壓板中央部旁邊及其周圍吸引孔設在具備上下移動機構之複數個吸盤，證據3 吸著機構19僅設有產生負壓之複數吸引孔，並未設有具備上下移動機構之複數個吸盤，故證據3 無法達成系爭專利請求項1
之上下移動的吸盤下降並把持上基板後，後退至加壓板的基板保持面為止並由朝吸引孔及吸盤供給之負壓來把持上基板，去除畸變而平坦地把持基板之功效。
６、證據4 段落【0019】所載，參照圖7 、圖8 所示當載台21上裝載彎曲成凸狀之晶圓34，…晶圓夾頭25a ～25d 會上升。各晶圓夾頭25a ～25d 抵接晶圓34之且對應彎曲之位置停止。電磁閥開啟晶圓夾頭25a ～25d 吸附晶圓34後下降，使晶圓34平坦附在載台上。證據5段落【0008】所載
，將多層印刷電路板中央部以中央部上下動作用汽缸之中央部吸附用吸附墊吸附後，使吸附墊上升至與周邊部相同高度。接著，以周邊部上下動作用汽缸之周邊部吸附用吸附墊來吸附多層印刷板周邊部，藉此可將該多層印刷板保持為幾乎水平之狀態。惟證據4之目的係為矯正晶圓撓曲
，且證據4 之晶圓夾頭與系爭專利請求項1 之吸盤，兩者結構不同，另證據4 之晶圓夾盤是朝基板重力方向吸附，不同系爭專利請求項1 之吸盤朝重力反方向吸引基板。其次，證據5 係藉由行程不同之吸盤吸附印刷電路板進行水平搬運，該吸盤並未具有負壓吸引，故證據4 、5 之吸附結構均不同於系爭專利請求項1 之吸盤構造及功效。
７、從而，證據3 未揭示系爭專利請求項1 之吸盤；另證據4
揭示之晶圓夾頭，及證據5 揭示之吸盤，均與系爭專利請求項1 之吸盤不同；是證據3 、4 或5 之組合、或證據3
、4 、5 之組合，尚不能證明系爭專利請求項1 不具進步性。系爭專利請求項2 係依附於請求項1 之附屬項，並進一步敘明其所引用請求項外之技術特點，而證據3 、4 或5 之組合、或證據3 、4 、5 之組合不能證明系爭專利請求項1 不具進步性，已如上述。準此，證據3 、4 或5 之組合、或證據3 、4 、5 之組合自亦不能證明系爭專利請求項2 不具進步性。
（五）證據3 可否證明系爭專利請求項7 不具進步性？
比對證據3 與系爭專利請求項7 ，證據3 製造液晶面板之裝置及方法，包括有一真空容器C ，在該真空容器內設置可上下移動之吸著機構19可吸著上基板12，縮小上、下基板間間隔，進行兩基板的貼合，在該真空容器C 相對於吸著機構19設置一可水平方向移動載置台17並可放置下基板11（相當於系爭專利請求項7 之針對在真空箱室內上下隔著間隔使2 片基板相對向而利用吸引分別把持在上下的載置台，進行位置對準，經縮小兩基板的間隔，用設在其中一者的基板之粘接劑，進行兩基板的貼合之基板組裝方法），在下基板11有黏著劑14（相當於系爭專利請求項7 之用設在其中一者的基板之粘接劑），及該吸著機構19上設有產生負壓之複數吸引孔。惟證據3 吸著機構19僅設有產生負壓之複數吸引孔，未揭示該複數吸引孔係從基板的中央部開始使吸持力作用，是證據3 無法達成系爭專利請求項7 去除畸變而平坦地把持基板之功效。準此，單以證據3 並不能證明系爭專利請求項7 不具進步性。
（六）證據3 、7 之組合可否證明系爭專利請求項7 不具進步性？
１、證據7 係一種避免損害圖案或造成基板破壞之吸著基板方法，係將吸引平台分割成複數個區塊A 、B 、C ，吸著口（5 ）分別座落在上述區塊中，各別依區塊連接排氣管（15a 、15b 、15c ），除此，每一個區塊設有真空感應器（20a 、20b 、20c ）及閥（30a 、30b 、30c ），上述真空感應器以及閥藉由CPU 控制吸引、釋放，可單獨依各區塊A 、B 、C 設定時間吸引、釋放，如此可以避免產生損壞圖案或造成基板（10）破壞。
２、比對證據7 與系爭專利請求項7 ，證據7 段落【0034】所載，及參照圖11所示該基板之中央部有凸狀翹曲之情形。證據7 係將真空吸附系統為複數區塊，依據基板撓曲狀態變更各區塊之吸附順序，使基板撓曲部分被吸附而延展。首先由基板10之中央部（B 區塊）開始吸附。……接著正常進行B 區塊之吸附後，其次進行A 區塊，C 區塊亦正常進行吸附後，則基板全面進行吸附。證據7 係先將基板垂直吊置時，再由基板載台垂直方向吸附，系爭專利請求項7 則將基板水平吸附於上側載台，是證據7 垂直吸附基板時所承受基板重力方向不同系爭專利請求項7 之水平吸附基板。惟證據7 由基板10之中央部（B 區塊）開始吸附。……接著正常進行B 區塊之吸附後，其次進行A 區塊，C
區塊亦正常進行吸附後，則基板全面進行吸附，業已揭露系爭專利請求項7 之特徵為「從前述基板的中央部開始使吸持力作用」。再者，證據3 固未揭示該吸著機構之吸附順序係由中央部分開始使吸持力作用，已如上述，然證據7既已揭示系爭專利請求項7 其特徵為「從前述基板的中
央部開始使吸持力作用」，則證據7 之吸附系統可供熟習該項技術者輕易思及轉用至證據3 之真空容器上側載台，並克服其間存有之差異而產生組合之動機。準此，證據3
、7 之組合可證明系爭專利請求項7 不具進步性。
３、參加人雖辯稱：證據7 之吸附系統並非以中央部開始吸附基板，不同系爭專利請求項7 其特徵為「從前述基板的中央部開始使吸持力作用」，因此證據3 、7 之組合不能否定系爭專利請求項7 具進步性等語。惟原告所主張證據7
說明書段落【0034】圖11所示，該吸附系統確實由基板10之中央部（B 區塊）開始吸附。……接著正常進行B 區塊之吸附後，其次進行A 區塊，C 區塊亦正常進行吸附後，則基板全面進行吸附。是參加人僅係就證據7 部分揭示，則其執此逕認證據7 未揭示系爭專利請求項7 之技術特徵，尚無可採。
（七）證據3 、6 之組合可否證明系爭專利請求項7 不具進步性？
１、證據6 係使整個表面大片玻璃基板著實穩態固定在工作載台上，複數個方形吸引溝（21a 至21d ），相對於大片玻璃基板之中心點O 並依適當距離對稱排列於工作載台表面，玻璃基板（11）放置工作載台（2 ）上，由中心吸引溝（21a ）開始，並以一適當時間差δt 依序吸引（21b 、21c 、21d ），使整個玻璃基板表面完全附著在工作載台上，以及避免產生位置誤差，同時對焦達成精準曝光形成光罩圖案。
２、比對證據3 、6 與系爭專利請求項7 ，證據6 段落【0006】所載，以及參照圖1 （a ）所示，從中央部朝周邊將四角形狀的溝由預定的間隔配置台面且在溝內各別設置4 個負壓供給口，可將溝內成為負壓狀態，藉由從載置台面中心側之吸引溝依序朝外側具有適當時間延遲地供給負壓而將上方彎曲的玻璃基板吸引。比對系爭專利請求項7 ，證據6 將基板水平放置載台後，由載置台面中心側的吸引溝依序朝外側具有適當時間延遲供給負壓而將上方彎曲的玻璃基板吸引，系爭專利請求項7 係將基板水平吸附於上側載台，是證據6 吸附基板時所承受基板重力方向不同系爭專利請求項7 之水平吸附基板。惟證據6 載置台面中心側之吸引溝依序朝外側具有適當時間延遲供給負壓，而將上方彎曲之玻璃基板吸引，已揭露系爭專利請求項7 特徵為「從前述基板的中央部開始使吸持力作用」。則證據3 雖未揭示該吸著機構之吸附順序係由中央部分開始使吸持力作用，但證據6 既已教示系爭專利請求項7 其特徵為「從前述基板的中央部開始使吸持力作用」，是證據6 之吸附系統可供熟習該項技術者輕易思及轉用至證據3 之真空容器上側載台，並克服其間存有之差異而產生組合之動機。準此，證據3 、6 之組合可證明系爭專利請求項7 不具進步性。
（八）證據3 、4 、5 、6 之組合可否證明系爭專利請求項7 不具進步性？
比對證據3 、4 、5 、6 與系爭專利請求項7 ，證據3 、4 之組合、或證據3 、5 之組合不能證明系爭專利請求項7 不具進步性，惟證據3 、6 之組合可證明系爭專利請求項7 不具進步性，已如上述，準此，證據3 、4 、5 、6
之組合亦可證明系爭利請求項7 不具進步性。
六、綜上所述，原告所提證據，尚不足以證明系爭專利請求項1、
2 不具進步性，惟證據3 、7 之組合或證據3 、6 之組合，抑或證據3 、4 、5 、6 之組合則足以證明系爭專利請求項7 不具進步性，而有違系爭專利核准審定時有效之專利法第20條第2 項規定。惟按依據行政程序法第102 條之規定，行政機關作成限制或剝奪人民自由或權利之行政處分前，除已通知處分相對人陳述意見外，應給予該處分相對人陳述意見之機會。本件原告於舉發階段，僅主張系爭專利第1 、2 、7 、8 項不具專利要件，而於本院審理時係請求撤銷專利權之審定，惟查系爭專利請求項共8 項，依據原告所提證據，僅能證明獨立項7 有不具進步性之理由，揆諸前開法律規定，被告於作成限制或剝奪參加人專利權前，應給予參加人表示意見之機會，惟本件因被告對請求項7 之判斷有誤，故原告所為舉發不成立之審定，雖有未冾，訴願決定未及糾正，亦非妥適。原告據此請求撤銷訴願決定及原處分為有理由，應予准許。然因本件事證尚未臻明確，且涉及行政機關依行政程序法第102 條通知參加人表示意見後之裁量決定，應依行政訴訟法第200 條第4 款之規定，由被告依本判決之法律見解另為適法之處分，故原告請求判命被告應為舉發成立，撤銷專利權之部分，難認有理由，應予駁回。
七、本件事證已明，兩造其餘主張或答辯，已與本院判決結果無涉，爰毋庸一一論列，併此敘明。
據上論結，本件原告之訴為一部有理由，一部無理由，依智慧財產案件審理法第1 條、行政訴訟法第200 條第4 款、第104 條，民事訴訟法第79條，判決如主文。
中　　華　　民　　國　　100　 年　　11 　 月　　17　　日智慧財產法院第二庭
審判長法 官　陳忠行
法 官　林洲富
法 官　熊誦梅
以上正本係照原本作成。
如不服本判決，應於送達後20日內向本院提出上訴狀並表明上訴理由，如於本判決宣示後送達前提起上訴者，應於判決送達後20日內補提上訴理由書（須按他造人數附繕本）。
中　　華　　民　　國　　100　 年　　11　　月　　25　　日書記官 陳士軒