資料來源：司法院法令判解系統
貴轄○○股份有限公司台中分公司函詢固定污染源製程為半導體，其排放之污染物濃度遠低於排放標準是否需設置空氣污染防制設施疑義案
要旨
貴轄○○股份有限公司台中分公司函詢固定污染源製程為半導體，其排放 之污染物濃度遠低於排放標準是否需設置空氣污染防制設施疑義案，請查 照。
內文
主 旨：貴轄○○股份有限公司台中分公司函詢固定污染源製程為半導體，其排放之污染物濃度遠低於排放標準是否需設置空氣污染防制設施疑義案，請查照。
說 明：一、依空氣污染防制法第 23 條規定，公私場所應有效收集各種空氣污染物，並維持其空氣污染防制設施或監測設施之正常運作；其固定污染源之最大操作量，不得超過空氣污染防制設施之最大處理容量。業已明定公私場所應有效收集、處理其產生之各類空氣污染物，以確保其所排放之空氣污染物，不致對污染源周遭環境產生直接影響。另依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 4 條規定，半導體製造業產生之空氣污染物應由密閉排氣系統導入污染防制設備，並處理至符合該條表列之規定後始得排放。
二、有關貴轄○○公司台中分公司函提其排放之污染物濃度遠低於排放標準，是否需設置空氣污染防制設施有疑義一節，該公司仍應符合前揭規定，惟倘既存固定污染源排放各類空氣污染物，其排放管道及周界皆符合排放標準或因空間限制無法裝設空氣污染防制設施等特殊情形，則應檢具無法設置理由及不會造成污染環境之替代方案，以及相關證明資以及相關證明資料送貴局審查，經認可後辦理。本案請貴局依該公司實際操作狀況，本權責查明後逕復該公司。
