1智慧財產法院民事判決

3原告弘塑科技股份有限公司

4

5法定代理人張鴻泰

6訴訟代理人王鳳儀律師

7蔡政生

8被告辛耘企業股份有限公司

9

10兼法定代理人謝宏亮

11共同

12訴訟代理人顧念妮律師

13馮博生律師

14複代理人陸希佳律師

15輔佐人葉仲康

16

17馮傳彰

18高周業

19紀佩君

20上列當事人間排除侵害專利權等事件，本院於106年6月12日言

21詞辯論終結，判決如下：

22主文

23原告之訴及假執行之聲請均駁回。

24訴訟費用由原告負擔。

25事實及理由

26一、原告聲明求為判決：被告辛耘企業股份有限公司（下稱辛

27耘公司）應停止自行或使他人製造、為販賣之要約、販賣、

11使用或為上述目的而進口「12吋單晶圓旋轉清洗機」及其他

2任何侵害原告中華民國證書號第200871號「單晶圓旋轉蝕刻

3清洗機台之流體收集裝置」發明專利（下稱系爭專利）之行

4為。被告辛耘公司應將侵害系爭專利之物品銷毀。被告

5辛耘公司、謝宏亮應連帶給付原告新台幣（下同）4,000萬元

6，及自起訴狀繕本送達翌日起至清償日止，按年息百分之5

7計算之利息。原告願供擔保，請准宣告假執行。訴訟費

8用由被告等連帶負擔。並主張略以：

9被告辛耘公司自民國103年7、8月間，開始向原告之客戶販

10售其所製造之「12吋單晶圓旋轉清洗機」（下稱系爭產品）

11，經鈞院裁定准予至被告辛耘公司為證據保全，於104年11

12月4日在被告辛耘公司廠房發現確有系爭產品，有保全證據筆

13錄、拍攝照片、錄影資料及規格書、使用手冊等文件附於證據

14保全卷內，足徵被告辛耘公司確實在我國有製造系爭產品之行

15為。系爭產品業已侵害系爭專利請求項1至5及7（詳後述

16），而原告本有將所申請核准之專利，公告於公司網站上，並

17標明各項專利係用於何機台上（原證6），被告辛耘公司銷售

18系爭產品前，未盡查證之注意義務與疏於掌控侵權風險，足認

19其就侵害系爭專利權應有重大過失。爰依專利法第96條第1

20項至第3項、民法第184條第1項前段、第185條及公司法

21第23條第2項等規定，請求被告等排除侵害並連帶賠償損害

224000萬元【計算式：（單價約2700萬元－製造成本約1900

23萬元）×5台＝4,000萬元】。

24系爭產品除流體洩出口外，其餘技術特徵皆落入系爭專利請求

25項1之文義範圍（即僅「該旋轉蝕刻槽之周緣並設有一流體

26洩出口」、「並具有一徑向開口(40)，可與該旋轉蝕刻槽之流

27體洩出口相通，以收集由該洩出口流出之流體」之文義未讀取

21），且系爭產品具有流體洩出口之均等結構落入系爭專利請求

2項1至5、7之均等範圍：

3被告等於106年2月15日民事陳述意見狀中表示，系爭

4產品除流體洩出口外，其餘作動特徵不予爭執，故系爭產品

5除「該旋轉蝕刻槽(60)之環壁(62)上方設有一環狀流體洩出

6口(70)」的技術內容未為系爭專利請求項1所文義讀取外，

7其餘內容都已被文義讀取。

8系爭專利請求項1之流體洩出口界定為：「該旋轉蝕刻槽之

9周緣並設有一流體洩出口」及「收集單元，…具有一徑向開

10口，可與該旋轉蝕刻槽之流體洩出口相通，以收集由該洩出

11口流出之流體」，是在旋轉蝕刻槽與晶圓高度大致相同的槽

12壁開設環狀洩出口，用以接收晶圓旋轉時因離心力而甩出的

13液體。而系爭產品雖未具體在旋轉蝕刻槽(60)之周緣開設環

14狀的流體洩出口，亦即無法直接文義讀取系爭專利之「流體

15洩出口」，在圖面上系爭產品之各個開口T1、T2、T3、T4

16看似斜向，但實際上收集單元(401、402、403、404)均為環

17狀，各個開口均朝著環的徑向（朝向圓心即晶圓W）而開

18，具備系爭專利請求項1「收集單元，…具有一徑向開口，

19可與該旋轉蝕刻槽之流體洩出口相通，以收集由該洩出口流

20出之流體」的特徵，也是在旋轉蝕刻槽(60)之環壁(62)上方

21與晶圓（W）高度大致相同的環狀區域定義出「環狀流體洩

22出口(70)」，同樣係用以接收晶圓旋轉時因離心力而甩出的

23液體，由於重力作用，甩出的液體只會朝水平及朝下飛濺，

24因此系爭產品未在旋轉蝕刻槽之周緣「中」設流體洩出口，

25而在旋轉蝕刻槽之環壁「上方」設流體洩出口，係為本發明

26所屬領域中具有通常知識者所能輕易完成者，故二者手段實

27質相同。被告主張系爭產品沒有流體洩出口或均等元件云云

31，惟若系爭產品在收集單元(401、402、403、404)和旋轉蝕

2刻槽(60)之間沒有如系爭專利界定之流體洩出口的均等結構

3，實不知系爭產品處理晶圓之流體是如何流到上開收集單元

4，故系爭產品與系爭專利應均有流體洩出口，只是位置不同

5而已，二者為實質相同的技術手段，皆為構成一不會使回收

6流體交叉污染的流體通道。

7系爭產品之「環狀流體洩出口(70)」與系爭專利請求項1之

8「流體洩出口」的功能均為與「收集單元」之開口相通時，

9接收晶圓W旋轉時因離心力而甩出的液體；系爭專利係透

10過在旋轉蝕刻槽周緣開設流體洩出口，達到系爭專利說明書

11第10頁第一段所記載「各個收集槽之間及收集槽與蝕刻

12槽的壁面之間可緊密接觸，使化學品不易滲漏至其他收集槽

13，避免交叉污染。即使於低速下旋轉蝕刻，亦不影響流體

14收集」之效果，而從系爭產品之圖面及照片可知，當該第一

15收集單元(401)下降至環狀洩出口(70)底部(702)時，可和該環

16壁(62)的外緣(622)密封接合，而不會在第二收集單元(402)收

17集時，因轉速低使得液體流到第一收集單元(401)而造成交

18叉污染和影響流體收集，當由第三、第四收集單元(403、40

194)回收處理液體時也有相同效果，與系爭專利產生的結果相

20同。故系爭產品之環狀流體洩出口(70)無論在手段、功能和

21結果皆與系爭專利之流體洩出口實質相同，已落入系爭專利

22請求項1之均等範圍。

23被告等於104年9月21日舉發理由書第4頁指出：「證據

242圖13至15在晶圓回轉保持裝置10周圍具有空間，可連

25通至廢液回收機構50的環狀廢液回收導管64、66、68，以

26供混合酸進入廢液回收管70、72、74」，據以主張系爭專

27利之流體洩出口為該前案所揭示，而系爭產品之晶圓固定單

41元30周圍亦具有空間，連通至流體收集裝置40的環狀收集

2單元，是依被告上開主張，系爭產品同樣具有流體洩出口。

3被告辛耘公司自承系爭產品係依其所有中華民國公告第M50

45052號「流體製程處理裝置」專利（下稱被告專利）所製

5造，據被告專利第4圖所載與證據保全時之型號POLAR30

604之結構相同，其揭示第一收集環411和阻隔模組44之側

7環442（相當系爭專利的旋轉蝕刻槽）密封，達成防止交叉

8污染的效果。就此，與系爭專利實施例所要解決之問題相同

9，二者僅在流體洩出口的位置有所不同，然此種變化為結構

10上的簡單改變，為習於此技之人士可輕易思及，故系爭產品

11為系爭專利請求項1的均等範圍所涵蓋。

12被告等辯稱本件有擴及先前技術、申請歷史禁反言而生阻卻

13均等論云云，並不可採：

14系爭專利說明書第2圖雖揭示「槽壁(10)可密封位於流體

15洩出口(11)上或下收集單元，以防止收集單元的交叉污染

16」，並不意味此一圖式必須讀入申請專利範圍或系爭專利

17在均等論下不能有適當之擴大範圍，與系爭專利最相關之

18先前技術即中華民國公告第504776號專利（下稱舉發證

19據2）並未揭示有旋轉蝕刻槽位在流體收集單元(64、66、

2068)之內（參第12、13圖），故系爭專利請求項1在均等

21論下將「旋轉蝕刻槽之周緣設有流體洩出口」擴大至「旋

22轉蝕刻槽之上方設有流體洩出口」並未擴及先前技術；又

23原告在舉發答辯理由書第19頁係指出系爭專利之實施例

24所能解決產業遇到的問題，此與系爭專利之可專利性並無

25關連，原告僅修正原申請專利範圍中的用語使其一致，完

26全未變更或限縮其實質主張範圍，亦未將「槽壁(10)可密

27封位於流體洩出口(11)上或下收集單元」等限制加入申請

51專利範圍之更正中，而係主張系爭專利並未界定蝕刻清洗

2槽，只需具有上或下槽壁即可，自當不會影響原告所主張

3系爭專利請求項1之流體洩出口的均等範圍，被告等藉此

4稱原告已放棄不具上槽壁之態樣，實係對申請歷史禁反言

5的過度解釋。

6經濟部智慧財產局（下稱智財局）於系爭專利舉發審定書

7第6頁第27行至第7頁第2行及第7頁第21行至第28

8行所作之說明，僅係針對舉發證據2、3並不具系爭專利

9請求項1之旋轉蝕刻槽，因此系爭專利請求項1相對於舉

10發證據2、3具有可專利性，被告等以此稱智財局業已認

11定舉發證據2、3以及習用技藝並未揭示系爭專利請求項

121之「旋轉蝕刻槽」的「上、下槽壁」技術特徵，實係扭

13曲該舉發審定書之原意，且智財局亦未進一步限制系爭專

14利之流體洩出口必須如系爭專利實施例所示之結構，而不

15能涵蓋一均等的結構。

16再者「槽壁(10)可密封位於流體洩出口(11)上『或下』收

17集單元」之文義，亦包括系爭產品旋轉蝕刻槽(60)密封位

18於環體洩出口(70)下之收集單元(401)之態樣，無論智財局

19之舉發審定書或訴願決定書皆未提及系爭專利係因「槽壁

20(10)可密封位於流體洩出口(11)上或下收集單元，以防止

21收集單元的交叉污染」，而相對於舉發證據2、3具有可

22專利性，由此益見，原告在舉發答辯理由書第19頁所提

23及之「槽壁可密封位於流體洩出口上或下收集單元」，與

24系爭專利之可專利性並無關連，自當不會影響原告所主張

25系爭專利請求項1「流體洩出口」之均等範圍。

26由系爭產品之圖面及照片可知第一收集單元(401)係環形，

27落入系爭專利請求項2之均等範圍；第二收集單元(402)之

61徑向開口(T2)之頂部可自該環狀洩出口(70)之底部(702)上升

2，且當第一收集單元(401)之承接口之頂部下降至該環狀洩

3出口(70)之底部(702)時，可使第二收集單元(402)之徑向開口

4(T2)與該環狀洩出口(70)相通，以收集該環狀洩出口(70)流出

5之流體，落入系爭專利請求項3之均等範圍；第二收集單元

6(402)係環形，落入系爭專利請求項4之均等範圍；第一收

7集單元(401)和第二收集單元(402)同時位於上升或下降位置

8時，其徑向開口(T1、T2)之頂部均緊密接觸，落入系爭專利

9請求項5之均等範圍；系爭產品有4個收集單元(401、402

10、403、404)，落入系爭專利請求項7之均等範圍。

11有關原告就系爭專利有效性部分之主張，詳見原告105年6

12月30日民事爭點整理狀，茲不贅述。

13二、被告等答辯聲明：原告之訴及假執行之聲請均駁回。訴

14訟費用由原告負擔。如受不利判決，被告願以現金、同面

15額之銀行可轉讓定期存單、其他等值之有價證券或銀行保證

16書供擔保，請准宣告免為假執行。並辯稱略以：

17系爭產品係依據自行研發、改良之被告辛耘公司專利所實施（

18被證3），並未落入系爭專利範圍（詳後述），且原告自承未

19於所產製之機台上標示系爭專利證號，復未舉證證明被告辛耘

20公司明知或可得而知為專利物，自不得請求損害賠償，另原告

21空言泛稱系爭產品之單價約為2700萬元、製造成本約為1900

22萬元、每台可得之利益為800萬元云云，並無任何證據以實其

23說，亦非可採。

24原告自承其侵權比對基準並非基於系爭產品「實物」，自無從

25作為系爭產品侵害系爭專利之證據，況原告之比對存有諸多謬

26誤，毫無參考價值：

27被告對於系爭產品有系爭專利請求項1之「一升降機制，連

71設於每一收集單元」；系爭專利請求項2之「第一收集單元

2係環狀」；系爭專利請求項3之作動技術特徵1「該第二收

3集單元並連設於一升降機制，使該第二收集單元之徑向開口

4之頂部可自該洩出口之底部上升」，及作動技術特徵2「且

5當該第一收集單元之承接口之頂部下降至該洩出口之底部時

6，可使該第二收集單元之徑向開口與該旋轉蝕刻清洗槽之流

7體洩出口相通，以收集由該洩出口流出之流體」中，除系爭

8產品並無「流體洩出口」以外之其餘作動技術特徵；系爭專

9利請求項4之「第二收集單元係環狀」；系爭專利請求項5

10之作動技術特徵3「於該第一收集單元及該第二收集單元同

11時位於上升或下降位置時，與該第一收集單元之徑向開口之

12頂部緊密接觸」；系爭專利請求項7之「收集單元可多於二

13個」等部分之技術特徵，並不爭執。

14系爭專利請求項1之「旋轉蝕刻清洗槽」係限定應同時具有

15「下槽壁」及「上槽壁」：

16系爭專利請求項1並未記載「旋轉蝕刻清洗槽」之具體結

17構，僅以功能性用語敘述該旋轉蝕刻清洗槽「可固定及旋

18轉一晶圓，使該晶圓可於蝕刻液中進行蝕刻」，綜觀系爭

19專利說明書整體內容及圖式第2、2A、3、4圖可知，該

20旋轉蝕刻清洗槽需同時具有「下槽壁」（可由收集單元4

210、50至少一者位於下降位置時，旋轉蝕刻清洗槽10之

22槽壁密合處於該下降位置者之徑向開口頂部得知，如圖式

23第3、4圖）及「上槽壁」（可由收集單元40、50至少一

24者位於上升位置時，旋轉蝕刻清洗槽10之槽壁密合處於

25該上升位置者之徑向開口頂部得知，如圖式第2、3圖）

26，並以「上、下槽壁」之間的開口定義環設於槽壁之「流

27體洩出口11」。

81基於「申請專利範圍之請求項差異化原則」，系爭專利請

2求項1、3應與請求項5有所差異，請求項5業已明定「

3該第二收集單元徑向開口之頂部…，與該第一收集單元之

4徑向開口之頂部緊密接觸」，則請求項1必包含「該第二

5收集單元徑向開口之頂部…，『未』與該第一收集單元之

6徑向開口之頂部緊密接觸」之實施態樣，故系爭專利之旋

7轉蝕刻槽不僅具有「下槽壁」，而應同時具有「上槽壁」

8以防止收集單元的交叉污染。

9原告於104年12月18日舉發答辯理由書第19頁自承：

10「參照被舉發案第2圖所示，旋轉蝕刻清洗『槽壁(10)』

11可密封位於『流體洩出口(11)』上或下收集單元，以防止

12收集單元的交叉污染，且克服了轉速低時液體可能流到下

13降位置的收集單元」（被證6），顯見原告認為「槽壁(10

14)」需密封位於「流體洩出口(11)」上或下收集單元，亦即

15系爭專利請求項1之「旋轉蝕刻清洗槽」係限定應同時具

16有「下槽壁」及「上槽壁」。惟原告於本件侵權比對時，

17卻翻異主張系爭專利請求項1之文字解讀並未限定「流體

18洩出口上部需有槽壁」，其解釋前後矛盾；若謂旋轉蝕刻

19槽可不具有上槽壁，則其各收集單元之徑向開口頂部未彼

20此密合，液體將越過第一收集單元徑向開口頂部而流入第

21二收集單元之徑向開口（此時第一、二收集單元均在上升

22位置），形成交叉污染，亦與原告所稱「以防止收集單元

23交叉污染」之功效不符。

24智財局於105年7月20日對系爭專利之舉發審定書中，

25迭採用系爭專利第2圖之元件10及第2至4圖繪示的「

26旋轉蝕刻槽」，以說明舉發證據2、3以及習用技藝皆無

27法揭示系爭專利請求項1之「旋轉蝕刻槽」的技術特徵（

91被證7），而由舉發證據2揭露其晶圓回轉保持裝置10（

2包含晶圓保持部10a與迴轉軸20）「可容納有一旋轉軸(2

30)之一部以旋轉位在該槽中之一晶圓（W），使該晶圓（

4W）可於蝕刻液中進行蝕刻」，至少已揭露具有「下槽壁

5」（即晶圓保持部10a）之旋轉蝕刻槽，智財局卻仍認定

6其未揭示系爭專利請求項1之「旋轉蝕刻槽」技術特徵，

7顯見係因欠缺「上槽壁」，又訴願決定書亦認定「…證據

82第12圖並未見有頂蓋之設置…其界定之構造特徵與系

9爭專利之流體洩出口係由旋轉蝕刻槽界定之情形有別」（

10原證6），準此，舉發審定書及訴願決定書均認定系爭專

11利「槽壁」限定同時具有「上、下槽壁」之態樣，而具有

12可專利性。

13系爭產品並未落入系爭專利請求項1之文義或均等範圍：

14原告自承系爭產品與系爭專利請求項1所載之「旋轉蝕刻

15槽」、「流體洩出口」技術特徵，其文義比對結果為「不

16相同」（參原告準備書狀附件第5、6頁）。

17承前述，原告於104年12月18日舉發答辯理由書第19

18頁將系爭專利限縮為：旋轉蝕刻清洗槽之「槽壁(10)」可

19與位於「流體洩出口(11)」上或下收集單元密合，亦即限

20定需同時具有「上、下槽壁(10)」方能與位於「流體洩出

21口」上或下收集單元密合，僅有下槽壁而無上槽壁之態樣

22已為原告所放棄而不得再為主張，就此自應有申請歷史禁

23反言之適用，而生阻卻均等論之效果。系爭產品3D圖、

24操作手冊第II-8頁所揭露者僅一「載台」，並無「旋轉蝕

25刻槽」，縱認載台下方之環壁(62)為「旋轉蝕刻槽之下槽

26壁」，但確實無「上槽壁」，而「環狀/流體洩出口(70)」

27僅有下槽壁而無上槽壁之態樣屬原告已明確放棄之範圍，

101自無由構成均等侵害。

2原告稱本件並無申請歷史禁反言之適用云云，惟原告於舉

3發答辯理由書第6頁主張「技術特徵B之該旋轉蝕刻清

4洗槽之周緣（紅線所示）並設有一流體洩出口11，而證

5據2之『中空部H』並無具體之周緣，也無具體之『流體

6洩出口』。因此，證據2未揭露『該旋轉蝕刻清洗槽之周

7緣並設有一流體洩出口』」（被證6），係藉由限縮申請

8專利範圍，進而與證據2區隔，以維持系爭專利請求項1

9之新穎性，故原告已明確放棄了「無具體之周緣，也無具

10體之『流體洩出口』」的權利範圍；又原告於舉發答辯理

11由書第19頁主張「而解決此問題之技術手段，即是採用

12上述區別技術特徵B、C、D之『該旋轉蝕刻清洗槽之周

13緣並設有一流體洩出口』來達成，也就是說，請參照被舉

14發案第2圖所示，旋轉蝕刻清洗『槽壁(10)』可密封位於

15『流體洩出口(11)』上或下收集單元，以防止收集單元的

16交叉污染，且克服了轉速低時液體可能流到下降位置的收

17集單元。相對於證據2及證據3而言，收集旋轉蝕刻清洗

18槽中之流體都僅使用多個回收環透過升降來收集流體，並

19無法克服習知的回收環的交叉污染或者轉速低時液體可能

20流到下降位置的回收環的問題」（被證6），係藉由限縮

21申請專利範圍，進而與證據2、3區隔，以維持系爭專利

22請求項1之進步性，故原告已明確放棄了「旋轉蝕刻清洗

23「槽壁(10)」未與上或下收集單元密封」、「僅使用多個

24回收環透過升降來收集流體」的權利範圍。上開二申復內

25容應有申請歷史禁反言之適用，而生限制均等論之效果。

26且如前述，舉發證據2已揭露具有「下槽壁」之「旋轉蝕

27刻槽」，原告以均等論將系爭專利請求項1旋轉蝕刻槽之

111範圍擴大解釋包括不具上槽壁之態樣，擴及先前技術即舉

2發證據2之旋轉蝕刻槽態樣，亦有先前技術阻卻之適用，

3而生阻卻均等論之效果。

4原告稱系爭產品之「環狀/流體洩出口(70)」與系爭專利

5之「流體洩出口」係以實質相同的方式，執行實質相同的

6功能，而得到實質相同的結果，進而主張兩者均等云云，

7惟查：

8系爭產品3D圖、操作手冊第II-8頁揭露晶圓蝕刻過程

9係施加蝕刻液於一「載台」上的晶圓表面，而非在有具

10體「周緣」之槽體中進行，並無系爭專利請求項1之具

11有「上槽壁」及「下槽壁」的「旋轉蝕刻槽」，自亦無

12環設於「旋轉蝕刻槽」槽壁之「流體洩出口」，原告就

13系爭產品所定義之「環狀/流體洩出口(70)」實際上係

14晶圓載台上、下方環形開放空間，並非一個由槽壁或環

15壁定義的固定構件；系爭產品之晶圓蝕刻液係利用晶圓

16旋轉時之離心力直接甩入各個收集環之開口，繼而流入

17收集環T1、T2、T3、T4中，雖無「流體洩出口」作為

18流體通道，然因其晶圓載台四周為一開放空間，並不妨

19礙晶圓蝕刻液直接甩入收集環之開口，故與系爭專利之

20「流體洩出口」係作為流體通道之技術手段不同。

21系爭專利說明書第6頁記載第1圖之先前技術只能藉由

22離心力（晶圓高速旋轉下）將廢液拋入管中為系爭專利

23待解決之問題；第8、9頁記載本發明之「洩出口11的

24底部不高於載盤21，並與載盤21間以導流板23銜接，

25使流體可沿著導流板23直接由洩出口11流出」、第11

26頁記載「本發明之優點包括即使於低速下旋轉蝕刻，

27亦不影響流體收集」，可見系爭專利係結合有上下槽壁

121之流體洩出口11及導流板23，解決上開「蝕刻必須在

2高轉速下進行」之問題，達成其「流體洩出口」可接收

3晶圓高速旋轉時因離心力甩出之液體，亦可接收晶圓低

4速旋轉時因離心力不足而流出之液體的功能。而系爭產

5品無「環狀/流體洩出口」可接收蝕刻液，於晶圓低速

6旋轉時，蝕刻液因離心力不足而流往載台下方，且因無

7導流板，不同蝕刻液將全數進入底部收集盤（被證5之

8附件4第13頁），並無與系爭專利請求項1之「流體

9洩出口」相同之功能。

10系爭產品既無「環狀/流體洩出口(70)」，自無法達成

11「導引自晶圓（W）上被離心力甩出的流體流到一特定

12收集單元」之結果，且如前述，系爭產品僅有晶圓高速

13旋轉時，各種不同蝕刻液才會因離心力甩入各個收集環

14，達到分類收集不同蝕刻液之功能，但於晶圓旋轉速度

15低、離心力不足時，各種不同蝕刻液均往載台下方流入

16底部收集盤，混合成為廢液，影響分類流體收集之結果

17。縱系爭產品確有避免交叉污染之結果，其技術手段之

18一係以各收集環之頂部彼此密合（被證5號附件4元件

19編號II），不同於系爭專利之技術手段（各收集單元之

20徑向開口頂部未彼此密合，但與流體洩出口之上槽壁緊

21密接觸，見說明書圖2A及第9頁）。至原告稱被告專

22利第4圖第一收集環(411)與阻隔模組(44)的側環(442)

23密封，可達成防止交叉污染的效果云云，然被告專利第

244圖係揭露在低速下旋轉蝕刻時，晶圓蝕刻液無法藉由

25離心力甩入第一收集環(411)中，而沿晶圓載台邊緣受重

26力影響往下流，經由側環(442)頂部之排液孔（未標註，

27但劃有流體通道箭頭經過該排液孔）直達底部收集盤(4

1313)，亦即於低速旋轉蝕刻時，被告專利之流體收集功能

2必受影響，無法達成將特定蝕刻液導引至特定收集單元

3之效果。

4有關被告就系爭專利有效性部分之主張，詳見被告105年5

5月16日答辯狀、同年7月22日答辯狀、同年12月14日

6答辯狀，茲不贅述。

7三、本件不爭執事項（本院卷第105頁）：

8原告係中華民國發明公告號第584915號專利（即系爭專利）

9之專利權人。

10本院104年度民專抗字第5號104年11月4日所保全證據係

11組裝中12吋單晶圓旋轉清洗機2台及樣品機1台，型號未載

12明於保全證據筆錄。

13系爭專利是否具有得撤銷之事由，適用系爭專利93年4月21

14日核准審定時之專利法即90年10月24日修正公布之專利法

15（下稱90年專利法）。

16四、協商兩造整理本件爭點如下（本院卷第105至106頁）：

17原告所主張之侵害系爭專利權之系爭產品究何所指？

18系爭產品是否落入系爭專利請求項1至5、7之文義（或均等

19）範圍？系爭專利請求項1所載之「旋轉蝕刻槽」究係僅須

20有「下槽壁」，抑或同時具有「下槽壁」及「上槽壁」？

21系爭專利說明書是否違反90年專利法第22條第3項無法據以

22實施？是否違反同法第20條第1項不具產業利用性？是否違

23反同法第71條第3款說明書或圖式不載明實施必要之事項，

24或記載不必要之事項，使實施為不可能或困難？

25系爭專利請求項1、2是否不具新穎性或進步性：

26被證1是否使系爭專利請求項1不具新穎性？

27被證2是否使系爭專利請求項1不具新穎性？

141被證1、2之組合是否足使系爭專利請求項1不具進步性？

2系爭專利之先前技術與被證1之組合是否足使系爭專利請求

3項1不具進步性？

4被證1是否足使系爭專利請求項2不具新穎性？

5被證2是否足使系爭專利請求項2不具新穎性？

6被證1、2之組合是否足使系爭專利請求項2不具進步性？

7系爭專利之先前技術與被證1之組合是否足使系爭專利請求

8項2不具進步性？

9五、得心證之理由

10系爭專利技術分析：

11據系爭專利說明書之摘要（本院卷第13頁）所載，系爭

12專利為一種單晶圓旋轉蝕刻清洗機台之流體收集裝置，其主

13要特徵在於將可升降之收集單元40、50設置於旋轉蝕刻清

14洗槽10壁外側。該收集單元40、50並具有徑向開口，可與

15旋轉蝕刻清洗槽10周緣之流體洩出口11相通。此收集單元

1640、50可為環狀或管狀等形式，且可視所收集流體種類向

17外增設。而相鄰之收集單元40、50之間及/或收集單元與旋

18轉蝕刻清洗槽壁之間可保持緊密接觸，不會產生交叉污染。

19藉由該流體收集裝置可分類收集旋轉蝕刻清洗槽10中之流

20體而不產生交叉污染。

21系爭專利之主要圖式：第2圖係為單晶圓旋轉蝕刻機台的流

22體收集裝置之剖面圖、第2A圖係為第2圖之部分放大圖、

23第3、4圖係為單晶圓旋轉蝕刻機台的流體收集裝置於收集

24不同流體時之操作示意圖（如附圖1所示）。

25系爭專利之申請專利範圍分析：

26系爭專利申請專利範圍經104年12月18日更正後共計7個

27請求項，其中請求項1為獨立項，其餘均為附屬項，原告主

151張受侵害之權利範圍為請求項1至5及7，其內容如下：

2請求項1：一種單晶圓旋轉蝕刻清洗機台之流體收集裝置

3，用於收集旋轉蝕刻槽中之流體，主要包括：一旋轉蝕刻

4槽，可固定及旋轉一晶圓，使該晶圓可於蝕刻液中進行蝕

5刻，該旋轉蝕刻槽之周緣並設有一流體洩出口；複數個收

6集單元，設於該旋轉蝕刻槽壁之外緣，並具有一徑向開口

7，可與該旋轉蝕刻槽之流體洩出口相通，以收集由該流體

8洩出口流出之流體；一升降機制，連設於每一收集單元，

9使該收集單元之徑向開口之頂部可自該流體洩出口之底部

10上升以收集特定流體。

11請求項2：如申請專利範圍第1項之流體收集裝置，其中

12該收集單元之第一收集單元係環狀。

13請求項3：如申請專利範圍第1項之流體收集裝置，其中

14該收集單元更包括一第二收集單元，設於該第一收集單元

15之外緣，其亦具有一徑向開口，該第二收集單元並連設於

16一升降機制，使該第二收集單元之徑向開口之頂部可自該

17流體洩出口之底部上升，且當該第一收集單元之徑向開口

18之頂部下降至該流體洩出口之底部時，可使該第二收集單

19元之徑向開口與該旋轉蝕刻槽之流體洩出口相通，以收集

20由該流體洩出口流出之流體。

21請求項4：如申請專利範圍第3項之流體收集裝置，其中

22該第二收集單元係環狀。

23請求項5：如申請專利範圍第3項之流體收集裝置，其中

24該第二收集單元徑向開口之頂部延伸設置於該第一收集單

25元之徑向開口之頂部上方，於該第一收集單元及該第二收

26集單元同時位於上升或下降位置時，與該第一收集單元之

27徑向開口之頂部緊密接觸。

161請求項7：如申請專利範圍第3項之流體收集裝置，其中

2該收集單元可多於二個。

3系爭產品之技術內容：

4系爭產品SINGLEWAFERWETPROCESSTOOL型號POLA

5R3004是一種單晶片濕處理機器，包括一旋轉馬達、一基

6板固定單元、一收集單元以及一液體供給單元。收集單元包

7含一收集環模組、一升降模組與一底部收集盤，其中收集環

8模組包含多個收集環依序徑向設置，升降模組包含多個升降

9裝置分別連接多個收集環，以獨立地升降多個收集環。

10系爭產品之圖式：操作手冊第II-8頁、104年2月賣給台積

11電龍潭廠的機器3D圖（如附圖2-1、2-2所示）。

12申請專利範圍解釋部分：

13系爭專利請求項1所載之「旋轉蝕刻清洗槽」之解釋？

14參酌系爭專利說明書第8頁倒數第2行至第9頁記載「…

15，旋轉蝕刻槽10之周緣槽壁設有流體洩出口11，洩出口1

161的底部不高於載盤21，…。第一收集槽40設於旋轉蝕刻

17槽10的槽壁外側，並具有一徑向開口，可與旋轉蝕刻槽10

18的流體洩出口11相通，以收集由洩出口11流出之流體。

19收集槽40的徑向開口的頂部41及底部42皆緊貼著旋轉蝕

20刻槽10的槽壁，開口則至少可涵蓋旋轉蝕刻槽10的洩出

21口11，…。第二收集槽50之徑向開口之頂部51延伸至第

22一收集槽40之徑向開口之頂部41上方，並與第一收集槽4

230之徑向開口之頂部41及旋轉蝕刻槽10的外壁緊密接觸。

24」（本院卷第19頁、第20頁），及第10頁第2行至第

256行之記載「第3及4圖為本發明裝置於收集不同流體時之

26操作示意圖。第3圖中，第一收集槽40藉由連設之升降機

27降下，致使其徑向開口之頂部41到達流體洩出口11之底

171部。此時，第二收集槽50之徑向開口與旋轉蝕刻槽10之

2流體洩出口11相通，」（本院卷第21頁）之內容，可

3知系爭專利說明書內容並未有「下槽壁」、「上槽壁」之

4記載，且「旋轉蝕刻槽」之文義甚明並未不明確，故系爭

5專利請求項1所載之「旋轉蝕刻清洗槽」參照系爭專利說

6明書內容應解釋為「旋轉蝕刻槽」。

7被告主張「原告將系爭專利之旋轉蝕刻『槽壁(10)』可與位

8於『流體洩出口(11)』上下收集單元密合。因此，原告將系

9爭專利之旋轉蝕刻『槽壁(10)』限定需同時具有『上、下槽

10壁(10)』，方能與位於『流體洩出口(11)』上或下收集單元

11密合。」云云。然查，系爭專利說明書或請求項中僅界定

12旋轉蝕刻槽，並未限定「下槽壁」、「上槽壁」，故被告

13此部分主張並不足採。

14專利侵權部分：

15系爭產品是否落入系爭專利請求項1之專利權範圍：

16系爭專利請求項1之專利權範圍，其技術內容可解析為6

17個要件，分別為：編號1A「一種單晶圓旋轉蝕刻清洗機

18台之流體收集裝置，用於收集旋轉蝕刻槽中之流體，主要

19包括：」、編號1B「一旋轉蝕刻槽，可固定及旋轉一晶

20圓，使該晶圓可於蝕刻液中進行蝕刻，」、編號1C「該

21旋轉蝕刻槽之周緣並設有一流體洩出口；」、編號1D「

22複數個收集單元，設於該旋轉蝕刻槽壁之外緣，」、編號

231E「並具有一徑向開口，可與該旋轉蝕刻槽之流體洩出口

24相通，以收集由該流體洩出口流出之流體；」、編號1F

25「一升降機制，連設於每一收集單元，使該收集單元之徑

26向開口之頂部可自該流體洩出口之底部上升以收集特定流

27體。」。

181系爭產品對應系爭專利請求項1各要件之技術特徵，可解

2析為6個要件，分別為：編號1a「一種單晶片濕處理機

3器，用於收集旋轉蝕刻槽(60)中之流體，主要包括：」、

4編號1b「一旋轉蝕刻槽，可固定及旋轉一晶圓，使該晶

5圓可於蝕刻液中進行蝕刻，」、編號1c「旋轉蝕刻槽未

6具流體洩出口；」、編號1d「複數個收集單元(401至404

7)，設於該旋轉蝕刻槽壁之外圍；」、編號1e「收集單元

8之開口部(T1至T4)直接收集流體，無與流體洩出口相通

9之限制；」、編號1f「一升降機制(42)，連設於每一收集

10單元，以收集特定流體，無自流體洩出口之底部上升之限

11制。」。

12系爭產品是否落入系爭專利請求項1之文義範圍：

13由原告所提被告104年2月賣給台積電龍潭廠的機器3

14D圖（下稱3D圖）可知，系爭產品為一種單晶片濕處

15理機器，用於收集旋轉蝕刻槽(60)中之流體，故從系爭

16產品可以讀取到系爭專利請求項1要件1A「一種單晶

17圓旋轉蝕刻清洗機台之流體收集裝置，用於收集旋轉蝕

18刻槽中之流體，主要包括：」之技術特徵。被告雖辯稱

19此要件特徵比對結果不相同，因系爭專利之「旋轉蝕刻

20清洗槽」究係同時具有「下槽壁」及「上槽壁」，抑或

21僅有「下槽壁」，原告應提出明確說明云云。然查，系

22爭專利請求項1之要件1A中僅界定旋轉蝕刻槽，並未

23限定「下槽壁」、「上槽壁」，已見前述，被告此部分

24答辯，並不可採。

25由系爭產品3D圖可知，系爭產品具旋轉蝕刻槽、晶圓

26固定單元(30)，可固定及旋轉一晶圓，使該晶圓可於蝕

27刻液中進行蝕刻，故由系爭產品可以讀取到系爭專利請

191求項1要件1B「一旋轉蝕刻槽，可固定及旋轉一晶圓

2，使該晶圓可於蝕刻液中進行蝕刻，」之技術特徵。被

3告雖爭執系爭產品並無上槽壁，未落入系爭專利請求項

41要件1B之文義範圍云云。然查，系爭專利請求項1

5之要件1B中僅界定旋轉蝕刻槽，並未限定「下槽壁」

6、「上槽壁」，故被告此部分辯解，並不可採。

7系爭產品未落入系爭專利請求項1要件1C「該旋轉蝕

8刻槽之周緣並設有一流體洩出口；」之文義範圍，此為

9兩造所不爭執（參原告106年6月6日民事陳述意見狀

10、被告同年6月12日民事陳報狀）。

11由系爭產品3D圖可知，系爭產品之複數個收集單元(40

12)係設於該旋轉蝕刻槽壁(62)之外圍，並未緊鄰於旋轉蝕

13刻槽壁之外緣，故系爭產品無法讀取到系爭專利請求項

141之要件1D「複數個收集單元，設於該旋轉蝕刻槽壁之

15外緣，」之技術特徵。原告雖主張複數個收集單元(401

16至404)，設於該旋轉蝕刻槽(60)之環壁(62)之外緣(622)

17，然由前述系爭產品3D圖或操作手冊第II-8頁之圖式

18以觀，系爭產品複數個收集單元(401至404)係設於該旋

19轉蝕刻槽壁之外圍，非緊鄰槽壁(62)之外緣，故原告主

20張系爭產品落入系爭專利請求項1之要件1D之技術特

21徵，並不可採。

22系爭產品未落入系爭專利請求項1要件1E「並具有一

23徑向開口，可與該旋轉蝕刻槽之流體洩出口相通，以收

24集由該流體洩出口流出之流體；」之文義範圍，此為兩

25造所不爭執（參原告106年6月6日民事陳述意見狀、

26被告同年6月12民事陳報狀）。

27系爭產品未落入系爭專利請求項1要件1F「一升降機

201制，連設於每一收集單元，使該收集單元之徑向開口之

2頂部可自該流體洩出口之底部上升以收集特定流體。」

3之文義範圍，此為兩造所不爭執（參原告106年6月6

4日民事陳述意見狀、被告同年6月12民事陳報狀）。

5綜上，系爭產品落入系爭專利請求項1要件1A及1B

6之文義範圍，未落入要件1C、1D、1E及1F之文義範

7圍。

8系爭產品是否落入系爭專利請求項1之均等範圍：

9因系爭產品無法讀取系爭專利請求項1要件1C至1F之

10文義範圍，爰進一步探究系爭產品是否落入系爭專利請

11求項1要件1C至1F之均等範圍；又因系爭專利請求項

121要件1C至1F之結構及配置間均與流體洩出口有互相

13連動之相對位置關係，故將系爭專利請求項1要件1C

14至1F之均等範圍併同論述。

15系爭產品之技術手段係複數個收集單元設於該旋轉蝕刻

16槽壁之外圍，清洗液直接由複數個收集單元之開口部升

17降收集，然而系爭專利之技術手段則係於旋轉蝕刻槽周

18緣之流體洩出口與複數個收集單元的徑向開口相通，由

19收集單元於旋轉蝕刻槽壁升降收集清洗液；因系爭產品

20在旋轉蝕刻槽之周緣並無流體洩出口之結構，流體係直

21接由收集單元開口部升降收集，收集單元獨立運動無需

22與旋轉蝕刻槽壁相對配合，是系爭產品自不同於系爭專

23利其流體需通過流體洩出口再到收集單元，且毋庸考量

24系爭專利之收集單元之徑向開口與旋轉蝕刻槽之流體洩

25出口是否需相通之連接關係，及收集單元之徑向開口之

26頂部沿著槽壁之外緣自該洩出口之底部上升之相對配合

27關係，是以兩者關於旋轉蝕刻槽結構、流體流通路徑及

211收集單元與旋轉蝕刻槽之相對運動及配置關係並不相同

2，故系爭產品與系爭專利之技術手段實質不相同。

3系爭產品與系爭專利皆具收集流經收集單元開口部之特

4定流體之功能，兩者功能相同；且系爭產品與系爭專利

5皆有避免交叉汙染之結果，其結果亦相同，是以系爭產

6品與系爭專利要件1C至1F係以實質不相同的技術手段

7，達成相同的功能，產生相同的結果，故系爭產品未落

8入系爭專利請求項1之均等範圍。

9原告雖稱若系爭產品在收集單元(401、402、403、404)

10和旋轉蝕刻槽(60)之間沒有如系爭專利界定之流體洩出

11口的均等結構，實不知系爭產品處理晶圓之流體是如何

12流到上開收集單元，故系爭產品與系爭專利應均有流體

13洩出口，只是位置不同而已，兩者為實質相同的技術手

14段，皆為構成一不會回收交叉汙染的流體通道云云。然

15查，系爭產品並沒有「旋轉蝕刻槽之周緣設一流體洩出

16口」之技術特徵，所以複數個收集單元(401、402、403

17、404)，自無需設於該旋轉蝕刻槽壁之外緣並與該旋轉

18蝕刻槽之流體洩出口相通，且收集單元之徑向開口之頂

19部亦無需自該流體洩出口之底部上升以收集特定流體，

20系爭產品只要收集單元高於晶圓台座之位置以升降收集

21特定流體即可，所以系爭產品與系爭專利兩者關於旋轉

22蝕刻槽結構、流體流通路徑、收集單元與旋轉蝕刻槽之

23相對運動之配置關係的技術手段並不相同，系爭產品收

24集特定流體之結構自非屬系爭專利流體洩出口之均等結

25構，並非如原告所稱「系爭產品與系爭專利應均有流體

26洩出口，只是位置不同而已」云云，原告所述尚不足採

27。

221系爭產品是否落入系爭專利請求項2至5及7之專利權範圍

2：

3如上所述，系爭產品未落入系爭專利請求項1之專利權範圍

4，又系爭專利請求項2至5及7皆直接或間接依附請求項1

5，係限縮系爭專利請求項1之專利權範圍，在系爭產品未落

6入系爭專利請求項1之專利權範圍之前提下，自亦未落入系

7爭專利請求項2至5及7之專利權範圍。

8六、綜上所述，系爭產品未落入系爭專利請求項1至5及7之專

9利權範圍，原告請求被告辛耘公司應停止自行或使他人製

10造、為販賣之要約、販賣、使用或為上述目的而進口「12吋

11單晶圓旋轉清洗機」及其他任何侵害原告系爭專利之行為。

12被告辛耘公司應將侵害系爭專利之物品銷毀。被告辛耘

13公司、謝宏亮應連帶給付原告4,000萬元，及自起訴狀繕本送

14達翌日起至清償日止，按年息百分之5計算之利息，即無理

15由，不應准許。原告之訴既經駁回，其假執行之聲請亦失所

16附麗，應併予駁回。

17七、本件事證已臻明確，兩造其餘攻擊、防禦方法及未經援用之

18證據，經本院審酌後認對判決結果不生影響，爰不逐一論列

19，附此敘明。

20八、據上論結，本件原告之訴為無理由，依智慧財產案件審理法

21第1條，民事訴訟法第78條，判決如主文。

22中華民國106年7月14日

23智慧財產法院第三庭

24法官杜惠錦

25以上正本係照原本作成。

26如對本判決上訴，須於判決送達後20日之不變期間內，向本院提

27出上訴狀。如委任律師提起上訴者，應一併繳納上訴審裁判費。

231中華民國106年7月17日

2書記官林佳蘋

3附圖：

4附圖1（系爭專利之主要圖式）：

5

6

7

241

2

3

4

5

251附圖2（系爭產品之圖式）：

2附圖2-1操作手冊第II-8頁：

3

4

26