資料來源：司法院法令判解系統
一、依本署公告「第８批公私場所應申請設置、變更及操作許可之固定污染源」其中「光電材料、元件或電子零組件製造程序」係指：「從事光電材料、元件或電子零組件製造，並具有塗佈、去塗佈、上膠、蝕刻或顯影等作業程序，其資本額達１萬元以上且廠房面積達50平方公尺以上者」
內文
全文內容：一、依本署公告「第 8 批公私場所應申請設置、變更及操作許可之固定污染源」其中「光電材料、元件或電子零組件製造程序」係指：「從事光電材料、元件或電子零組件製造，並具有塗佈、去塗佈、上膠、蝕刻或顯影等作業程序，其資本額達 1 萬元以上且廠房面積達 50平方公尺以上者。」此係規範從事光電材料、元件或電子零組件製造時，其產生之揮發性有機污染物，加以管制。
二、前揭公告條件所稱之「資本額大於 3 萬元及廠房面積大於 50 平方公尺以上之工廠」，其主要目的係為將屬工廠管理輔導法相關規定所規範之工廠納入許可管制中，即倘屬依關規定所規範之工廠納入許可管制中，即倘屬依法應辦理工廠登記證之工廠，且其製程操作條件符合本署公告條件者，應依規定辦理固定污染源設置或操作許可證。
三、另查工廠管理輔導法施行細則第 2 條規定，廠房係指供從事物品製造、加工作業使用之建築物，故本案倘該公司廠房面積依前述規定判定，已超過 50 平方公尺，則符合前揭第 8 批許可公告條件，應依規定辦理固定污染源設置或操作許可證。
