資料來源：司法院法令判解系統
一、依本署公告第八批公私場所應申請設置、變更及操作許可之光電材料、元件或電子零組件製造程序，係指從事光電材料、元件或電子零組件製造，並具有塗佈、去塗佈、上膠、蝕刻或顯影等作業程序，其資本額達３萬元以上且廠房面積達50平方公尺以上者
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全文內容：一、依本署公告第八批公私場所應申請設置、變更及操作許可之光電材料、元件或電子零組件製造程序，係指從事光電材料、元件或電子零組件製造，並具有塗佈、去塗佈、上膠、蝕刻或顯影等作業程序，其資本額達 3 萬元以上且廠房面積達 50 平方公尺以上者。前述公告條件主要係針對製程中可能產生之揮發性有機物進行管制。
二、另依光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準第 2 條第 2款針對揮發性有機物之定義指出，揮發性有機物為含有機化合物之空氣污染物總稱。但不包含甲烷、一氧化碳、二氧化碳、碳酸、碳化物、碳酸鹽、碳酸銨等化合物。
三、本案該公司以聚乙烯保護膜及聚酯膜，經樹脂塗佈、硬化成型，從事增亮擴散片製造程序，因其塗佈程序所使用之樹脂含多種有機化合物，其屬揮發性有機物，該廠增亮擴散片製程符合前揭公告條件，應依規定申請設置及操作許可證。
