資料來源：司法院法令判解系統
一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第５條第１項第２款規定，揮發性有機物年用量大於50噸之工廠，其揮發性有機物防制設備之廢氣排放口應設置濃度監測器，管制重點主要在規範公私場所使用揮發性有機物（含溶劑及溶質）之原物料年用量超過50噸者，則應於廢氣排放口設置濃度監測器，以有效監控其污染排放
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全文內容：一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 5 條第 1 項第 2 款規定，揮發性有機物年用量大於 50 噸之工廠，其揮發性有機物防制設備之廢氣排放口應設置濃度監測器，管制重點主要在規範公私場所使用揮發性有機物（含溶劑及溶質）之原物料年用量超過 50 噸者，則應於廢氣排放口設置濃度監測器，以有效監控其污染排放。
二、本案有關揮發性有機物年用量之定義，本署業分別於 93 年 3 月 18 日環署空字第 0930017432 號函及 97 年 5 月 22 日環署空字第0970032069 號函釋在案，其中年用量之定義，係指含揮發性有機物成分之原物料年實際用量為認定標準，亦即為有機化合物中「含揮發性有機物成份之原物料」佔有機化合物百分比，計算固定污染源揮發性有機物含量，應包括含揮發性有機物成份原物料中溶劑及溶質含量。
