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資料來源:司法院法令判解系統

有關貴公會函詢「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」法規內容疑義案

會議日期 99 年 08 月 27 日

要旨

有關貴公會函詢「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」法規內容疑義 案,復請查照。

內文

主 旨:有關貴公會函詢「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」法規內容疑義案,復請查照。

說 明:一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 5 條第 1 項第 4 款規定,流量計及濃度監測器之有效每季監測率應大於 80%,每年至少以標準檢測方法比測 1 次,比測時間每次至少 2 小時,所設置之流量計及濃度監測器所得之結果應以上次比測結果修正之。管制重點主要在規範半導體製造業進行規定之流量計或濃度監測計比測工作,應依標準檢測方法取得至少連續 2 小時之流速測定或揮發性有機物濃度檢測數據,作為修正依據。

二、有關流量計比測,應依本署環境檢驗所 NIEAA101.73C 排放管道中粒狀污染物採樣及其濃度之測定方法規定排氣流速及流量之測定步驟,先測定排氣壓力、排氣中水蒸氣之體積百分率及排氣組成計算出排氣流速,完成一次完整氣體組成(ORSAT )比測作業後,再重複相同步驟進行,直至符合前項說明所提至少連續 2 小時之測定時間,比測時包含水分及氣體成分分析。一般而言,排氣組成之檢測時間為排氣流量測定之關鍵時間,2 個小時內約可完成 4 次排氣流量測定步驟。再以比測期間所得排氣流速平均值及排放管道截面積求出排氣流量,與比測期間現場裝設之流量計量測數值平均值比對。

三、檢測執行單位應依說明二執行相關流量計比測作業,惟目前檢測計畫書已送至各縣市主管機關審核通過者,應依其審核通過之檢測計畫書內容執行後續相關審查及作業事項。

附件

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