資料來源：司法院法令判解系統
貴轄○○○○股份有限公司函詢半導體製造業空氣污染管制及排放標準之污染防制設備應記錄事項疑義一案
要旨
貴轄○○○○股份有限公司函詢半導體製造業空氣污染管制及排放標準之 污染防制設備應記錄事項疑義一案，請查照。
內文
主 旨：貴轄○○○○股份有限公司函詢半導體製造業空氣污染管制及排放標準之污染防制設備應記錄事項疑義一案，請查照。
說 明：一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準（以下簡稱排放標準）第 6條規定，已明定揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸等空氣污染物之紀錄、保存、檢測與申報規定。其中同條第2 款及第 3 款規定，污染防制設備為酸鹼洗滌吸收設施者，應記錄保養維護事項，以確保潤濕因子及填充段空塔滯留時間符合設施規範，並每日記錄各洗滌槽洗滌循環水量及pH值；污染防制設備為清水洗滌吸收設施者，應記錄保養維護事項，以確保潤濕因子及填充段空塔滯留時間符合設施規範，並每日記錄各洗滌槽洗滌循環水量及廢水排放流量。
二、本案所詢排放標準第 6 條第 2 款及第 3 款規定應記錄事項所適用之污染防制設備及空氣污染物為何疑義一節，依前揭說明，半導體製造業者倘使用酸鹼洗滌吸收設施或清水洗滌吸收設施，做為處理揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸等 7 項空氣污染物之防制設備者，應每日記錄相關主要操作參數，包括採用酸鹼洗滌吸收設施者應每日記錄各洗滌槽洗滌循環水量及 pH 值；另採用清水洗滌吸收設施者，應每日記錄各洗滌槽洗滌循環水量及廢水排放流量等項目。
三、本案請貴局依現場實際狀況，本權責判定後逕復該公司。
