公私場所固定污染源空氣污染防制設備空氣污染防制費減免辦法 第 3 條
- 原始資料來源：全國法規資料庫、立法院法學系統
- 公私場所設置之硫氧化物、氮氧化物或揮發性有機物防制設備，符合下列規定者，得向地方主管機關申請減免空氣污染防制設備購置成本（以下簡稱購置成本減免）： 一、本辦法施行後所設置之濕式排煙脫硫設備、經地方主管機關核定其處理效率達百分之九十以上之硫氧化物防制設備、選擇性觸媒還原設備、經地方主管機關核定其處理效率達百分之八十以上之氮氧化物防制設備或揮發性有機物防制設備。 二、中華民國九十一年一月一日起至本辦法施行前所設置之揮發性有機物防制設備。
- 公私場所屬應採用最佳可行控制技術者，所設置前項硫氧化物、氮氧化物、揮發性有機物防制設備，其處理效率應較最佳可行控制技術規定高百分之三。但公私場所屬應實施環境影響評估者，其處理效率亦應較環境影響評估說明書或報告書所載內容或審查結論高百分之三。
- 公私場所非屬應採行揮發性有機物最佳可行控制技術，亦非屬應實施環境影響評估，且符合第一項規定者，應採行揮發性有機物最佳可行控制技術或其揮發性有機物防制設備處理效率應達下列規定： 一、採破壞性揮發性有機物防制設備，其處理效率達百分之九十五以上。 二、採非破壞性揮發性有機物防制設備，其處理效率達百分之九十以上。
- 公私場所設置之空氣污染防制設備，經依本辦法核定購置成本減免者，不得再以該防制設備申請購置成本減免。
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