環保行政 95 年空氣污染與噪音防制考古題

某半導體廠於25 ℃、1 atm 下排放之總廢氣流量為1000 CMM（m3/min），該廢氣中 含有HCl 及H2SO4空氣污染物，其濃度值經檢測分別為2500 與2000 ppbv。而半導體 相關法規規定該廠HCl 之排放量為不得超過0.6 kg/hr，H2SO4則不得超過0.1 kg/hr， 否則即需設置相關處理設施。 請問該廠應否設置相關處理設施，以符合法規需求？若需要設置防制設施，則其最 低處理效率為何？（原子量，H=1.0, Cl=35.5, S=32.1, O=16.0）（20 分）

試述我國空氣品質監測網現有之測站類型及站址選定原則。（20 分）

何謂衍生性污染物？請依我國空氣污染防制法施行細則之內容說明之。（20 分）

㈠我國行政院環境保護署所訂定之空氣品質改善目標為何？ ㈡為因應行政院環境保護署的空氣品質改善目標，有那些空氣品質改善策略可供地 方環保單位運用？試由我國空氣污染防制法彙整簡述之。 （20 分）

㈠何謂民俗噪音？㈡地方環保人員應如何取締管制民俗噪音？（20 分）