資料來源：司法院法令判解系統
函詢有關半導體製造業空氣污染管制及排放標準第５條第１項第４款規定每年至少以標準檢測方法比測1次疑義乙案
要旨
函詢有關半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 5 條第 1 項第 4 款規定每年至少以標準檢測方法比測 1 次疑義乙案，復請查照。
內文
主 旨：函詢有關半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 5 條第 1 項第 4款規定每年至少以標準檢測方法比測 1 次疑義乙案，復請查照。
說 明：一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 5 條第 1 項第 4 款規定，依同標準第 4 條規定收集至污染防制設備處理之廢氣，其流量計及濃度監測器之有效每季監測率應大於 80％ ，每年至少以標準檢測方法比測 1 次，比測時間每次至少 2 小時，所設置之流量計及濃度監測器所得之結果應以上次比測結果修正之。上述比測作業之目的，主要係確保廢氣流量計及濃度監測器正常操作，且可測得正確之數據，俾提高監測品質，落實空氣污染管制工作，所稱「每年」，係指每一年自 1 月 1 日起至 12 月 31 日止之期間。
二、適用前揭標準管制對象之半導體業者，其依規定設置之廢氣流量計及濃度監測器，應於每年 1 月 1 日至 12 月 31 日期間，以標準檢測方法進行至少 1 次比測。
