依前條規定收集之廢氣，於污染防制設備之廢氣導入處或排放管道排放口應設置流量計及濃度監測器，其設置規定如下： 一、適用本標準之半導體製造業均應設置流量計。 二、揮…

本標準依空氣污染防制法第二十條第二項及第二十三條第二項規定訂定之。

本標準用詞及符號，定義如下： 一、半導體製造業：指從事積體電路晶圓製造、晶圓封裝、磊晶、光罩製造、導線架製造等作業者。 二、積體電路晶圓製造作業（Wafer F…

本標準適用於半導體製造業。但半導體製造業原（物）料年用量小於下表所列者，該項物質不適用本標準之規定：

半導體製造業產生之空氣污染物應經密閉集氣系統收集，並應符合下表規定後始得排放： 前項硝酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸及硫酸等排放之廢氣，因安全之虞而無法證明符合前項標準…

揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸等之紀錄、保存與申報規定如下： 一、空氣污染物輸入量（以溶劑或其他型式輸入製程之量）、輸出量（隨廢溶劑、廢…

既存製程未能符合第四條排放標準或第五條設置規定者，公私場所應於本標準修正施行後六個月內，檢具空氣污染改善計畫，向直轄市、縣（市）主管機關申請核定改善期限，並應於…

本標準自發布日施行。

前條排放標準之適用規定，應於申請固定污染源操作許可證時，併同空氣污染物排放檢測報告提出，並經地方主管機關或中央主管機關委託之政府其他機關核可後登載於固定污染源操…

本標準依空氣污染防制法第二十條第二項、第二十一條、第二十二條第一項、第二項、第二十三條第二項規定訂定之。

本標準專有名詞及符號定義如下： 一、光電材料及元件製造業（以下簡稱光電業）：指從事液晶面板製造及其相關材料、元件或產品製造者。但僅從事二極體元件製造者不在此限。…

本標準適用於光電業之煙道排氣，管制空氣污染物項目為揮發性有機物、氫氟酸及鹽酸。

光電業排放之空氣污染物應經密閉排氣系統收集，並應符合下表規定後始得排放： ┌───┬─────────┬────────────────┐│空 氣│ 適 …

光電業使用含揮發性有機物、氫氟酸或鹽酸之原物料種類、含量百分比、購入量、使用量、輸出量等資料應每月記錄。 光電業應配合前項紀錄、監測及相關檢測作業結果計算全廠揮…

排放管道之空氣污染物監測及檢測作業應符合下列規定： 一、揮發性有機物單位小時許可排放量達一．三公斤以上者，其揮發性有機物污染防制設備之廢氣導入處及排放口應設置連…

光電業裝設污染防制設備處理空氣污染物至符合第四條排放標準規定者，其流量計及污染防制設備之監測設施規定如下： 一、污染防制設備之揮發性有機物廢氣導入處或排放口應設…

既存製程應自中華民國九十六年一月一日起符合本標準規定。

本標準除另定施行日期者外，自發布日施行。

膠帶製造業各操作單元之廢氣依前條規定收集後需導入空氣污染防制設備處理，且其處理效率或單一排放管道排放量應符合下列規定始得排放： 一、既存製程且全廠揮發性有機物原…

氯乙烯單體製程之排氣，應符合下列規定： ┌───┬────┬────┬────────────────┐│污染源│適用對象│施行日期│排放標準或管制規定 …