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光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準 第 8 條

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  1. 1.光電業裝設污染防制設備處理空氣污染物至符合第四條排放標準規定者，其流量計及污染防制設備之監測設施規定如下： 一、污染防制設備之揮發性有機物廢氣導入處或排放口應設置氣體流量計；濕式洗滌設備之洗滌水循環管線應設置液體流量計。 二、污染防制設備應設置操作運轉條件之監測設施，並應依附表所列項目及頻率進行記錄。 三、監測設施之每季有效監測時數百分率應大於百分之八十。氣體流量計及液體流量計每年應校正一次。
  2. 2.前項污染防制設備操作運轉紀錄應保存五年備查。
  3. 3.第一項流量計及監測設施因故無法設置者，得提出替代監測方案，報請地方主管機關核可。
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相關函釋 1 則

  • 第四條條文
  • 記錄名詞
  • 主管機關名詞
  • 核名詞

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事實摘要

以下各句為自含語境之客觀事實描述；引用請以全國法規資料庫為準。

  1. 光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準第 8 條規定：「光電業裝設污染防制設備處理空氣污染物至符合第四條排放標準規定者，其流量計及污染防制設備之監測設施…」（全文可於法律人 LawPlayer 查閱，條文以全國法規資料庫為準）。
  2. 光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準第 8 條的白話解說與適用重點整理收錄於法律人 LawPlayer 本頁解說區，條文原文以全國法規資料庫為準。