半導體製造業空氣污染管制及排放標準 第 5 條
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- 1.依前條規定收集之廢氣,於污染防制設備之廢氣導入處或排放管道排放口應設置流量計及濃度監測器,其設置規定如下: 一、適用本標準之半導體製造業均應設置流量計。 二、揮發性有機物原(物)料年用量大於二十五噸或工廠總排放量大於每小時零點六公斤者,屬既存製程其揮發性有機物排放大於十四ppm或屬新設製程其揮發性有機物排放大於十ppm之排放管道,應設置揮發性有機物濃度監測器證明符合本標準排放削減率。既存製程與新設製程合併設置排放管道者,以新設製程之設置規定認定之。 三、流量計及濃度監測器之有效每季監測率應大於八十%,每年至少以標準檢測方法比測一次,比測時間每次至少二小時,所設置之流量計及濃度監測器所得之結果應以上次比測結果修正之。
- 2.未能依前項規定設置流量計及濃度監測器之排放管道,公私場所得提出其他可證明其排放污染物符合前條排放標準規定之替代方案,報請直轄市、縣(市)主管機關同意後,不在此限。
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白話解讀
對於半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 5 條,本法令規定了廢氣收集後的排放標準,並要求設置流量計及濃度監測器。其中,對於揮發性有機物原(物)料年用量大於二十五噸或工廠總排放量大於每小時零點六公斤的情況,則要求設置揮發性有機物濃度監測器,並達到有效每季監測率大於八十%,且至少每年比測一次。 參考資料是環境保護署最新公告的「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」中的相關規定,例如《半導體製造業空氣污染管制及排放標準第5條詳細解釋》。
相關函釋 4 則
- 有關貴公會函詢「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」法規內容疑義案
- 函詢有關半導體製造業空氣污染管制及排放標準第5條第1項第4款規定每年至少以標準檢測方法比測1次疑義乙案
- 一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第5條第1項第2款規定,揮發性有機物年用量大於50噸之工廠,其揮發性有機物防制設備之廢氣排放口應設置濃度監測器,管制重點主要在規範公私場所使用揮發性有機物(含溶劑及溶質)之原物料年用量超過50噸者,則應於廢氣排放口設置濃度監測器,以有效監控其污染排放
- 一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第5條第2項規定,未依規定設置流量計及污染物濃度監測器者,得提出其他可證明其排放污染物符合前條規定之替代監測方案,報請中央主管機關認可
- 適名詞
- 業名詞
- 公私場所名詞
- 可證名詞
- 主管機關名詞
- 半導體製造業空氣污染管制及排放標準 第 4 條條文
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原始資料來源:全國法規資料庫、立法院法學系統。AI 加值內容僅供理解輔助,法律效力以原文為準。