半導體製造業空氣污染管制及排放標準 第 5 條
- 原始資料來源：全國法規資料庫、立法院法學系統
- 依前條規定收集之廢氣，於污染防制設備之廢氣導入處或排放管道排放口應設置流量計及濃度監測器，其設置規定如下： 一、適用本標準之半導體製造業均應設置流量計。 二、揮發性有機物原（物）料年用量大於二十五噸或工廠總排放量大於每小時零點六公斤者，屬既存製程其揮發性有機物排放大於十四ppm或屬新設製程其揮發性有機物排放大於十ppm之排放管道，應設置揮發性有機物濃度監測器證明符合本標準排放削減率。既存製程與新設製程合併設置排放管道者，以新設製程之設置規定認定之。 三、流量計及濃度監測器之有效每季監測率應大於八十％，每年至少以標準檢測方法比測一次，比測時間每次至少二小時，所設置之流量計及濃度監測器所得之結果應以上次比測結果修正之。
- 未能依前項規定設置流量計及濃度監測器之排放管道，公私場所得提出其他可證明其排放污染物符合前條排放標準規定之替代方案，報請直轄市、縣（市）主管機關同意後，不在此限。
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