資料來源：司法院法令判解系統
一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第５條第２項規定，未依規定設置流量計及污染物濃度監測器者，得提出其他可證明其排放污染物符合前條規定之替代監測方案，報請中央主管機關認可
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全文內容：一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 5 條第 2 項規定，未依規定設置流量計及污染物濃度監測器者，得提出其他可證明其排放污染物符合前條規定之替代監測方案，報請中央主管機關認可。亦即倘公私場所之空氣污染防制設備未能依規定設置流量計及空氣污染物濃度連續自動監測器者，得提出其他可證明其排放污染物符合排放標準規定之具體替代監測方案，向本署申請認可後，依認可之監測方案作為替代管制依據。另依固定污染源空氣污染物連續自動監測設施管理辦法第 5 條第 2 項規定，同一污染源之排放氣體經二個以上排放管道排放時，每一排放管道應每一排放管道應設置監測設施。但排放量較小之排放管道，經主管機關核准者，得免予設置。
二、本案所詢半導體製造業以沸石吸附濃縮轉輪及熱氧化（焚化）設備處理其排放廢氣者，其熱焚化設備得否以監測燃燒爐膛溫度為濃度連續自動監測器設置之替代方案乙節，由於熱焚化設備之處理效率與燃燒溫度、燃燒氣體滯留時間及燃燒氣體混和程度等因子有關，倘僅監測操作時之燃燒溫度時，並無法反應出熱焚化設備之處理效率及揮發性有機物處理後之排放狀況。本案應提出足以證明其熱焚化設備燃燒條件與揮發性有機物排放削減率間之關係，並控制其操作溫度於排放削減率大於 90％ 所對應之溫度以上者，方得以其為替代監測方案，且其污染防制設備排放削減率應以沸石轉輪之廢氣導入口，同時計算沸石轉輪吸附後端之排放口及熱焚化設備後端排放口之總排放量削減百分率為準。
三、另有關熱焚化設備後端之排放管道得否適用固定污染源空氣污染物連續自動監測設施管理辦法第 5 條第 2 項規定免設置監測設施乙節，本案之焚化設備係用以處理其經沸石轉輪吸附濃縮後之高濃度揮發性有機物，且二者為缺一不可之整合性污染防制設備，並不適用前揭規定。
