資料來源：司法院法令判解系統
貴轄○○科技股份有限公司（以下簡稱○○公司）函詢半導體製造業空氣污染管制及排放標準之相關認定疑問一案。
要旨
貴轄○○科技股份有限公司（以下簡稱○○公司）函詢半導體製造業空氣 污染管制及排放標準之相關認定疑問一案，請查照。
內文
主 旨：貴轄○○科技股份有限公司（以下簡稱○○公司）函詢半導體製造業空氣污染管制及排放標準之相關認定疑問一案，請查照。
說 明：一、依固定污染源設置與操作許可證管理辦法（以下簡稱許可管理辦法）第 32 條規定，本辦法所稱之空氣污染物年許可排放量，其推估依據之順序為：「（一）公私場所固定污染源連續自動監測設施 1 年以上之監測資料。（二）公私場所依第 16 條第 1 項第 2 款執行之試車檢測報告數據，或主管機關或公私場所自行或委託執行 3 次以上之檢測報告數據。（三）經中央主管機關認可之揮發性有機物自廠係數。（四）中央主管機關公告之空氣污染物排放係數、控制效率、質量平衡計量方式。（五）其他經中央主管機關認可之排放係數或替代計算方式。」公私場所固定污染源之揮發性有機物（VOCs）排放量應依前項第 3 款至第 5 款規定推估排放量。但其固定污染源採密閉集氣系統收集 VOCs 至排放管道者，得以前項第 1 款或第 2 款推估排放量。
二、另依半導體製造業空氣污染管制及排放標準（以下簡稱半導體業排放標準）第 5 條第 1 項第 2 款及第 3 款規定，VOCs 年用量大於 50 噸之工廠，其 VOCs 防制設備之廢氣排放口應設置濃度監測器；VOCs 工廠總排放量大於等於 0.6 kg／hr 者，其 VOCs 防制設備之廢氣導入處及排放口應設置濃度監測器。
三、依○○公司提供製程相關資料，倘排放管道前端污染源設備涉及使用VOCs 原（物）料，則應依前揭規定裝設 VOCs 濃度監測器，另倘排放管道前端污染源設備未涉及使用 VOCs 原（物）料，且防制設備非屬處理 VOCs 空氣污染物，僅因製程氣採用天然氣燃燒方式產生 VOCs 空氣污染物，則該防制設備之廢氣導入處或排放口無需設置 VOCs濃度監測器。
四、有關○○公司詢問空氣污染物排放量估算合理性之疑問一節，公私場所申請固定污染源設置或操作許可證時，應依許可管理辦法第 32 條規定之推估依據順序進行估算空氣污染物年許可排放量，本署已公告「公私場所固定污染源申報空氣污染防制費之揮發性有機物之行業製程排放係數、操作單元（含設備元件）排放係數、控制效率及其他計量規定」及「採用質量平衡計算空氣污染物排放量之固定污染源計量方式規定」等排放係數、控制效率及質量平衡計量方式，倘公私場所排放空氣污染物無適用之係數引用或無法採用質量平衡計算空氣污染物排放量時，方得以其他經主管機關認可之排放係數或替代計算方式進行推估空氣污染物年許可排放量。公私場所 VOCs 空氣污染物排放量是否達半導體業排放標準規定需設置濃度監測器之條件，應依前揭規定推估空氣污染物排放量並經貴局審查核定後，方得據以認定之。
五、另有關○○公司詢問濃度監測器之監測頻率疑問，依半導體業排放標準第 5 條第 1 項第 4 款規定，流量計及濃度監測器之有效每季監測率應大於 80％ ，前述每季有效監測率係指每季污染源操作小時數扣除每季污染源操作期間連續自動監測器失效小時數後，再除以每季污染源操作小時數。現行半導體排放標準尚未明確規範小時監測紀錄值之計算原則，本署後續將檢討半導體業排放標準及相關法規，明確規範監測設施各監測紀錄值之計算原則規定。本案請貴局本權責依前揭規定查明及認定後，逕復該公司。
