資料來源：司法院法令判解系統
函詢半導體製造業之非濕式洗滌設備是否需向鈞署申請認可之疑義一案
要旨
函詢半導體製造業之非濕式洗滌設備是否需向鈞署申請認可之疑義一案， 復如說明，請查照。
內文
主 旨：函詢半導體製造業之非濕式洗滌設備是否需向鈞署申請認可之疑義一案，復如說明，請查照。
說 明：一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準（以下簡稱排放標準）第 4條規定，半導體製造業產生之空氣污染物應由密閉排氣系統導入污染防制設備，處理至符合相關規定後始得排放；硝酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸及硫酸等之廢氣，若以濕式洗滌設備處理，無法證明符合前項標準時，其控制條件應符合相關規定。
二、公私場所進行酸性廢氣污染物處理時，基於製程原物料含多種危害性氣體之安全考量，於製程機台與中央洗滌塔之間增設現地式處理設備，屬公私場所自主配合增設空氣污染防制措施。本署業於 107 年 3月 8 日環署空字第 1070012925 號函（諒達）說明公私場所以現地式處理設備與中央洗滌塔為空氣污染防制設備並以排放削減率作為排放標準時，倘因現地式處理設備前端管線呈現負壓狀態，欲進行採樣檢測作業會有吸入空氣引起燃燒爆炸等危險性之安全問題，致無法採樣檢測進入污染防制設備前之氣狀污染物質量流率時，則屬排放標準第 4 條第 2 項所稱無法證明符合前項標準之對象，得以控制條件符合相關規定。
三、針對半導體製造業之管道廢氣先以非濕式洗滌設備（如高溫、高溫裂解後水洗、電漿、觸媒轉化、吸附或其他等）處理後，再以濕式洗滌設備處理（如水洗塔），倘符合上述情形係屬排放標準第 4 條第 2項所稱無法證明符合前項標準者，得以濕式洗滌設備之控制條件符合相關規定，無需再向本署申請其他可證明同等處理效果或較優之控制條件認可。
