智慧財產及商業法院108年度民專上字第17號

• 裁判案由: 排除侵害專利權等
• 案件類型: 智財
• 審判法院: 智慧財產及商業法院
• 裁判日期: 109 年 01 月 09 日
• 法官: 汪漢卿、曾啟謀、彭洪英
• 法定代理人: 陳宗龍、陳雙發
• 上訴人: 莊永川
• 被上訴人: 昆慶工程有限公司法人、宏積工程有限公司法人、榮毅工程有限公司法人

智慧財產法院民事判決
108年度民專上字第17號上　訴　人　 莊永川

被上訴人　　 昆慶工程有限公司

兼法定代理人 陳宗龍

被上訴人 宏積工程有限公司

兼法定代理人 陳宗龍

被上訴人　　 榮毅工程有限公司

兼法定代理人 陳雙發

上五人共同
訴訟代理人　 陳瀅棻
上列當事人間排除侵害專利權等事件，上訴人對於中華民國108
年2 月11日本院107 年度民專訴字第69號第一審判決提起上訴，本院於108 年12月12日言詞辯論終結，判決如下：
主 文
上訴駁回。
第二審訴訟費用由上訴人負擔。
事實及理由
壹、上訴人主張：
上訴人為中華民國第I291507 號「模板及模板工程施工法」發明專利（下稱系爭專利）之發明人暨專利權人，申請日為民國（下同）90年1 月15日，核准公告日為96年12月21日。上訴人係自98年7 月16日至105 年3 月15日任職於昆慶工程有限公司（下稱昆慶公司），任職期間，昆慶公司並非登記有營造業得承攬模板工程之廠商，昆慶公司提供給業主的簡報（如原證四），係由上訴人繪製所需之模板工程施工圖說（下稱系爭圖說），其中若含有系爭專利的技術特徵部分，均有標註「發明第I292507 號」字樣，並於施工圖說中立有「智財產聲明」：「…需主動取得專利使用授權登記后施用；…」。詎昆慶公司之「國立臺灣大學醫學院附設癌醫中心醫院新建工程」（下稱系爭工程1 ）、「東京威力竹科廠房新建工程」（下稱系爭工程2 ），下合稱系爭工程，竟於送審通過，並按圖施工及執行後，並未給付專利授權金予上訴人。系爭工程的模板工程施工圖面、照片，皆有使用到系爭專利請求項11的施工方法，落入系爭專利請求項11之文義範圍。而昆慶公司之負責人為陳宗龍，工務經理為陳○○，陳○○、陳宗龍又共同投資○○工程有限公司（下稱○○公司）及○○工程有限公司（下稱○○公司），爰依專利法第58條、第96條、民法第195 條規定，請求被上訴人等在模板及模板工程業務上不得使用系爭專利與系爭圖說，其中昆慶公司並應在蘋果日報頭版刊登道歉啟事一天。
貳、被上訴人等則辯稱：
一、系爭工程1 施工照片如被上證5 所示，與系爭專利不同而無侵害系爭專利：
系爭專利全要件項目計有（1 ）枕托材、（2 ）樑底模、（3 ）繫條、（4 ）橫撐、（4-1 ）中間撐、（4-2 ）上部橫撐、（5 ）豎撐及（6 ）豎撐下部空間之水平構件。照片08- 10僅以C 型鋼固定繫條支撐樑模的側壓力，並無系爭專利中間撐及豎撐等要件，即非以系爭專利施作。系爭專利另案本院107 年度民專上字第5 號判決（原審被證18，第8 -12
頁）並指出上訴人以C 型鋼兩翼鈑為下部橫撐及中間撐等主張之不當且與系爭專利不同。系爭工程1 之照片11-14 （兩支點單豎撐形式）、15-18 （兩支點雙豎撐形式）業經上訴人肯認於豎撐上部之外側增加設置一橫向木角材，即與系爭專利不同，且兩支點工法的原理和特徵與系爭專利不同，自無侵害系爭專利。上訴人所提供之照片業經被上證6 及原審判決、及本院107 年度民專上字第5 號判決（原審被證18）等判決指有錯誤不當，並無侵害系爭專利。
二、上訴人以原審被證14系爭工程2 之模板應力計算書圖面及其提出之系爭工程1 之工地照片主張系爭工程2 使用系爭專利，並無提出系爭工程2 之施工照片，上訴人既未舉證系爭工程2 真實施工狀況果如原審被證14圖面，其僅以一紙圖面主張系爭工程2 侵害系爭專利實不足為憑。
三、上訴人任職昆慶公司負責繪製圖說和應力計算等工作，則製作並交付模板施工簡報和模板應力檢核計算書等厥為上訴人應服之勞務。上訴人亦知系爭專利並非完成工程唯一工法，但為了利益刻意選擇交付系爭專利，且拒絕僱主以其他工法繪圖之指示，則被上訴人未利用雇主威權指定使用系爭專利甚明。事實上，系爭專利自始即為上訴人主動繪製並同意供被上訴人和業主使用，已經眾多審級法院認定（原審被一證4 判決第16頁五、原審被一證5 判決第10頁⑶和被上證2 判決第8-10頁⒊參照）。且上訴人105 年3 月9 、10日寄發存證信函指控被上訴人拒不依其專利聲明取得授權係竊用系爭專利後，又於105 年3 月14日以「我設計專利要給你昆慶降低成本」、「我會保護你」、「什麼事都不會到你們這邊來」…等語，表示同意被上訴人使用且無指控被上訴人侵害系爭專利之意，可證上訴人註記專利權之聲明並非拒絕被上訴人使用或要求被上訴人取得授權方可使用系爭專利。
四、系爭專利有得撤銷之事由：
㈠原審被證10及本件被上證4 林勇73年6 月初版、80年6 月三版之著作「模板工程設計施工」，發行時間較系爭專利90年登記早了17年，可證系爭專利為「申請前已見於刊物者」，且該書第169 頁兩圖例具備系爭專利全要件項目並經上訴人標註如被上證4 ，系爭專利有專利法第22條第1 項第1 款得撤銷之事由。
㈡原審被證8 、9 及本件被上證3 ，前揭證物下方均有88年、1997年之拍攝日期，可證系爭專利為「申請前已公開實施者」，並經上訴人標註系爭專利全要件項目如被上證3 。上訴人雖以「被上訴人以設置繫條於樑底模下部，無法使樑側模對樑底模側邊產生反力」、「被證8 、9 須以大於系爭專利3 倍以上的豎撐材料才能完成…其全要件即無法達到系爭專利之功能。」（民事上訴準備狀第4-5 頁右欄二、三）辯駁，惟「被上訴人以設置繫條於樑底模下部」和系爭專利11D
「於該樑模穴…下部或予鋼筋底部之位置設置繫條」文義及特徵相同，系爭專利即有專利法第22條第1 項第2 款得撤銷之事由。另上訴人主張無法產生反力與其專利說明矛盾，材料用量亦無關有無侵害系爭專利之判斷。
㈢被上訴人在系爭專利申請前已在國內實施與系爭專利具有相同技術特徵之模板工法如被上證3 照片，縱認系爭專利有效，被上訴人仍得依專利法第59條於原有事業目的範圍內繼續利用該模板施工工法。
五、被上訴人並未於系爭工程侵害系爭專利，且系爭專利為上訴人職務上交付同意被上訴人使用；系爭專利之模板工法也早經被上訴人實施，並見於公開發行刊物，有無效事由，故上訴人之請求均無理由。
參、原審判決駁回上訴人之訴，上訴人提起上訴，上訴聲明：1.原判決應予廢棄。2.昆慶公司、○○公司、陳宗龍、○○公司、陳○○在模板及模板工程業務上不得使用發明I291507
號專利、專利說明書圖。3.昆慶公司應按附件（如原審107
年6 月21日更正訴之聲明及爭點整理二狀附件）之道歉啟事刊登蘋果日報版頭一天。4.第一、二審訴訟費用均由被上訴人負擔。被上訴人等答辯聲明：1.駁回上訴。2.第一及第二審訴訟費用均由上訴人負擔。
肆、兩造間之主要爭點（見本院卷二第11頁）：
一、被上訴人系爭工程是否有使用系爭專利請求項11之方法？
二、上訴人是否有與被上訴人及其客戶使用系爭專利請求項11之方法？
三、系爭專利是否具有應撤銷之事由？
四、上訴人請求被上訴人不得使用系爭專利及專利說明書圖，是否有理由？
五、上訴人請求被上訴人昆慶工程有限公司應將道歉啟事（如原審107 年6 月21日更正訴之聲明及爭點整理二狀附件所示）刊登於蘋果日報版頭一天，是否有理由？
陸、得心證之理由：
一、系爭專利技術分析：
㈠系爭專利申請專利範圍分析：
系爭專利申請專利範圍共139 項，第1 至48項為獨立項，其餘為附屬項，上訴人主張系爭工程1 、2 侵害請求項11之文義範圍。上訴人曾於106 年7 月5 日申請更正請求項11，並經經濟部智慧財產局准予更正，更正後之內容如下：
一種模版工程施工法，主要係指於一模版工程之柱、樑或柱、樑、版或樑、版模穴部之樑模穴，配合於其樑側模之外側予設製一外豎撐，而使其（於繫條下部之樑底模側邊或樑底模下部之枕托材兩端或向下延伸豎撐空間之水平構件兩端）對一樑模穴下部之繫結（條）支點產生一隨遇反力矩，而作於一隨遇平衡力矩支撐（承）一樑模穴之側壓力，並減除所需於一樑模穴上部之繫結；與使一模版工程所需配合於建造一結構體之施工程序中，予避免因在其樑模穴（結構）所需予施作綁鋼筋程序之影響，予節減施工程序，而於提早完工者；其主要特徵，係在於一模版工程之柱、樑或柱、樑、版或樑、版模穴部之樑模穴（下部無牆模穴之樑模穴）施作上，用以一外豎撐配合於一樑模穴予支承其下部繫條之方式，而於共同支承於該樑側模之下部橫撐（下背撐）與其架接橫撐（中間撐）或支撐至上部橫撐（上背撐）上；而可配合於設置該豎撐，予支承至該樑模穴之樑底模側邊或下部所設置之枕托材兩端或向下延伸豎撐空間之水平構件兩端上；則於灌漿中，（1 ）即於該豎撐下部之支點（樑底模側邊）或枕托材兩端上之支點，產生一對繫結支點之隨遇反力矩；而於平衡該樑模穴之側壓力所作用至繫結支點上部之各橫撐上所產生之作用力，對繫結支點之力矩；而成於一隨遇平衡力矩支承於該樑模穴之側壓力者；或（2 ）於其非於樑底模立柱支承位置之繫結點，仍可以，於該樑豎撐下部之支點，或配合於其樑側模兩側或一側所設置之外豎撐下部之空間，予設置一水平支撐（構件），作為於該豎撐之下部支承；而作於模穴灌漿中，產生一對繫結支點之隨遇反抗力矩，予平衡於該樑模穴之側壓力作用於繫結支點上部之各橫撐上，所產生對繫結支點之力矩；而於一隨遇平衡力矩支承於該樑模穴之側壓力者；則於該樑模穴，為僅需於其模穴之下部或予鋼筋底部之位置予設置繫條；並於一模版工程所需配合於建造一結構體之施工程序中，避免因在其樑模穴所需予施作綁鋼筋之影響，而於提早完工者。
㈡系爭專利主要圖式如附圖一所示。
二、系爭工程之技術內容：
㈠上訴人於原審主張「「台大癌醫工程」、「東京威力工程」、「永聯瑞芳工商綜合區B6區物流倉儲廠房工程」、「台灣積體電路製造股份有限公司15P5、15P6、15P7之廠房新建工程」之模板工程，均侵害系爭專利請求項11，嗣於本院108
年9 月4 日準備程序筆錄，經本院命其提出上開工程之相關照片，以證明上開工程有侵害系爭專利之事實，上訴人稱其僅主張「台大癌醫工程」、「東京威力工程」二項工程（見本院卷一第465 頁），故本院僅就上開二項工程予以審究，合先敘明。
㈡系爭工程1：
系爭工程1 係被上訴人於104 年所承攬「台大癌醫工程」之板模施工照片，其中兩造各自提出之現場照片如附圖二所示（見上訴人108 年6 月3 日上訴理由狀所附照片，被上訴人108年9月23日民事答辯三狀所附照片）。
㈢系爭工程2：
系爭工程2 係被上訴人於97年所承攬「東京威力工程」，被上訴人有提出該工程之模板應力計算書圖面（原審民事答辯四狀之被證14，見原審卷二第275-277 頁），如附圖三所示。上訴人自承其並無系爭工程2 之現場照片，惟主張由系爭工程2 之施工圖可以看出，其使用的工法與「台大癌醫工程」相同，故亦侵害系爭專利請求項11。
三、系爭工程1 是否落入系爭專利請求項11之文義範圍？
㈠系爭工程1與系爭專利請求項11之文義比對分析說明：
⒈經解析系爭專利請求項11範圍，其技術內容可解析為4 個要件，分別為：
⑴要件編號11A ：「一種模版工程施工法，主要係指於一模版工程之柱、樑或柱、樑、版或樑、版模穴部之樑模穴，配合於其樑側模之外側予設製一外豎撐，而使其（於繫條下部之樑底模側邊或樑底模下部之枕托材兩端或向下延伸豎撐空間之水平構件兩端）對一樑模穴下部之繫結（條）支點產生一隨遇反力矩，而作於一隨遇平衡力矩支撐（承）一樑模穴之側壓力，並減除所需於一樑模穴上部之繫結；與使一模版工程所需配合於建造一結構體之施工程序中，予避免因在其樑模穴（結構）所需予施作綁鋼筋程序之影響，予節減施工程序，而於提早完工者；」；
⑵要件編號11B ：「其主要特徵，係在於一模版工程之柱、樑或柱、樑、版或樑、版模穴部之樑模穴（下部無牆模穴之樑模穴）施作上，用以一外豎撐配合於一樑模穴予支承其下部繫條之方式，而於共同支承於該樑側模之下部橫撐（下背撐）與其架接橫撐（中間撐）或支撐至上部橫撐（上背撐）上；而可配合於設置該豎撐，予支承至該樑模穴之樑底模側邊或下部所設置之枕托材兩端或向下延伸豎撐空間之水平構件兩端上；」；
⑶要件編號11C ：「則於灌漿中，（1 ）即於該豎撐下部之支點（樑底模側邊）或枕托材兩端上之支點，產生一對繫結支點之隨遇反力矩；而於平衡該樑模穴之側壓力所作用至繫結支點上部之各橫撐上所產生之作用力，對繫結支點之力矩；而成於一隨遇平衡力矩支承於該樑模穴之側壓力者；或（2 ）於其非於樑底模立柱支承位置之繫結點，仍可以，於該樑豎撐下部之支點，或配合於其樑側模兩側或一側所設置之外豎撐下部之空間，予設置一水平支撐（構件），作為於該豎撐之下部支承；而作於模穴灌漿中，產生一對繫結支點之隨遇反抗力矩，予平衡於該樑模穴之側壓力作用於繫結支點上部之各橫撐上，所產生對繫結支點之力矩；而於一隨遇平衡力矩支承於該樑模穴之側壓力者；」；
⑷要件編號11D ：「則於該樑模穴，為僅需於其模穴之下部或予鋼筋底部之位置予設置繫條；並於一模版工程所需配合於建造一結構體之施工程序中，避免因在其樑模穴所需予施作綁鋼筋之影響，而於提早完工者。」。
⒉系爭工程1 對應系爭專利請求項11各要件之技術特徵，可解析為4 個要件，分別為：
⑴要件編號11a ：「一種模版工程施工法，係於一模版工程之柱、樑、版之樑模穴，配合於樑側模之外側設置一外豎撐，而使繫條下部之樑底模側邊對樑模穴下部之繫條支點產生一隨遇反力矩，而作為一隨遇平衡力矩以支撐樑模穴之側壓力，並減除所需於一樑模穴上部之繫條；」；
⑵要件編號11b ：「於一模版工程之柱、樑、版之樑模穴施作上，以一外豎撐配合於一樑模穴予支承其下部繫條之方式，而共同支承於該樑側模之下部橫撐與上部橫撐上；而可配合於設置該外豎撐，予支承至該樑模穴之樑底模側邊或下部所設置之枕托材兩端；」；
⑶要件編號11c ：「該外豎撐下部之樑底模側邊或枕托材兩端上之支點對繫條支點產生隨遇反力矩；」；
⑷要件編號11d ：「於該樑模穴之下部位置予設置繫條，不需於樑模穴上部設置繫條。」。
㈡就系爭工程1 與系爭專利請求項11之各要件（要件編號11A
至11D ）特徵的文義比對：
⒈要件編號11A 特徵：
由兩造提供之系爭工程1 照片可知，系爭工程1 係一種模版工程施工法，係於一模版工程之柱、樑、版之樑模穴，配合於樑側模之外側設置一外豎撐，而使繫條下部之樑底模側邊對樑模穴下部之繫條支點產生一隨遇反力矩，而作為一隨遇平衡力矩以支撐樑模穴之側壓力，並減除所需於一樑模穴上部之繫條，故從系爭工程1 可以讀取到系爭專利請求項11要件編號11A 「一種模版工程施工法，主要係指於一模版工程之柱、樑或柱、樑、版或樑、版模穴部之樑模穴，配合於其樑側模之外側予設製一外豎撐，而使其對一樑模穴下部之繫結（條）支點產生一隨遇反力矩，而作於一隨遇平衡力矩支撐（承）一樑模穴之側壓力，並減除所需於一樑模穴上部之繫結；與使一模版工程所需配合於建造一結構體之施工程序中，予避免因在其樑模穴（結構）所需予施作綁鋼筋程序之影響，予節減施工程序，而於提早完工者；」之特徵。
⒉要件編號11B 特徵：
由兩造提供之系爭工程1 照片可知，系爭工程1 於一模版工程之柱、樑、版之樑模穴施作上，以一外豎撐配合於一樑模穴予支承其下部繫條之方式，而共同支承於該樑側模之下部橫撐與上部橫撐上；而可配合於設置該外豎撐，予支承至該樑模穴之樑底模側邊或下部所設置之枕托材兩端，故從系爭工程1 可以讀取到系爭專利請求項11要件編號11B 「其主要特徵，係在於一模版工程之柱、樑或柱、樑、版或樑、版模穴部之樑模穴（下部無牆模穴之樑模穴）施作上，用以一外豎撐配合於一樑模穴予支承其下部繫條之方式，而於共同支承於該樑側模之下部橫撐（下背撐）與其架接橫撐（中間撐）或支撐至上部橫撐（上背撐）上；而可配合於設置該豎撐，予支承至該樑模穴之樑底模側邊或下部所設置之枕托材兩端或向下延伸豎撐空間之水平構件兩端上；」之特徵。
⒊要件編號11C 特徵：
⑴由兩造提供之系爭工程1 照片可知，系爭工程1 該外豎撐下部之樑底模側邊或枕托材兩端上之支點對繫條支點產生隨遇反力矩，惟兩造僅提供樑模穴模板架設過程中的部分照片，該些照片並非灌漿中樑模穴模板架設之狀態，無法用以證明灌漿中該外豎撐所承受作用力矩的平衡狀態，即灌漿中該外豎撐下部之樑底模側邊或枕托材兩端上之支點對繫條支點所產生之隨遇反力矩是否僅與繫條支點上部之各橫撐上之作用力對繫條支點所產生之力矩相互平衡，而未涉及其他構件之作用力對繫條支點所產生之力矩。
⑵退而言之，由上訴人所提之照片（b ）可知，於上訴人所標註「樑側模」構件之兩端仍有兩構件抵頂著該樑側模，該兩構件的存在自然會影響灌漿中外豎撐之力矩平衡狀態。另由上訴人所提之照片（c-2-2 ）可知，其在外豎撐上部外側固定有一橫向木角材，此與被上訴人所提照片11至13、15至18相同均在外豎撐上部外側固定有一橫向木角材，由照片11至13可知，該橫向木角材上方亦有另一構件跨越樑模穴而固定兩邊之橫向木角材或樑側模，該構件的存在自然會影響灌漿中外豎撐之力矩平衡狀態。又由更大範圍之模板照片15可知，在工作人員站立處前方之外豎撐上部除了外側固定有一橫向木角材外，於該橫向木角材外側亦有另一構件抵頂住該橫向木角材，該些構件的存在自然會影響灌漿中外豎撐之力矩平衡狀態。再者，兩造提供之照片亦無法辨識外豎撐下部之空間，是否具有水平支撐（構件），自不會在水平支撐構件支點產生隨遇反抗力矩。故從系爭工程1 無法讀取到系爭專利請求項11要件編號11C 「則於灌漿中，（1 ）即於該豎撐下部之支點（樑底模側邊）或枕托材兩端上之支點，產生一對繫結支點之隨遇反力矩；而於平衡該樑模穴之側壓力所作用至繫結支點上部之各橫撐上所產生之作用力，對繫結支點之力矩；而成於一隨遇平衡力矩支承於該樑模穴之側壓力者；或（2 ）於其非於樑底模立柱支承位置之繫結點，仍可以，於該樑豎撐下部之支點，或配合於其樑側模兩側或一側所設置之外豎撐下部之空間，予設置一水平支撐（構件），作為於該豎撐之下部支承；而作於模穴灌漿中，產生一對繫結支點之隨遇反抗力矩，予平衡於該樑模穴之側壓力作用於繫結支點上部之各橫撐上，所產生對繫結支點之力矩；而於一隨遇平衡力矩支承於該樑模穴之側壓力者；」之特徵。
⒋要件編號11D特徵：
由兩造提供之系爭工程1 照片可知，系爭工程1 於該樑模穴之下部位置予設置繫條，不需於樑模穴上部設置繫條，故從系爭工程1 可以讀取到系爭專利請求項11要件編號11D 「則於該樑模穴，為僅需於其模穴之下部或予鋼筋底部之位置有設置繫條；並於一模版工程所需配合於建造一結構體之施工程序中，避免因在其樑模穴所需予施作綁鋼筋之影響，而於提早完工者。」之特徵。
㈢綜上所述，系爭工程1 並未為系爭專利請求項11要件編號11C 所文義讀取，基於全要件原則，系爭工程1 未落入系爭專利請求項11之文義範圍。
㈣上訴人於108 年10月18日民事爭點整理狀（二）第2 頁第（七）點主張：被上證5 之照片11-14 、15-18 ，雖被上訴人於豎撐上部之外側增加設置一橫向的外部木角條，但因豎撐下部為已支承於樑底模側邊上，樑模穴之側壓力已因豎撐下端支承於樑底模側邊產生之反作用力，完成支撐樑模穴側壓力之功效，並無須設置豎撐上部外側邊之橫向木角條云云（見本院卷一第495 頁）。惟查，系爭專利請求項11要件編號11C 所界定的力矩平衡狀態係樑模穴於灌漿中的狀態，上訴人甚至被上訴人所提出之照片均非灌漿中樑模穴模板架設之狀態，自無法以該些照片來認定該外豎撐之受力狀態，先予指明。再者，上訴人雖稱無須設置豎撐上部外側邊之橫向木角條，然上訴人所提照片（c-2-2 ）同樣在外豎撐上部外側固定有一橫向木角材，且由被上訴人所提更大範圍之模板照片15可知，在工作人員站立處前方之外豎撐上部除了外側固定有一橫向木角材外，於該橫向木角材外側亦有另一構件抵頂住該橫向木角材，該些構件均會對外豎撐之力矩平衡產生影響，故上訴人稱無須設置豎撐上部外側邊之橫向木角條，顯不足採。
㈤上訴人於108 年6 月3 日民事上訴理由書第11至12頁第六點又主張：系爭方法專利所製成之物在該法申請專利前，為國內外所未見，依專利法第99條第1 項規定，應推定使用系爭專利工法所製造云云（見本院卷一第81-82 頁）。惟按，製造方法專利所製成之物在該製造方法申請專利前，為國內外未見者，他人製造相同之物，推定為以該專利方法所製造，專利法第99條第1 項固定有明文，惟如系爭專利界定之製造方法所製得之物，並非在該製造方法申請專利前為國內外未見，自無適用上開規定之餘地。查被證10（即1984年6 月林勇編著之「板模工程設計施工」一書第169 頁圖（13-84 ）（見原審卷二第145 頁）已揭露於樑模穴上、下部設置繫條的施工方法（如附圖四），是以在樑模穴設置繫條所製成包覆有繫條之樑並非國內外所未見之物，上訴人之發明僅係將現有已存在具有上、下部繫條的樑模穴改良成僅具有單一下部繫條的樑模穴，而用以製成包覆有繫條之樑，該包覆有繫絛之樑既非國內外所未見，自無法適用專利法第99條第1 項，推定系爭工程1 所製成之樑為使用系爭專利之方法所製成之物，上訴人上開主張，並不足採。
四、系爭工程2 是否落入系爭專利請求項11之文義範圍？
被上訴人於原審民事答辯四狀所提出之被證14（見原審卷二第275-277 頁）為「東京威力工程」之模板應力計算書圖面，並非灌漿中樑模穴模板架設之狀態，無法用以證明灌漿中該外豎撐所承受作用力矩的平衡狀態。況且被證14僅係單一視角圖，無法得知其側面之結構狀態，尚難據以認定灌漿中該外豎撐下部之樑底模側邊之支點對繫條支點所產生之隨遇反力矩是否僅與繫條支點上部之各橫撐上之作用力對繫條支點所產生之力矩相互平衡，而未涉及其他構件之作用力對繫條支點所產生之力矩。故從系爭工程2 無法讀取到系爭專利請求項11要件編號11C 「則於灌漿中，⑴即於該豎撐下部之支點（樑底模側邊）或枕托材兩端上之支點，產生一對繫結支點之隨遇反力矩；而於平衡該樑模穴之側壓力所作用至繫結支點上部之各橫撐上所產生之作用力，對繫結支點之力矩；而成於一隨遇平衡力矩支承於該樑模穴之側壓力者；或⑵於其非於樑底模立柱支承位置之繫結點，仍可以，於該樑豎撐下部之支點，或配合於其樑側模兩側或一側所設置之外豎撐下部之空間，予設置一水平支撐（構件），作為於該豎撐之下部支承；而作於模穴灌漿中，產生一對繫結支點之隨遇反抗力矩，予平衡於該樑模穴之側壓力作用於繫結支點上部之各橫撐上，所產生對繫結支點之力矩；而於一隨遇平衡力矩支承於該樑模穴之側壓力者；」之特徵。綜上所述，系爭工程2 並未為系爭專利請求項11要件編號11C 所文義讀取，基於全要件原則，系爭工程2 未落入系爭專利請求項11之文義範圍。
五、綜上所述，系爭工程1 、2 並未落入系爭專利請求項11之文義範圍，被上訴人並未侵害系爭專利請求項11，從而，上訴人依專利法第58條、第96條第1 項、民法第195 條之規定，請求被上訴人等在模板及模板工程業務上不得使用系爭專利與系爭圖說，其中被上訴人昆慶公司並應在蘋果日報頭版刊登道歉啟事一天，均無理由，不應准許。原審為上訴人敗訴之判決，並無不合，上訴意旨指摘原判決不當，求予廢棄改判，為無理由，應予駁回。
六、本件上訴人不能證明系爭工程1 、2 落入系爭專利請求項11，被上訴人並未侵害系爭專利權，則兩造有關系爭專利是否具有應撤銷之事由，已無審究之必要。本件事證已明，兩造其餘之攻擊防禦方法及證據，經本院斟酌後，認為均不影響本判決之結果，爰不予一一論述，附此敘明。
七、據上論結，本件上訴為無理由，依智慧財產案件審理法第1
條，民事訴訟法第449 條第1 項、第78條，判決如主文。
中　　華　　民　　國　　109　 年　　1　　 月　　9　　 日智慧財產法院第二庭
審判長法　官　汪漢卿
法　官　曾啟謀
法　官　彭洪英
以上正本係照原本作成。
如不服本判決，應於收受送達後20日內向本院提出上訴書狀，其未表明上訴理由者，應於提出上訴後20日內向本院補提理由書狀(均須按他造當事人之人數附繕本) ，上訴時應提出委任律師或具有律師資格之人之委任狀；委任有律師資格者，應另附具律師資格證書及釋明委任人與受任人有民事訴訟法第466 條之1 第1
項但書或第2 項（詳附註) 所定關係之釋明文書影本。如委任律師提起上訴者，應一併繳納上訴審裁判費。
中　　華　　民　　國　　109　 年　　1　　 月　　9　　 日書記官　郭宇修
附註：
民事訴訟法第466條之1(第1項、第2項)
對於第二審判決上訴，上訴人應委任律師為訴訟代理人。但上訴人或其法定代理人具有律師資格者，不在此限。
上訴人之配偶、三親等內之血親、二親等內之姻親，或上訴人為法人、中央或地方機關時，其所屬專任人員具有律師資格並經法院認為適當者，亦得為第三審訴訟代理人。