臺北高等行政法院判決

100年3 月24日辯論終結

原告

西盟科技有限公司

代表人

張正瑤（董事長）

訴訟代理人

許兆慶 律師（兼送達代收人）

訴訟代理人

任芳儀 律師

訴訟代理人

李訓鋒 會計師

被告

財政部臺北關稅局

代表人

曾瑞育（局長）

訴訟代理人

陳字宏

張小純

上列當事人間進口貨物核定稅則號別事件，原告不服財政部中華民國99年8 月9 日台財訴字第09900153170 號訴願決定，提起行政訴訟，本院判決如下：

主文

事實及理由

一、程序事項：本件被告代表人原為饒平，訴訟中依序變更為翁鈴江、曾瑞育，業據各該新任代表人提出承受訴訟狀聲明承受訴訟，核無不合，應予准許。

二、事實概要：原告委由鴻藍企業有限公司於民國97年12月至98年4 月間向被告報運進口「LINE NARROWING MODULE （LNM/ LNP）」計20批（報單號碼：第CS/D2/98/320/70183號等20份，詳訴願決定附表），原申報稅則號別為第9010.90.30號（依2002年版國際商品統一分類制度註解中文版劃分，以下稱H.S.註解；97年12月31日廢止）及第8486.90.00號（依2007年H.S.註解劃分；98年1 月1 日開始實施），即專供或主要供製造半導體晶柱或晶圓、半導體裝置、積體電路與平面顯示器之機器、器具之零件及附件，稅率為FREE，經電腦篩選按免審免驗（C1）方式通關放行。嗣經被告事後審核結果，均改列稅則號別為第9013.90.90號，按稅率2.5%課徵，並以98年6 月24日北竹字第0980100534號函檢送「海關進口貨物各項稅款繳納證」計20份補徵稅費，另依關稅法第65條規定加計利息（下稱原處分）。原告不服，申經被告復查決定，准予撤銷報單號碼第CS/D2/97/320/73796、CS/D2/97/320/73832及CS/D 2/97/320/73835 號核定補徵稅款之處分，其餘復查未准變更，原告猶有未服，提起訴願，遭決定駁回後，遂提起本件行政訴訟。

三、原告主張略以：

㈠系爭貨物係專用於半導體製程中微影技術系統，其功能係接收雷射發出的光，使光的波長更加穩定，光的波長分佈更窄，以達到更理想的半導體製程目的，其性質並非「雷射」、「雷射基本原件」或「雷射之零件或附件」，系爭貨物除搭配使用於半導體製程顯影技術之用外，並無其他獨立功能：系爭貨物之性質及功能，原告提出專家意見書，包括張勁燕教授之專家意見書、徐仲偉先生之聲明書以及陳維恕博士之專家意見書（原證1 、2 、5 ），說明其性質及功能如下：

⒈系爭貨物「SPARE，LINE NARROWING MODULE(PACKAGE)LNM(LNP)」（中譯為「頻寬壓縮模組」或「線變窄模組」），係專用於半導體製程中。半導體積體電路量產製程中必須使用微影技術系統(Photolithography system)，透過微影技術系統，將光罩上的圖案照射到半導體晶圓上，經過顯影，烘烤等製程，使晶圓上有了圖案，之後，晶圓就可以選擇性地作為後續製程之用。為了達到更小尺寸的積體電路產品，微影技術系統需要特殊的光源。晶圓曝光製程中的理想光源必須滿足兩個條件，首先，光的波長要短，其次，光的波長分佈要窄。倘若波長分布過寬時，光的頻率相對不穩定，而雷射的能量與光之頻率成正比關係，所以當頻率不穩定時，即表雷射能量不穩定，從而即無法符合晶圓曝光所需的理想光源要求。

⒉針對「光的波長要短」的條件，目前已有進步的氟化氪(KrF) 和氟化氬(ArF) 準分子雷射光源(excimer laser) ，其波長分別為248nm(奈米) 、193nm 。這兩種準分子雷射光源已滿足了波長要短的條件。至於「光的波長分佈要窄」的條件，就必須使用專門設計用來滿足「光的波長分佈要窄」的條件的設備，線變窄模組的主要功能就在於此，其接收雷射發出的光，使光的波長更加穩定，光的波長分佈更窄，以達到更理想的半導體製程目的。

⒊系爭貨物並非「雷射」、「雷射基本元件」或「雷射之零件或附件」；雷射是光源的一種，而系爭貨物則是處理光源的設備。若以日常生活用品作對比，系爭貨物就如同濾水器，而雷射就如同自來水本身，自來水經過濾水器的淨化處理後達到更適合飲用的水質，雷射經過系爭貨物的窄化處理後成為半導體製程中更理想的曝光光源。就此，被告於99年12月24日所提出之行政訴訟補充答辯狀㈠第3 頁，亦承認其先前之違誤，認為「被告亦認定本案系爭貨物LNM(LNP)非屬『雷射』、『雷射基本元件』或『雷射之零件或附件』」，足見原處分及原訴願決定，確有事實認定之違誤。

⒋系爭貨物亦非雷射光源機之專用零件或附件；雷射光源機是製造、產生雷射光源的機器設備，系爭貨物並無製造、產生雷射光源的功能；系爭貨物是在接受雷射光源機所製造、產生的雷射光，將雷射光加以窄化處理的設備。

⒌系爭貨物接收雷射發出的光後，須與掃描步進照像機或逐步重複照像機整合，經光學規格及能量校正，才能於感光性晶圓上產生曝光效果，性質上並無法獨立應用或直接使其具有其他功能。系爭貨物處理雷射光源機所製造、產生之光束後，將光束傳送至半導體製程中的掃描步進照像機或逐步重複照像機，使光束經光罩將晶圓表面的感光膜上曝光，才能發揮半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）功能，若欠缺系爭貨物，則無法發揮半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）功能；此外，系爭貨物除專用於半導體製程之光蝕刻功能外，亦無獨立之用途。

⒍系爭貨物是處理（窄化）雷射光源之零件或附件，其功能在接收各種波長之光束後，調整波長分布，將調整後之光束傳送至掃描步進照像機或逐步重複照像機，以供半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）工程之用。因此系爭貨物係屬雷射光源設備所加裝之特別輔助設備，而使該光源設備成為明確專用於半導體製程特殊光源要求之設計；是以，系爭貨物明確專用於微影技術系統，無其他獨立用途。就此，被告於99年12月20日所提出之行政訴訟補充答辯狀㈠第5 頁，亦認為系爭貨物係專為半導體製程特殊光源要求所設計使用，有明確功能，無其他用途。

⒎小結：原處分及原訴願決定對於系爭貨物本身之性質與功能，均有明顯事實認定上之違誤，無可維持。

㈡系爭貨物係屬「將電路圖投影或繪圖在感光性半導體上之器具」之零附件，應歸類於稅則號別第9010.90.30號或第8486.90.00號：

⒈按「本稅則各號別品目之劃分，除依據本稅則類、章及其註，各號別之貨名及解釋準則之規定外，並得參據關稅合作理事會編纂之『國際商品統一分類制度註解』及其他有關文件辦理。」及「類、章及分章之標題，僅為便於查考而設；其分類之核定，應依照稅則號別所列之名稱及有關類或章註為之……。」分別為海關進口稅則總則及海關進口稅則解釋準則所明定。依2002年版H.S.(H.S.02) 海關進口稅則號別第9010.90.30號為「第9010.41 至9010.49 目所屬器具之零件及附件」，第1 欄稅率為FREE；稅則號別第9013 .90.90 號為「其他第9013節所屬物品之零件及附件」，第1 欄稅率為2.5%。而依關稅總局網站公告之H.S.2002年版與2007年版(H.S.07) 新舊稅號對照表中，H.S.02之第9010.9030號即為H.S.07之第8486.90.00號。

⒉被告及財政部完全未考慮『將電路圖投影或繪圖在感光性半導體材料上的器具』與『雷射光源設備』之區別，亦未深究原告零件之用途，逕以：「足認系爭貨物顯為微影雷射光源機之專用零件」云云，將系爭貨物歸列稅則第9013.90.90號，原告無法信服。蓋2002年版H.S.註解第90.10 章(I) 之(N) 中，已說明90.10 節包括「將電路圖投影或繪圖在感光性半導體材料上的器具，用於電子積體電路的製作上」。此類器具係將線路圖樣在預為塗敷於半導體晶圓表面的感光膜上曝光。該設備包括下列類型的器具：⑴使用光罩或網線之器具。……在上述器具內，塗敷於半導體晶圓上之感光膜受光照而曝光（常用紫外線或超紫外線- 例如系爭貨物即是如此），或在某些情況下，俟光罩或網線與重疊之圖樣適當對準後，利用Ｘ光透射光罩或網線而曝光。上述器具包括下列類型：……(c) 掃描校準器。此一器具係利用光學投影系統將照亮之弧光自光罩面映影於晶圓表面。掃描系統將光罩與晶圓移動經過弧光，俾將光罩上之圖樣複印於感光性晶圓上。(d) 逐步及重複校準器。此一器具係利用投影技術將晶圓按區域逐一進行曝光作業。曝光作業時將網線以原尺寸或加以縮小比例印製。」

⒊復按，2002年版H.S.註解第90.10 章之「零件及附件」中，亦清楚說明「零件及附件可確認為專用於或主要用於本節的器具或設備者，亦歸入本節。」。

⒋系爭貨物係半導體製程微影照像系統專用且不可或缺之零件或附件，屬於專用於「掃描校準器」及「逐步重複校準器」等器具之零件或附件，此有逢甲大學張勁燕教授所出具之專家意見書（原證1 ）及訴外人即原告產品主要銷售廠商ASML公司之專業人員徐仲偉先生所出具之聲明書（原證2 ），可資參酌。以下謹整理上述專家意見書及聲明書，就系爭貨物之用途詳述之：

⑴微影照像系統(Photolithography system) 為半導體積體電路量產製程中必須且關鍵的技術，其目的是將光罩上的圖案照射到晶圓上，經過顯影，烘烤等製程，使晶圓上產生圖案，以進行後續的製程。

⑵微影照像設備主要由光源、光學系統（透鏡負責聚焦，稜鏡負責散光，以便過濾光波，選擇某單一波長的光線，面鏡改變方向，使照像設備不至於太大，而且操作方便）、電子或電腦系統、機械系統等組成。

⑶為達半導體製程之目的，此微影照像設備需要特殊之光源。理想光源必須滿足兩個條件，第一，光的波長要短，第二，光的波長分佈要窄，目前微影照像多採用氟化氪(KrF) 和氟化氬(ArF) 準分子雷射光源(ex-cimer laser)，進行曝光顯影，其波長分別為248nm（奈米）、193nm （奈米）。這兩種準分子雷射光源明顯滿足的波長短的條件。惟單單此兩種準分子雷射光源所產生之光束分佈仍然過寬，因為需要系爭貨物「線變窄模組」接收準分子雷射所產生之光束後，調整波長分布，將調整後之光束經光罩將晶圓表面上的感光材料曝光，藉此在晶圓表面定義電路，以利進行後續之蝕刻製程。

⑷系爭貨物線變窄模組，用於接收並調整準分子雷射所產生之光束。是以，系爭貨物並非雷射基本元件，而係如張教授之專家意見書第2 頁中段所謂：「在雷射基本元件以外，專門設計用來滿足第二種要求的設備（按：波長分佈要窄的要求）」調整雷射所產生之光束，使光的波長更加穩定，光的波長分佈更窄。

⑸系爭貨物調整光束後，即將光束傳至掃描步進照像機（即「掃描校準器」）或步進重複照像機（即「逐步重複校準器」），俾將光罩上之圖樣蝕刻於感光性晶圓。換言之，系爭貨物係專用於搭配「掃描校準器」或「逐步重複校準器」之零件，以利半導體之製程。若無系爭貨物調整光束，則無法產生半導體製程所需之特殊光源，進行曝光顯影。

⑹綜上所述，系爭貨物實係專用於將電路圖投影或繪圖在感光性半導體材料上的器具，如「掃描校準器」及「逐步重複校準器」等器具不可或缺之零件或附件，而屬於2002年版H.S.註解第90.10 章之「零件及附件」中，「零件及附件可確認為專用於或主要用於本節的器具或設備者，亦歸入本節。」之情形，而應歸類9010.90 或2007年H.S.註解8486.90.00一節（兩者比較詳參後述，以及附件7 ），至屬明確。

⒌被告亦曾於稅則疑義資料清表序號00000000（附件8 ），表示系爭貨物為「步進機光源零件」（按：步進機即為「掃描校準器」及「逐步重複校準器」等器具），詎被告機關之復查決定及財政部之訴願決定，竟毫無理由捨棄並翻異此項見解，從而作成原處分及復查決定，其論理之瑕疵及矛盾與認事用法之違誤，至臻明確實令原告費解。

⒍被告復查決定及財政部訴願決定，並未詳細說明何以系爭貨物非屬於專用於「掃描校準器」及「逐步重複校準器」等器具之零件或附件（從而應歸類於9010.90 或8486.90.00一節），僅依其片面且錯誤認定系爭貨物屬於雷射之零件及附件而歸於9013.90 一節，完全忽略9010.90 適用之可能性，此等處分行為欠缺充分理由，有違明確性原則，難昭信服；況且，被告業已自認系爭貨物並非雷射、雷射零件或雷射基本元件等情，業如前述，從而，原處分及原訴願決定均錯將系爭貨物歸類於9013節之事實，自堪認定。

㈢系爭貨物不應歸類為稅則號別第9013.90.30雷射之零、附件：

⒈按2002年版H.S.註解第90.13 節中說明本節包括：「⑵雷射，波長範圍在十億分之一米和1 厘米之間（紫外線、可見光和紅外線光譜範圍內），由控制受激發射之過程產生或放大電磁輻射。當雷射媒體（例如：晶體、氣體、液體化學物）由於電激發光或其他能量作用而激發之光，在雷射媒體內部會產生光束，一直反覆的反射和放大，此相關光束（可見或不可見光）將從半透明的一端射出。除了雷射媒體外，能源（泵唧系統Pumping system）及光學空腔諧振器（反射系統），也就是結合在雷射頭（可能具有法布里一珀羅干涉儀，干涉濾光鏡和分光儀）之基本元件。」。

⒉系爭貨物非屬雷射媒體，亦非雷射基本元件，此有張勁燕教授著作內之準分子雷射系統示意圖可知（原證3 ）。系爭貨物之功能，承前所述，係接收並調整雷射所產生之光束，使該光束得以符合半導體所需之特殊之光源，而搭配「掃描校準器」或「逐步重複校準器」，以利半導體之製程，並非雷射基本元件，彰彰甚明。

⒊被告復查決定及財政部訴願決定固均以「自網站查得Line-Narrowing即係利用法布里- 珀羅干涉儀作為穩頻、濾光、折射等之功能，自屬上開雷射光源機之主要及專用零件」云云，因認系爭貨物應歸於9013節。惟查：

⑴被告未提供網站來源等相關資料供原告參考，亦未求證該網站上之資料是否可信，即依此作為處分基礎，欠缺明確性原則。

⑵H.S.註解第90.13 節說明中提及「法布里一珀羅干涉儀」，係在解釋某些雷射基本元件之產生原理。蓋「法布里一珀羅干涉儀」之原理係指在介質兩端各放置一面反射鏡，入射光在這兩片反射鏡之間經過無數次的反覆反射，再穿透出去，此為早期雷射製程中，不可或缺之裝備。

⑶而系爭貨物則為在雷射產生後，為達到半導體製程所需光源，調整雷射所產生之光束，並傳送到步進系統，以利後續之曝光製程，顯非該節說明中可能具有法布里- 珀羅干涉儀之基本元件。且法布里一珀羅干涉儀係早期之技術，系爭貨物已改用更先進的技術，並未使用法布里一珀羅干涉儀之早期技術，被告之處分、復查決定及原訴願決定對系爭貨物性質之認定與解讀顯有違誤，其因此所為之稅則核定，自非允當。

⒋「雷射光源設備」與「雷射」並不相同。被告認定「雷射光源設備」內部之零件及附件即屬2002年版H.S.第90.13.90節之「雷射」零件及附件，而將系爭貨物歸為90.13 節，作成原告不利之處分，顯有違誤：

⑴依據2002年版H.S.註解，90.13 節之零件及附件，係指「本節所屬器具及用具之零件及附件」。縱無系爭貨物之存在，亦不影響雷射光源之一般性質及功能。

⑵「雷射光源設備」係專用搭配半導體製程中之「掃描校準器」及「逐步重複校準器」所設計，其內部之系爭貨物之功能，係為接收光源機外部投射進來之準分子雷射光源，調整雷射光，使「光的波長更加穩定，光的波長分佈更窄，甚至小於一皮米（千分之1 奈米）以外，以達到更理想的半導體目的」（原證1 張教授專家意見書第4 點），具專門及明確用途之貨物，係雷射以外之裝置。

⑶被告於復查決定書援引逢甲大學電機系張勁燕副教授所著「半導體製程設備」之部分，逕下結論認定系爭貨物屬雷射之零件或附件，係斷章取義，並不可採。

⑷是以，系爭非屬「雷射」之零件及附件，殆無疑義。被告復查決定及財政部訴願決定徒以「系爭貨物為雷射光源設備之專用零件」云云，即將系爭貨物歸列稅則第9013.90.90號，未能詳究系爭貨物之功能及性質，其認事用法顯有違誤。

⑸復按，H.S.註解第90.13 節亦明確規定：「然而本節不包括加了具有特別裝置的輔助設備後，而具有明確專用功能之雷射（例如：工作台、工作夾持器、用來進料和定位工作件、用來觀察及檢查操作程序等），以及因而可視為工作機器、醫學器具、控制器具、量測器具等之雷射。目前為止該類器具在標準商品分類法中分類並不明確。它們應該歸入具相似功能之機器或用具內。」，由上述說明可知，歸類於本節之雷射，如其係⑴加了特別裝置的輔助設備，而有明確專用功能；或⑵可視為工作機器、醫學器具、控制器具、量測器具等，則應歸入具相似功能之機器或用具內（例如應歸類為9010.90 節），而非本90.13 節。

⒍退步言之，縱認系爭貨物屬於雷射之零件或附件（惟原告否認之），系爭貨物亦屬符合「具有明確專用功能之雷射」，或「可視為工作機器、醫學器具、控制器具、量測器具等之雷射」之敘述，而應排除於90.13 節中，蓋以：

⑴原告所生產之準分子雷射光源設備，係為符合半導體製程之特殊光源之需求所設計，並於該雷射光源設備中，加裝系爭貨物，以調整半導體製程中所需之特殊波長。則系爭貨物，即為「明確專用」於半導體製程之雷射系統，此由張教授專家意見書第6 點，「將特定波長光束經波長分佈窄化處理傳送至微影照像設備，以供半導體微影技術製程使用，使晶圓產生圖案，並無法使用於其他非半導體製程用途」說明文字，即可清楚判定。原處分、復查決定及訴願決定均未詳究張勁燕教授著作中有關系爭貨物功能之論述，僅斷章取義認定系爭貨物為雷射零件云云，顯有未洽。

⑵此外，由原證2 之聲明書第2 點「此頻寬壓縮膜組，為專用於此光源設備之附件器具，無法用於此光源設備（光源機）以外之機器。」亦可證明系爭貨物係具有明確專用功能之雷射，而應排除90.13 節之適用。

⒎是以，系爭貨物實應排除於90.13 節之適用。被告於復查決定，全然忽略且毫無任何理由說明何以系爭貨物不應適用於上開排除情形，僅以「而非具有特別裝置之輔助設備，亦即系爭貨物非工作台、工作夾持器、用來進料和定位工作件或用來觀察及檢查操作程序之設備，也非因加了系爭貨物即可視為工作機器之雷射」云云，一筆簡略帶過否認系爭貨物得排除適用90.13 節，顯未盡調查解釋之義務，而有處分理由不備之違法。

⒏此外，原告雖於94年3 月4 日進口報單第CA//94/320/01644原申報第9010.90.30號之相同貨物，曾被核為9013.90.90號在案，由於當時因金額不大，另外不熟稔法律，未在法定期限內據理力爭，並不表示被告當初原核定有理，一併敘明。

㈣系爭貨物並未使用法布里- 珀羅干涉儀之技術，被告未查明系爭貨物性質，逕以毫無根據之網站資料而為裁處，判定系爭貨物為稅則號別第9013.90.90雷射之零、附件，事實認定有重大瑕疵：

⒈原處分及訴願決定均以「自網站查得」資料作為處分及訴願決定之基礎，非但未提供網站資料來源，亦未就該等資料是否具有公信力提出說明，其網站查得資料之證據能力及證據力顯有疑義。被告逕依此作為處分基礎以及訴願決定機關逕以此瑕疵證據作為決定基礎，顯均有重大瑕疵。

⒉況且，系爭貨物並未使用法布里- 珀羅干涉儀之技術（詳參原告起訴狀第㈢⒊點）。原處分及訴願決定均未查明系爭貨物所使用之技術究竟為何，僅憑藉網站上資料遽而認定系爭貨物使用法布里- 珀羅干涉儀，並進而判定系爭貨物稅則號別，實屬率斷，原處分及訴願決定自應由鈞院依法撤銷，以維原告權益。

⒊退萬步言之，縱假設系爭貨物係利用法布里- 珀羅干涉儀之技術（惟事實上並非如此，原告否認之），此亦無法得出系爭貨物係屬雷射光源機之主要及專用附件、從而應歸稅則第9013.90.90 號 之結論。原處分及訴願決定之推論，均欠缺事證依據，顯屬率斷，且論理跳躍，難認可採。

㈤財政部關稅總局稅則處網站上「稅則號別疑義解答案例中」，認定「利用紫外光作高解析度之圖形轉移曝光系統之光源」，因其確屬於半導體之圖案轉運曝光製程之曝光機專用零、附件範疇，而歸列於H.S.02 9010.90.30 與H.S.07 8486.90.00 ；今原處分及訴願決定竟將依財政部關稅總局業已認定屬於「利用深紫外線準分子光源作高解析度圖形轉移曝光系統之雷射光源之零附件」之既有事實，另作不同且不利原告之認定，顯有違反平等原則及行政自我拘束原則：

⒈「平等原則」為行政機關為行政行為所應遵循之原則，此由行政程序法第6 條可稽。又「行政自我拘束原則」，亦同為行政法之一般法律原則。

⒉財政部關稅總局稅則處網站上「稅則號別疑義解答案例」中，認定「利用紫外光作高解析度之圖形轉移曝光系統之光源」，因其確屬於半導體之圖案轉運曝光製程之曝光機專用零、附件範疇，而歸列於H.S.02 9010.90.30 與H.S. 07 8486.90.00( （附件5 ）。

⒊本件系爭貨物之性質，訴願決定既於第㈡點、第㈢點既自承：「系爭來貨既屬雷射光源機之主要及專用零件」、「系爭貨物既係雷射光源設備專用零附件」（惟原告否認之），則系爭貨物實係符合上開網站上所述之「半導體之圖案轉運曝光製程之曝光機（註：即雷射光源機）專用零、附件」，而應歸列於H.S.02 9010.90.30 與H.S.07 8486.90.00 ，其稅率為0 。詎訴願決定於本案卻一反其於「稅則號別疑義解答案例中」認定系爭貨物應歸於H.S.02 9013.90.90 之見解，判定原告應按稅率2.5%補繳稅款，違反行政程序法第6 條之平等原則，以及行政自我拘束原則，彰彰甚明。代表國家行使公權力之行政機關如此朝令夕改，前後不一之見解，實令人民難措其手足。

⒋況且，「稅則號別疑義解答案例中」之見解，原告已於本件訴願理由提出（附件4 第㈢點，第9 頁），訴願決定竟毫無隻字片語說明本件系爭貨物何以不應依照「稅則號別疑義解答案例中」之見解，將系爭貨物歸於H.S.02 9010.90.30 與H.S.07 8486.90.00 ，其稅率為0，反而不依客觀證據，任意認定系爭貨物應按稅率2.5%補繳稅款，顯有違反行政程序法第96條行政處分應記明理由之瑕疵。

㈥原處分及訴願決定錯解財政部關稅總局稅則處釋示，逕自援引作為本件判定稅則處分之主要理由，未實質探究系爭貨物之性質與功能，有理由不備之瑕疵：

⒈按財政部關稅總局稅則處釋示略以：「如經核明屬微影設備系統雷射光源設備的專用零件、附件之範疇，……，宜歸列稅則第9013.90.90號。」是以，財政部關稅總局稅則處從未直接明確認定系爭貨物之稅則為何，而係表明被告應於查明系爭貨物之性質及功用後，如認系爭貨物符合關稅總局稅則處之「假設性」條件，宜歸於稅則第9013.90.90號，並非如原處分及訴願決定之意旨，認稅則處已認定系爭貨物宜歸列稅則第9013.90.90號云云，原處分及訴願決定，顯均錯解稅則處之函示意旨，進而恣意擴大解釋與裁量，顯有未洽。

⒉實則，被告於判定系爭貨物之稅則號別時，仍須受合法性及妥當性之檢驗，並應仔細探求系爭貨物究應屬於屬何種稅則。若忽略系爭貨物真實性質及功用，怠於區分「雷射」及「雷射光源設備」之異同，逕以似是而非之文字穿鑿附會，將「雷射」及「雷射光源設備」混為一談，實屬行政裁量怠惰，侵害人民權益甚大，亦濫用現行制度賦予行政機關裁量權限、尊重行政機關專業判斷之權限。

⒊況且，不論是H.S.2002或是H.S.2007年版之相關註釋，特別是半導體製程設備的部份，完全沒有對「雷射光源設備」有任何特殊排除條款或但書規定。關稅總局於微影設備系統等半導體製程設備稅則分類規範中，另立排除規定，將相關產品逕行歸列為「9013.90.90-(雷射等) 其他90.13 節所屬物品之零件及附件」，並排除半導體製程設備專屬稅則適用之建議，實為曲解與違反「國際商品統一制度註解」之解釋。

⒋本件爭議實因原處分及訴願決定均誤將「雷射」及「雷射光源設備」混為一談所致，系爭貨物固為半導體製程中不可或缺之雷射光源設備之零件，但絕非雷射本身，亦非產、製雷射之機器設備，原處分及訴願決定未詳予區別其間差異，逕將處理、窄化雷射光源之系爭貨物，錯認為雷射本身，顯有違誤。

㈦原告從未同意系爭貨物為雷射光源設備專用零附件，被告於答辯狀第三點，表示「原告於訴之理由㈣⒊及⒋點中亦稱系爭貨物係屬專用於半導體製程微影技術系統中之光源零件。準此，系爭貨物既係雷射光源設備專用零附件，為兩造所不爭事實」云云，乃混淆鈞院視聽，顯欠允當：

⒈原告於行政訴訟起訴狀訴之理由第㈣引用逢甲大學張勁燕教授之專家意見書及徐仲偉先生之聲明書（原證1、2 ），均說明系爭貨物係專用於將電路圖投影或繪圖在感光性半導體材料上的器具，如「掃描校準器」及「逐步重複校準器」等器具不可或缺之零件或附件，而屬於2002年H.S.註解第90.10 章之「零件及附件」中，「零件及附件可確認為專用於或主要用於本節的器具或設備者，亦歸入本節」之情形，而應歸類9010.90 節，原告從未同意系爭貨物係雷射光源設備專用零附件，被告於答辯狀所言，若非有意誤認，即係不當之誤會。

⒉況且，「雷射光源設備」與「雷射」並不相同，原告已於行政起訴狀第㈣點（第8 頁）詳述。退步言之，縱被告認定兩者係屬相同之物，亦應詳加闡述其認定依據及理由。原處分未附理由說明，何以「雷射光源設備」內部之零件及附件即屬2002年版H.S.註解第90.13.90節之「雷射」零件及附件，逕將系爭貨物歸為90.13 節，作成原告不利之處分，被告所為，難昭信服，且與客觀事實不符，並違背H.S.註解之分類。

㈧退萬步言，縱系爭貨物或得歸於90.13 節，原處分未探究系爭貨物是否具有90.13 節排除條款適用之情事，逕為不利原告之處分，違反行政程序法上有利不利均應一律注意之法律原則，構成裁量瑕疵：

⒈依行政程序法第9 條及第36條規定，並參以法務部法律決字第0960700233號函：「按行政機關行使裁量權，除不得逾越法定之裁量範圍，並應符合法規授權之目的，且須依照比例原則、平等原則，就當事人有利及不利之情形一併注意，否則即構成裁量瑕疵之違法。」（附件6 ）。

⒉2002年H.S.註解第90.13 節明確規定：「然而本節不包括加了具有特別裝置的輔助設備後，而具有明確專用功能之雷射（例如：工作台、工作夾持器、用來進料和定位工作件、用來觀察及檢查操作程序等），以及因而可視為工作機器、醫學器具、控制器具、量測器具等之雷射…（後略）」，此為90.13 節之排除條款。是以，縱特定貨物經行政機關初步認定應歸於90.13 節，主管機關亦應加以審酌是否有該節排除條款之適用。

⒊原處分及復查決定認系爭貨物應歸列90.13 節之理由，絲毫未提及系爭貨物是否有該節排除條款之適用，可見原處分及復查決定並未審酌系爭貨物是否有排除條款之適用，違反有利不利一律注意原則，至為顯然。訴願決定對此未予明察、糾正，逕自援用原處分及復查決定內容，亦有違誤。

⒋被告答辯狀第四點沿用訴願決定書第㈡點說明，僅以原告網站載明系爭貨物係屬雷射光源機之主要構造，即據以認定「足認系爭貨物顯為微影雷射光源機之專用零件，而非具有特別裝置之輔助設備，亦即系爭貨物非工作台、工作夾持器、用來進料和定位工作件或用來觀察及操作程序之設備，也非因加了系爭貨物即可視為工作機器之雷射」云云，並未具體說明為何系爭貨物是雷射光源機之主要構造（之一），因此即非「具有特別裝置之輔助設備」、為何系爭貨物「非工作台、工作夾持器、用來進料和定位工作件或用來觀察及操作程序之設備」、為何系爭貨物「非因加了系爭貨物即可視為工作機器之雷射」，僅以「原告網站載明系爭貨物係屬雷射光源機之主要構造」等語，即驟認系爭貨物非屬90.13 節排除條款之適用範圍，顯屬無據。是以，原處分、復查決定及訴願決定乃屬未附理由之行政處分，並且違反有利不利均應一律注意之法律原則，構成裁量瑕疵。

㈨系爭貨物實應歸為稅則號別第9010.90.30號，此由H.S.註解2002年及2007年版本併同觀察，或參考世界各國就系爭貨物稅則認定，均可得知：

⒈系爭貨物稅則號別之判定，實屬個別貨物之性質功能為何之事實認定，是以被告就稅則號別之判定，應詳加調查系爭貨物之功能，以期得出最正確之結論。單單依據網站資料或拘泥於表面字義而遽為判定稅則，非屬判定稅則之適當且合法之道，乃至明之理。

⒉被告針對系爭貨物稅則判定，顯係錯解2002年版本之內涵，此由2007年版本已將原2002年版本中易生混淆之敘述更進一步釐清之演進即明；抑且，針對系爭貨物稅則判定之正確性與適當性，更應參照2007年版本之內容，庶幾不與世界趨勢與國際間業界慣例相衝突，進而影響外人投資意願與我國之國際聲望。

⒊茲檢附2002年及2007年版本之涉及系爭貨物相關稅則號別之對照分析詳如附件6 以利鈞院卓參。由該附件可知，H.S.註解2007年版本，就84.86 節（即2002年之90.10 節，稅率為零），有下列文字：

⑴本節包括專供或主要供製造半導體晶柱或晶圓、半導體元件、積體電路或平面顯示器之機器及設備，而不包括用於測量、檢驗、檢查及化學分析等之機器及設備。

⑵在84.86 節節註B 中，製造半導體元件或積體電路之機器及器具即包括微影設備─以光阻塗佈的方式將設計好的電路轉移至半導體晶圓表面設備，並有使用準分子雷射進行改善工作。

⑶在84.86.90節零件及附件中，包括所屬機器之零件及附件，亦包含專用或主要用於本節所屬機械或器具之工作物或工具夾持器及其他特殊附屬裝置。

⑷是以，在2007年之版本中，作為半導體微影技術製程之光源設備，充分滿足此專供或主要供製造積體電路或平面顯示器之機器及設備之要件；且使用準分子雷射進行改善工作「微影設備」亦清楚明白列為應歸於84.86 節之項目，則系爭貨物為專用或主要用於「作為半導體微影技術製程之光源設備」及「微影設備」，屬於84.86.90中之零件及附件，而應屬84.86 節，亦即2002年版本之90.10 節，乃無疑義。

⑸H.S.註解係依貨物之特性、功用不同加以分門別類，常理而言，貨物之功能及特性不致因時間變動而發生改變；是以，2007版本得以證明系爭貨物在適用2002年版本判定稅則時，應歸屬於90.10 節。被告將系爭貨物逕行歸列為「9013.90.90- （雷射等）其他9013節所屬物品之零件及附件」，實為曲解事實、並且違反H.S.註解之解釋。

⑹此外，歐盟及歐洲先進國家，就系爭貨物稅則之判定，亦認定系爭貨物應歸屬為稅則號別第8485.90.90節之零件及附件（即2002年版之9010.90.30節），稅率為零，此有原證4 可供鈞院卓參。再者，原告於復查及訴願期間，均曾提出英國海關就系爭貨物認定為稅則號別第8486.90.90節之核定（原證5 ），益足證：國際間多認定本件系爭貨物應歸於H.S.02 9010.90.30與H.S.07 8486.90.00 。

㈩復查及訴願決定就原告提出之英國海關之稅則號別認定，主張「我國並非歐洲共同體會員，歐盟（英國）海關所作之稅則核定，對我國進口貨物稅則之核定，並不具拘束力」、「另與系爭來貨相同之貨物於其他國家如美國，亦係歸列於第9013節，如卷附美國海關NY G86069 案……」云云，並無法自圓其說：

⒈原告所提出之英國海關（歐盟）之稅則號別認定，係針對與系爭貨物完全相同Line Narrowing Module ，反觀被告及復查決定機關所指之美國海關NY G86096 稅則核定判例，其所核定之商品並非系爭貨物，而係ELS-6010Excimer Lasers，與系爭貨物完全不同。則復查決定及訴願決定一方面支持被告援引美國海關NY G86096 就不同貨物之稅則認定，另一方面排斥就英國海關就同一系爭貨物之認定，並以「況所送核之貨品型態、組成比例，均能影響所核定之稅則，尚難援引適用」云云，如此雙重標準，原告誠難信服，由此更可見被告之稅則認定恣意草率，顯有裁量濫用之違法。

⒉再者，原告所提英國海關（歐盟）之稅則號別認定，係依據H.S.註解所認定，反觀據以作為被告認定本件系爭貨物之稅則號別之認定，係依據美國本身自有之Harmo-nized Tariff Schedule of the United States(HTS)，此所謂HTS 並非世界統一之分類制度。依據海關進口稅則總則規定，我國就貨物之稅則號別，係得參據「關稅合作理事會編纂之『國際商品統一分類制度註解』」，美國之HTS 並不在參酌之列。則本件系爭貨物稅則認定，何以捨棄英國海關依據「國際商品統一分類制度註解」，而援引美國海關就「不同貨物」依據美國海關依據HTS 解釋所為之認定，均未見被告加以說明。

⒊另我國與美國亦無任何我國應參酌美國海關見解之約定或協定，則何以本件應參酌美國海關見解（況美國海關此認定係就不同於系爭貨物之認定），排斥歐盟海關見解，均未見復查決定及訴願決定有任何說明及闡釋，存有處分不備理由之瑕疵，至為顯明。復查決定及訴願決定逕行採用美國海關見解，排斥歐盟海關見解，若非恣意妄為，即係存有「美國即為世界潮流」之狹隘見解，兩者均令原告難昭信服。被告業已自認系爭貨物並非「雷射」、「雷射基本原件」或「雷射之零件或附件」，且自認系爭貨物係專為半導體製程特殊光源要求所設計使用，有明確功能，無其他用途。其判定系爭貨物為稅則號別第9013.90.30雷射之零、附件，事實認定有重大瑕疵：

⒈被告之補充答辯狀㈠業已自承系爭貨物並非「雷射」、「雷射基本原件」或「雷射之零件或附件」（補充答辯狀㈠第3 頁）；同時被告復自認系爭貨物係專為半導體製程特殊光源要求所設計使用，有明確功能，無其他用途（補充答辯狀㈠第5 頁）。

⒉被告既已自認系爭貨物並非「雷射」、「雷射基本原件」或「雷射之零件或附件」，且係專為半導體製程特殊光源要求所設計使用，有明確功能，無其他用途，則被告認定系爭貨物為稅則號別第9013.90.30雷射之零、附件，即屬嚴重違誤。

⒊補充答辯狀㈠（第3 頁）仍辯稱其稅則認定無誤云云，係以系爭貨物安裝於原證3 「準分子雷射系統」中，因此即認系爭貨物為「雷射」。惟查，依原證3 圖示，「準分子雷射系統」係接受（來自圖示右側）的「雷射」之後，將雷射加以處理、窄化後，使其成為適於半導體製程所需之光源之設備，與雷射本身全然不同；被告誤將處理雷射之設備認定為雷射本身，因而錯解、誤認稅則規範，所辯委無足採。被告補充答辯狀㈠並未正面回應專家意見之認定：

⒈被告補充答辯狀㈠形式上固分別分段回應專家意見，惟被告補充答辯狀㈠所回應之內容，並未直接、正面回應專家意見所明確認定之事實。

⒉關於系爭貨物之功能，專家意見認定「LNM (LNP) 處理雷射光源機所製造、產生之光束後，將光束傳送至半導體製造的步進機，使光束經光罩將晶圓表面的感光膜上曝光，才能發揮半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）功能，無法單獨發揮半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）功能」。被告補充答辯狀㈠並未具體回應，且刻意迴避「LNM (LNP) 處理雷射光源機所製造、產生之光束後，將光束傳送至半導體製造的步進機」、系爭貨物「無法單獨發揮半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）功能」等關鍵事實。足見被告補充答辯狀㈠所述，委無足採。

⒊專家意見已明確載述貨物之功能係為處理「雷射光源機所製造、產生之光束」，絕非雷射光源機本身，然被告補充答辯狀㈠竟仍誤指貨物為雷射光源機，顯屬違誤。

⒋至系爭貨物將雷射光源機所製造、產生之光束處理、窄化後，使之成為適於半導體製程之光源，乃系爭貨物之功能，非謂系爭貨物即屬光源本身。

⒌要之，被告補充答辯狀㈠誤將處理雷射光源之設備錯解為製造雷射光源之設備，因而錯認系爭貨物之稅則號別，被告之認定，顯有重大違誤。被告補充答辯狀㈠一方面肯定系爭貨物並非「雷射」、「雷射基本原件」或「雷射之零件或附件」，一方面又認系爭貨物為「光源」，顯屬矛盾：

⒈被告補充答辯狀㈠業已自認系爭貨物並非「雷射」、「雷射基本原件」或「雷射之零件或附件」，業如前述。

⒉被告既已自認系爭貨物並非「雷射」、「雷射基本原件」或「雷射之零件或附件」，顯然系爭貨物即非「光源」本身。然而，被告補充答辯狀㈠一方面肯定系爭貨物並非「雷射」、「雷射基本原件」或「雷射之零件或附件」，一分面卻又認系爭貨物為「光源」，顯屬矛盾。

⒊至系爭貨物將雷射光束處理、窄化，使之成為適於半導體製程所需之光源，乃系爭貨物之功能，不得因此即謂系爭貨物亦屬光源本身，其理甚明。被告補充答辯狀㈠所述，顯係誤導鈞院之詞，要無足採。被告補充答辯狀㈠仍誤指系爭貨物為雷射光源機之專用零、附件，顯與專家意見有違；實則系爭貨物係與雷射光源機連結之零、附件，被告之稅則認定，確有違誤：

⒈依專家意見：LNM (LNP) 是處理（窄化）雷射光源之零件或附件，因此，自非雷射光源機（本身）之專用零、附件。被告補充答辯狀㈠仍誤指系爭貨物係雷射光源機之專用零、附件，其事實認定顯有違誤。

⒉系爭貨物係連結於雷射光源機、用以處理（窄化）雷射光束之零附件，依專家意見，其功能在接收各種波長之光束後，調整波長分布，將調整後之光束傳送至步進機，以供半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）工程之用。因此系爭貨物為專用於此光源設備之附件器具，可謂專為半導體製程特殊光源要求所設計使用，有明確功能，無其他用途。

⒊2002年H.S.註解第90.13 節明確規定：「然而本節不包括加了具有特別裝置的輔助設備後，而具有明確專用功能之雷射（例如：工作台、工作夾持器、用來進料和定位工作件、用來觀察及檢查操作程序等），以及因而可視為工作機器、醫學器具、控制器具、量測器具等之雷射…（後略）」，此為90.13 節之排除條款。經查，系爭貨物處理（窄化）雷射光束後，將處理後之雷射光束傳送至相連結之步進機，以供半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）工程之用，可謂專為半導體製程特殊光源要求所設計使用，有明確功能等事實，業據專家意見陳述在卷，被告補充答辯狀㈠依然忽視、迴避專家意見所明確認定系爭貨物此一特殊、專用功能，同時刻意忽略系爭貨物應屬9013節所排除適用之設備，逕為不利原告之認定，其稅則認定，顯難認無違誤。

⒋綜上，被告補充答辯狀㈠業已自認系爭貨物並非「雷射」、「雷射基本原件」或「雷射之零件或附件」，自不得再以之與「光源」同視；又被告補充答辯狀㈠對於專家意見形式回覆之餘，實質上卻仍迴避專家意見所明確認定之內容，自非可採；抑且，被告補充答辯狀㈠業已自認系爭貨物係處理（窄化）雷射光束後，將處理後之雷射光束傳送至相連結之步進機，以供半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）工程之用，可謂專為半導體製程特殊光源要求所設計使用，有明確功能，自不應刻意忽略系爭貨物應屬90.13 節所排除適用之事實。緣以被告對於系爭貨物線變窄模組，及其所屬之準分子雷射系統之本質、特定及功能仍有誤解，為協助鈞院瞭解系爭貨物，原告特再次提出逢甲大學張勁燕教授所出具之專家意見書㈡（原證7 ），依其專業意見，大致可歸納準分子雷射系統及系爭貨物之特性與功能如下：

⒈準分子雷射系統並非「雷射」或「雷射基本元件」：半導體製程中之準分子雷射系統與一般單純「雷射」或「雷射基本原件」的概念並不相同。在半導體製程中，需利用準分子雷射系統所裝配之線變窄模組來處理雷射光源，其功能是將雷射發出的光的波長分佈更窄，使光的波長更加穩定，以達到更理想的半導體製程目的。

⒉準分子雷射系統並非「雷射之零件及附件」：準分子雷射系統並非等同於雷射之零件或附件；雷射是光源的一種，而準分子雷射系統則是處理雷射光源的設備，雷射光源在經過裝置有線變窄模組（LNM ）的準分子雷射系統的窄化處理後，成為半導體製程中更理想的曝光光源。

⒊準分子雷射系統並非「雷射光源設備之專用零件、附件」：準分子雷射系統與雷射光源機之專用零件或附件的概念並不相同；準分子雷射系統是在將雷射光源加以窄化處理，使之成為半導體製程所需曝光光源的設備，並不等同於雷射光源設備之零件或附件。除搭配使用於半導體製程顯影技術之用外，裝置有線變窄模組（LNM ）之準分子雷射系統並無其他獨立功能：裝置有線變窄模組（LNM ）之準分子雷射系統是窄化、處理雷射光源之設備，其功能在接收各種波長之雷射光束後，調整波長分布，將調整後之光束傳送至步進機，以供半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）工程之用。因此裝置有LNM 之準分子雷射系統為專用於此之器具，可謂專為半導體製程特殊光源要求所設計使用，有明確功能，無其他用途。被告就系爭貨物性質之認定，前後矛盾，顯見原處分、復查決定及訴願決定確有違誤，自應予以撤銷：按被告就原處分之作成，曾參酌其於稅則疑義資料清表序號00000000，就本系爭貨物之性質加以認定；惟查，上開稅則疑義資料清表與原處分及被告於本案訴訟之答辯有諸多矛盾，顯見原處分、復查決定及訴願決定之作成過程草率粗糙，作成之結論則悖於事實，自應予以撤銷。被告針對系爭貨物是否屬於「雷射之零、附件」或「掃描校準器」及「逐步重複校準器」（按：即步進機）之零、附件，見解擺盪，前後不一，益足證原處分、復查決定及訴願決定確有違誤之處，無可維持。為此，提起本件訴訟，並聲明求為判決：訴願決定、復查決定及原處分不利原告部分均撤銷。

四、被告辯以：

㈠原告提供系爭貨物型錄及中文貨名為頻寬壓縮模組（LINENARROWING MODULE，有學者譯為線變窄模組），並稱其功能為接收共振腔體發出之光束，將符合設定規格之光波折射到穩定模組，將規格不符光波散射消耗（卷1 附件7 ）。次據H.S.註解93年6 月中文版第1356頁對稅則第9013節之詮釋（卷1 附件8 ）本節包括：「……除了雷射媒體外，能源及光學空腔諧振器，也就是結合在雷射頭（可能具有法布里- 珀羅干涉儀，……）之基本元件……」。據此，被告將系爭貨物予以改列稅則號別第9013.90.90號，按稅率2.5%課徵，於法並無不符。原告前於96年7 月至98年5 月以進口報單第CA//97/320/71343號等向被告報運進口與本案相同貨物SPARE ASSY, KrF LNP, BEAM SEAL（頻寬壓縮模組）94批，原申報稅則號別第9010.90.30號，被告於97年12月22日以（97）北關字第0048號「稅則分類疑問及解答」報請財政部關稅總局稅則處釋示（卷2 附件2 ），嗣該處釋復略稱（卷2 附件3 ）：「本案貨品『LINE-NARRO WING MODULE』，如經核明屬微影設備系統『雷射光源設備』的專用零件、附件之範疇，……宜歸列稅則第9013.90.90號。」是被告依來貨之功能、用途及財政部關稅總局稅則處之釋示，改列稅則號別為第9013.90.90號，按稅率2.5%補徵稅款，洵屬適當。

㈡參據逢甲大學電機系張勁燕副教授所著「半導體製程設備」光源設備作用原理及用途確認第3 章微影照像設備3.6進步的照像設備1.準分子雷射源曝光（第87頁）及圖3.45準分子雷射系統示意圖（第102 頁）（卷1 附件9 ），亦認為「線變窄模組（LINE NARROWING MODULE ）」為配合Excimer laser （準分子雷射）使用之雷射專用零、附件。按目前積體電路之量產製程中，在微影（LITHOGRAPHY）部分，多數採用ArF （氟化氬）、KrF （氟化氪）為雷射光源進行曝光顯影，其所使用之ArF 、KrF 為雷射光源媒體，其波長分別為193nm （奈米）、248nm ，可製造0.14um（微米）、0.18um線徑之記憶體I.C.，原告亦稱系爭貨物係屬專用於半導體製程微影顯像系統專用且不可或缺之零件或附件。準此，系爭貨物既係雷射光源設備專用零附件，為兩造所不爭之事實，被告歸列稅則號別第9013.90.90號，核屬妥適。

㈢原告係從事準分子（EXCIMER ）雷射光技術之研究及開發，亦屬世界領導級雷射光源之供應商，乃為不爭之事實，另根據原告網路上網頁載明微影雷射光源機之主要構造（LASER LIGHT SOURCE ARCHITECTURE FOR PHOTOLITHOGRAPHY）計有LINE NARROWING MODULE （LNM ）（頻寬壓縮模組，有學者譯為「線變窄模組」）、MO（MASTER OSCILLATOR ）CHAMBER 、LINEWIDTH ANALYSIS MODULE （LAM ）、MO WEB、PA（POWER AMPLIFIER ）WEB 、BANDWIDTHANALYSIS MODULE （BAM ）、PA CHAMBER、OPTICAL PUL-SE STRETCHER（OPUS）、AUTO SHUTTER等主要機件，足認系爭貨物顯為微影雷射光源機之專用零件，而非具有特別裝置之輔助設備，亦即系爭貨物非工作台、工作夾持器、用來進料和定位工作件或用來觀察及檢查操作程序之設備，也非因加了系爭貨物即可視為工作機器之雷射。準此，系爭貨物既屬配合KRF-248nm Excimer laser （氟化氪248 奈米準分子雷射）使用之雷射專用零件、附件，核非稅則第9010.41 至9010.49 目所屬器具之零件及附件，原告所主張系爭貨物為將電路圖投影或繪圖在感光性光導體材料上之器具、專用於搭配「掃瞄校準器」或「逐步重複校準器」之零件，顯不足採。

㈣專家意見書、略稱：「線變窄模組Line NarrowingModule（Package ）LNM （LNP ）是否屬於『雷射』或『雷射基本元件』？『線變窄模組』或稱『頻寬壓縮膜組』（Line Narrowing Module/Package ）（LNM/LNP ）並非『雷射』或『雷射基本元件』，而是半導體製程中所需光源設備的一項必要零件。在半導體製程中，需利用線變窄模組來接收雷射發出的光，其功能是將雷射發出的光的波長分佈更窄，使光的波長更加穩定，以達到更理想的半導體製程目的」、「LNM （LNP ）是否雷射之零件及附件？LNM （LNP ）並非雷射之零件或附件；雷射是光源的一種，而LNM （LNP ）則是處理光源的設備。若以日常生活用品作對比，LNM （LNP ）就如同濾水器，而雷射就如同自來水本身，自來水經過濾水器的淨化處理後達到更適合飲用的水質，雷射經過LNM （LNP ）的窄化處理後成為半導體製程中更理想的曝光光源。」惟查，「中華民國海關進口稅則、輸出入貨品分類表合訂本」所列稅則號別第9013.90.90號為「其他第9013節所屬物品之零件及附件」，第1 欄稅率為2.5%；稅則號別第9013.20.00號為「雷射，雷射二極體除外」，第1 欄稅率為5%（附件1 ）；按「本稅則各號別品目之劃分，除依據本稅則、章及其註，各號別之貨名及解釋準則之規定外，並得參據關稅合作理事會編纂之『國際商品統一分類制度（H.S.）註解』及其他有關文件辦理」、「類、章及分章之標題，僅為便於查考而設；其分類之核定，應依照稅則號別所列之名稱及有關類或章註為之，……」及「稅則號別所列之貨品名稱說明較具體明確者應較一般性說明者為優先適用。……」分別為「海關進口稅則總則」「海關進口稅則解釋準則」及（附件2 ）所明定；準此，參據H.S.註解中文版第1357頁對稅則號別第9013.20 「雷射」之詮釋（附件3） ，亦涵括第2 段「除了雷射媒體外，能源（泵唧系統Pumpingsystem）及光學空腔諧振器（反射系統），也就是結合在雷射頭（可能具有法布理- 珀羅干涉儀，干涉濾光鏡和分光儀）之基本元件，雷射一般亦附裝有一定的輔助件（例如：電源單位、冷卻系統、控制單位及氣體雷射之氣體供給系統，或液體雷射時，一個罐，裝配一個泵供染色溶液用）。這些輔助件有些可能在同一殼內成雷射頭（小型雷射），……」，被告亦認定本案系爭貨物LNM （LNP ）非屬「雷射」、「雷射基本元件」或「雷射之零件或附件」，而是安裝於半導體製程中雷射光源設備之必要零件，參閱原告原證3 之準分子雷射系統示意圖所示，系爭貨物安裝於該系統中，與上述之詮釋完全符合，被告將系爭貨物改列稅則號別第9013.90.90號項下，洵屬允當。

㈤專家意見書、略稱：「LNM （LNP ）是否雷射光源設備之專用零件、附件？LNM （LNP ）並非雷射光源機之專用零件或附件；雷射光源機是製造、產生雷射光源的機器設備，LNM （LNP ）並無製造、產生雷射光源的功能；LNM （LNP ）是在接受雷射光源機所製造、產生的雷射光，將雷射光加以窄化處理的設備。」、「LNM （LNP ）能否獨立產生或製造雷射光束？LNM （LNP ）並非製造、產生雷射光源的機器設備，因此無法獨立產生或製造雷射光束。LNM （LNP ）是在雷射光源機已經製造、產生雷射光源後，將雷射光源機所製造、產生的雷射光加以處理、窄化的機器設備，因此LNM （LNP ）無法獨立產生或製造雷射光束」等節。查專家意見一稱本案系爭貨物是半導體製程中所需光源設備的一項必要零件，又述稱非雷射光源機之專用零件或附件，顯有矛盾；惟其實際意旨限縮於「能製造、產生雷射光源的機器設備所屬之配備方為該設備之零、附件」，參據H.S.註解中文版第1337頁對稅則號別第9010.90 「零件及附件」之詮釋（附件4 ），章註：2.（b）其他零件及附件，如係專用或主要用於某一特定機器、儀器或器具者，或適用於同一稅則號別下之多種機器、儀器或器具（包括第90.10.90.13.或90.31 節之機器、儀器或器具）均應歸入該機器、儀器或器具之號別。本案系爭貨物既裝置於雷射光源機內，又搭配將雷射光處理、窄化後，方適用於後續之半導體製程；核屬第9013節之零件，殆無疑義。

㈥專家意見書略稱：「LNM （LNP ）之主要功能？半導體積體電路量產製程中必須使用微影技術系統（Photolithography system ），透過微影技術系統，將光罩上的圖案照射到半導體晶圓上，經過顯影，烘烤等製程，使晶圓上有了圖案，之後，晶圓就可以選擇性地作為後續製程之用。為了達到更小尺寸的積體電路產品，微影技術系統需要特殊的光源。晶圓曝光製程中的理想光源必須滿足兩個條件，首先，光的波長要短，其次，光的波長分佈要窄。倘若波長分布過寬時，光的頻率相對不穩定，而雷射的能量與光的頻率成正比關係，所以當頻率不穩定時，即表雷射能量不穩定，從而即無法符合晶圓曝光所需的理想光源要求。針對『光的波長要短』的條件，目前已有進步的氟化氪（KrF ）和氟化氬（ArF ）準分子雷射光源（excimerlaser ），其波長分別為248nm （奈米）、193nm 。這兩種準分子雷射光源已滿足了波長要短的條件。至於『光的波長分佈要窄』的條件，就必須使用專門設計用來滿足『光的波長分佈要窄』的條件的設備，線變窄模組（LNM/LNP ）的主要功能就在於此。LNM （LNP ）接收雷射發出的光，使光的波長更加穩定，光的波長分佈更窄，以達到更理想的半導體製程目的。」查原告網路刊載之官方資料顯示︰微影雷射光源機之主要構造（LASER LIGHT SOURCEARCHITECTURE FOR PHOTOLIGTHOGRAPHY）計有LINE NARR-OWING MODULE（LNM ）（頻寬壓縮模組，有學者譯為「線變窄模組」）、MO（MASTER OSCILLATOR ）CHAMBER 、LINEWIDTH ANALYSIS MODULE （LAM ）、MO WEB、PA（POWER AMPLIFIER ）WEB 、BANDWIDTH ANALYSIS MODULE（BAM ）、PA CHAMBER、OPTICAL PULSE STRETCHER （OPUS）、AUTO SHUTTER等主要機件，參據財政部關稅總局稅則處對被告97年12月22日（97）北關字第0048號稅則分類疑問及解答對頻寬壓縮模組宜歸列稅則號別第9013.90.90號之釋示（原答辯狀附件卷2 附件2 ），被告將本案系爭貨物核列稅則號別第9013節之零附件，於法有據。

㈦專家意見書、略稱：「在半導體製程中，LNM(LNP)能否單獨發揮半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）功能？LNM(LNP)接收雷射發出的光後，須與掃描步進照像機或逐步重複照像機整合，經光學規格及能量校正，才能於感光性晶圓上產生曝光效果，性質上並無法獨立應用或直接使其具有其他功能。LNM (LNP) 處理雷射光源機所製造、產生之光束後，將光束傳送至半導體製程中的掃描步進照像機或逐步重複照像機，使光束經光罩將晶圓表面的感光膜上曝光，才能發揮半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）功能，無法單獨發揮半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）功能。」、「除搭配使用於半導體製程顯影技術之用外，LNM(LNP)有無其他獨立功能？LNM(LNP) 是處理（窄化）雷射光源之零件或附件，其功能在接收各種波長之光束後，調整波長分布，將調整後之光束傳送至掃描步進照像機或逐步重複照像機，以供半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）工程之用。因此LNM(LNP) 係屬雷射光源設備所加裝之特別輔助設備，而使該光源設備成為明確專用於半導體製程特殊光源要求之設計；是以，LNM(LNP)明確專用於微影技術系統，無其他獨立用途」等節。查被告對於本案系爭貨物之功能，從未與之爭執，所爭在於其係先完成窄化雷射光束之前置作業後，才有供半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）工程之效用。睽諸稅則號別第9010節(I)(N) H.S. 註解中文版第1353頁之詮釋（附件45）：「將電路圖投影或繪圖在感光性半導體材料上的器具，用於電子積體電路的製作上。此類器具係將線路圖樣在預為塗敷於半導體晶圓表面的感光膜上曝光。該設備包括下列類型的器具：⑴使用光罩或網線之器具……上述器具包括下列類型：(a）接觸印相機。……(b）近接校準器。……(c）掃描校準器。……(d）逐步及重複校準器。此一器具係利用投影技術將晶圓按區域逐一進行曝光作業。曝光作業時將網線以原尺寸或加以縮小比例印製。」核其屬正面表列，本案系爭貨物安裝於準分子雷射光源設備，而非上述表列之器具，原告述稱本案系爭貨物為步進照像機之零件，委無足採。

㈧依準備程序庭兩造全辯論意旨，其爭點歸納為2 項，謹分述如下：

⒈按海關進口稅則第9013.20.00號列「雷射，雷射二極體除外」參據H.S.中文註解第1356頁第9013節⑵：「雷射，波長範圍在十億分之一米和1 厘米之間（紫外線、可見光和紅外線光譜範圍內），由控制受激發射之過程產生或放大電磁輻射。當雷射媒體（例如：晶體、氣體、液體化學物）由於電激發光或其他能量作用而激發之光，在雷射媒體內部會產生光束，一直反覆的反射和放大，此相關光束（可見或不可見光）將從半透明的一端射出。」係說明標題「雷射」此一章節包括有「雷射光束」，及第2 段：「除了雷射媒體外，……這些輔助件有些可能在同一殼內成雷射頭（小型雷射），或為獨立單位，藉電纜與雷射頭連接等（雷射系統）。在後者之情形，共同申報之獨立單位亦歸入本節。」載明「雷射系統」亦屬於「雷射」之範疇。查本案系爭貨物LNM(LNP)（中譯「頻寬壓縮模組」或「線變窄模組」）組裝於「準分子雷射系統」中，殆無疑義；參閱「專家意見書」：「……LNM(LNP)是在接受雷射光源機所製造、產生的雷射光，將雷射光加以窄化處理的設備。」明確說明雷射光源機與本案系爭貨物搭配運用。準此，被告依據上開規定將系爭貨物歸列第9013節之零附件，並無不妥。

⒉按海關進口稅則第9010節「本章未列名之照相（包括電影）沖印室用器具及設備（包括將電路圖投影或繪圖在感光性半導體材料上之器具）；負片顯示器；放映用銀幕」參據H.S.中文註解第1353頁：「將電路圖投影或繪圖在感光性光導體材料上的器具，用於電子積體電路的製作上。此類器具係將線路圖樣在預為塗敷於半導體晶圓表面的感光膜上曝光。該設備包括下列類型的器具：

⑴……上述器具包括下列類型：(a）接觸印相機。……(b）近接校準器。……(c）掃描校準器。……(d）逐步及重複校準器。」明列僅此四項器具可歸列此節，原告於行政訴訟陳報㈢狀略稱：「……光源機必須與掃描步進照相機搭配使用……系爭貨物係專用於將電路圖投影或繪圖在感光性半導體材料上的器具，如『掃瞄校準器』及『逐步重複校準器』等器具所不可或缺之零件或附件。……」純屬原告對H.S 註解之錯誤解讀，委無足採。

㈨綜上論述，原處分及訴願決定並無違誤，為此求為判決：駁回原告之訴。

五、本件之主要爭執在於：系爭貨物究應歸列原告申報之稅則號別第9010.90.30號、第8486.90.00號（按原告就系爭貨物於97年12月31日以前進口者，申報稅則第9010.90.30號，98年1 月1 日以後進口者，因原申報稅號廢止，改申報稅則第8486.90.00號），抑或應歸列被告核定之稅則號別第9013.90.90號？經查：

㈠按海關進口稅則第9010節為「本章未列名之照相（包括電影）印室用器具及設備（包括將電路圖投影或繪圖在感光性半導體材料上之器具）；負片顯示器；放映用銀幕」，該節項下原稅則號別第9010.90.30號（按此項稅則號別已於97年12月31日廢止），其貨名為「第9010.41 至9010.49 目所屬器具之零件及附件」，第1 欄稅率為FREE；稅則第8486節為「專供或主要供製造半導體晶柱或晶圓、半導體裝置、積體電路及平面顯示器之機器及器具；本章註九（丙）所規範之機器及器具；零件及附件」，該節項下稅則號別第8486.90.00號（按此項稅則號別自98年1 月1 日起實施），其貨名為「第8486節所屬機器之零件及附件」，第1 欄稅率為FREE；稅則第9013節為「液晶裝置（未構成為其他號列所更明確說明之物品者）；雷射，雷射二極體除外；其他光學用具及儀器，本章未列名者」，該節項下稅則號別第9013.90.90號，其貨名為「其他第9013節所屬物品之零件及附件」，第1 欄稅率為2.5%。

㈡次按「本稅則各號別品目之劃分，除依據本稅則類、章及其註，各號別之貨名及解釋準則之規定外，並得參據關稅合作理事會編纂之『國際商品統一分類制度（H.S.）註解』及其他有關文件辦理。」、「類、章及分章之標題，僅為便於查考而設；其分類之核定，應依照各稅則號別所列之名稱及有關類或章註為之，此等稅則號別或註內未另行規定者，依照後列各準則規定辦理。」分別為海關進口稅則總則及海關進口稅則解釋準則所明定。而依據93年6 月修訂H.S.註解中文版第1356、1357頁對稅則第9013節之詮釋：「……⑵雷射，波長範圍在十億分之一米和1 厘米之間（紫外線、可見光和紅外線光譜範圍內），由控制受激發射之過程產生或放大電磁輻射。當雷射媒體（例如：晶體、氣體、液體化學物）由於電激發光或其他能量作用而激發之光，在雷射媒體內部會產生光束，一直反覆的反射和放大，此相關光束（可見或不可見光）將從半透明的一端射出。除了雷射媒體外，能源（泵唧系統Pumpingsystem）及光學空腔諧振器（反射系統），也就是結合在雷射頭（可能具有法布理- 珀羅干涉儀，干涉濾光鏡和分光儀）之基本元件，雷射一般亦附裝有一定的輔助件（例如：電源單位、冷卻系統、控制單位及氣體雷射之氣體供給系統，或液體雷射時，一個罐，裝配一個泵供染色溶液用）。這些輔助件有些可能在同一殼內成雷射頭（小型雷射) ，或為獨立單位，藉雷射頭連接等（雷射系統）。在後者之情形，共同申報之獨立單位亦歸入本節。」，可知，稅則第9013節所指「雷射」，並不限於「雷射光束」，「雷射系統」亦屬「雷射」之範疇。復據海關進口稅則第90章章註2 規定：「本章或第84章、第85章或第91章（第84.87 、85.48 或90.33 節除外）中任何節下之貨品之零件及附件，均應歸入其各節。」及H.S.註解中文版第90章總則（Ⅲ) 零件及附件（章註2 ）之詮釋：「……零件及附件經證實為專用於或主要用於本章之機器、用具、儀器、或器具者，得同其所屬機器用具等歸入同一節。」，亦足知零件及附件應隨其所用之機器、用具、儀器或器具歸入同一節，故經證實為專用於或主要用於第9013節雷射之零件或附件者，即應歸入第9013節。

㈢查系爭貨物中文貨名為「頻寬壓縮模組」（又稱「線變窄模組」），依原告所提系爭貨物用途確認書之記載：「線變窄模組之作用係在接收各種波長之光束，並將設定波長之光束傳送到共振腔反覆作用後產生之準分子雷射光源」（原處分卷1 附件7 ），且原告於本案訴願程序中提具「訴願案件陳述資料」亦載以：「LNM/LNP 產品的功能，係在接收包含各種波長光波之光束後，將規格不符的光波在模組內部散射消耗，供半導體微影技術製程中之光蝕刻（Lithography ）工程之用」；復參據原告於另案（本院99年度訴字第797 號）訴願時提具之「訴願會意見陳述」及「意見補陳資料」所載，原告係以研發、製造及銷售供半導體製程所需之「微影技術系統（Photolithography sy-stem）」深紫外線準分子光源設備為主要業務，係全球半導體製程準分子光源領先技術供應商，系爭貨物為上開光源設備之零件，而該光源設備所產生之光束於學理歸類為KrF 248nm Excimer Laser （氟化氪248 奈米準分子雷射），應用於半導體製造的深度紫外線顯影系統，光源機需與掃描對準機或步進對準機整合，經光學規格及能量校正，始能於感光性晶圓上產生曝光效果，系爭貨物之功能即在接收包含各種波長光波之光束後，將特定波長之光束送至步進機，供半導體微影技術製程中之光蝕刻工程之用。次查，原告網頁載明微影雷射光源機之主要構造（LASERLIGHT SOURCE ARCHITECTURE FOR PHOTOLIGTHOGRAPHY ）計有LINE NARROWING MODULE （LNM ）（頻寬壓縮模組）、MO（MASTER OSCILLATOR ）CHAMBER 、LINEWIDTH ANA-LYSIS MODULE（LAM ）、MO WEB、PA（POWER AMPLIFIER）WEB 、BANDWIDTH ANALYSIS MODULE （BAM ）、PA CH-AMBER 、OPTICAL PULSE STRETCHER （OPUS）、AUTO SH-UTTER 等主要機件（原處分卷1 第64頁）；原告所提逢甲大學教授張勁燕所具專家意見書並載以：「微影技術系統為半導體積體電路量產製程中必須且關鍵的技術」、「為了達到更小尺寸的積體電路產品，微影技術系統需要特殊的光源。理想的光源必須滿足兩個條件，第一，光的波長要短，第二，光的波長分佈要窄。……目前有更進步的氟化氪（Kr F）和氟化氬（ArF ）準分子雷射光源（excim-er laser light source ）……，這兩種準分子雷射光源明顯滿足了理想光源" 波長要短" 的第一個條件。」、「……線變窄模組Line Narrowing Module （Packing ）LNM （LNP ）即是在雷射基本元件以外，專門設計用來滿足第二種要求的設備。……所以在半導體製程中，需要線變窄模組接收雷射發出的光，使光的波長更加穩定，光的波長分佈更窄，……以達到更理想的半導體製程目的。此特別裝置線變窄模組……，搭配氟化氪（KrF ）和氟化氬（ArF ）準分子雷射光源後，成為明確專用於半導體製程微影技術之準分子雷射系統光源設備。」、「此準分子雷射系統光源設備，必須搭配半導體製程中所使用之微影照像設備之掃描步進照像機或步進照像機使用。也就是說，此光源設備將特定波長光束經波長分佈窄化處理後傳送至微影照像設備，以供半導體微影技術製程使用，使晶圓產生圖案，並無法用於其他非半導體製程」等語（本院卷第35-37 頁）。足知，原告所生產之深紫外線準分子雷射光源設備，係以氟化氪（KrF ）和氟化氬（ArF ）為媒體之準分子雷射光源設備，而系爭貨物則為搭配上開準分子雷射光源設備使用之專用零附件，用以接收雷射發出的光束，將特定光束波長分佈窄化處理，使之成為微影技術系統需要的特殊光源，其後再供半導體製程微影技術系統使用，，亦即經由準分子雷射光源設備處理後，理想的光源始傳送至微影照像設備之掃描步進照像機或步進照像機，供半導體微影技術製程中之光蝕刻工程之用，使晶圓產生圖案。是被告依系爭貨物之功能、用途，參照前開稅則解釋及H.S.註解之詮釋，暨關稅總局稅則處97年12月22日（97）北關字第0048號釋示：「本案貨品『LINE-NARROWING MO-DULE」，如經核明屬微影設備系統『雷射光源設備』的專用零件、附件之範疇，參酌美國海關分類案例NY 86069，宜歸列稅則第9013 .90. 90號」之意旨（原處分卷2 附件3 ），改列稅則號別為第9013.90.90號，並非無據。至於被告以網路查得關於LINE-NARROWING係利用法布里- 珀羅干涉儀作為穩定、濾光、折射等功能之資料，逕認系爭貨物亦使用法布里- 珀羅干涉儀之技術，雖嫌速斷，容有未洽，但此並不影響系爭貨物為準分子雷射光源設備專用零附件之認定，原告據此指摘被告事實認定有重大瑕疵，原處分應予撤銷，非屬可採。

㈣原告雖稱雷射是光源的一種，雷射光源機則是製造、產生雷射光源的機器設備，系爭貨物只是接受並處理雷射光源機所製造、產生的雷射光，將之窄化的設備，因本身無製造、產生雷射光源的功能，自非屬雷射光源機的專用零附件；實則，系爭貨物係半導體製程微影照像系統專用且不可或缺之零附件，乃專用於掃描步進照像機及步進重複照像機等器具之零附件，屬「將電路圖投影或繪圖在感光性半導體上之器具」之零、附件，應歸列稅則號別第9010.90.30號（亦即98年1 月1 日起實施之稅則號別第8486.90.00號）云云。惟查：

⒈H.S.註解對稅則第9013節之詮釋，該節所指「雷射」，非限於「雷射光束」，「雷射系統」亦屬「雷射」之範疇，已如前述，原告將雷射定義為光源的一種，應係出於對稅則分類上「雷射」範疇之誤解。

⒉系爭貨物搭配使用於準分子雷射光源設備，使雷射光束經由該光源設備處理後，成為半導體製程中微影技術系統需要的特殊光源，再供半導體製程微影照像設備之掃描步進照像機或步進照像機使用，使晶圓產生圖案，故系爭貨物屬準分子雷射光源設備之零附件，業經詳述如前；並參以海關進口稅則第9010節為「本章未列名之照相（包括電影）印室用器具及設備（包括將電路圖投影或繪圖在感光性半導體材料上之器具）；負片顯示器；放映用銀幕」，揆諸稅則9010節(I)(N)H.S.註解中文版第1352頁之詮釋：「將電路圖投影或繪圖在感光性半導體材料上的器具，用於電子積體電路的製作上。此類器具係將線路圖樣在預為塗敷於半導體晶圓表面的感光膜上曝光。該設備包括下列類型的器具：⑴使用光罩或網線之器具……上述器具包括下列類型：(a) 接觸印相機。……(b) 近接校準器。……(c) 掃描校準器。……(d) 逐步及重複校準器。」（本院卷第86-87 頁），暨稅則8486節(B)(4)H.S.註解之詮釋：「微影設備─以光阻塗佈的方式將設計好的電路移轉至半導體晶圓表面，設備如下：……(b) 將電路設計……曝光在已塗佈光阻上之晶圓上的設備。(i) 使用光罩或網線並在光阻上曝光……(a) 接觸印相機。……(b) 近接式對準器。……(c)掃描式對準器。……(d) 步進及重複式對準機……。」（訴願卷第108 頁），均明列僅上開4 項器具可歸列該節。本件系爭貨物係安裝於準分子雷射光源設備，並非上述所列之4 項器具，自非稅則第9010.41 至9010.49 目所屬器具之零件及附件，亦非屬第8486節所屬機器之零件及附件，原告稱系爭貨物為將電路圖投影繪圖在感光性半導體材料上的器具，專用於掃描步進照像機及步進重複照像機之零附件，並據以主張應歸列稅則號別第9010.90.30號、第8486.90.00號云云，應有誤解，核非可採。

⒊原告所提張勁燕教授出具之專家意見書已明確記載「……此特別裝置線變窄模組……搭配氟化氪（KrF ）和氟化氬（ArF ）準分子雷射光源後，成為明確專用於半導體製程微影技術之『準分子雷射系統光源設備』」（本院卷第35-36 頁）、「在半導體製程中，需利用準分子雷射系統所裝配之線變窄模組來處理雷射光源……」（本院卷第140 頁）；另原告提出其產品主要銷售廠商ASML公司專業人員徐仲偉出具之聲明書亦載明「頻寬壓縮模組……為微影技術系統專用光源設備之零件或附件，其功能在接收各種波長之光束後，調整波長分布，將調整後之光束傳送至掃描步進照像機或步進照像機，以供半導體微影技術製程中之光蝕刻（或稱照像）工程之用」（本院卷第40頁）。經核上開意見均指明系爭貨物為雷射光源設備之零附件，並無原告所稱專家意見認系爭貨物為微影照像設備之掃描步進照像機及步進重複照像機零附件之情，尚難採據為有利於本件原告之認定。又系爭貨物之功能與用途，依據卷附資料已足認定，原告聲請訊問證人陳維恕博士，並前往原告相關廠商廠址履勘，均核無必要，爰不為此部分之證據調查。

⒋至於原告所引稅則疑義資料清表（序號：00000000），其結論為：「本案實際到貨如經查核其係配合『KrF 248nm Excimer Laser （氟化氪248 奈米準分子雷射）使用者，並認定其屬『雷射專用零、附件』範疇，則同意歸列稅則第9013.90.90號」，與被告就本件系爭貨物之認定並無不同，被告亦無原告所指錯解該稅則解釋結論之違誤情事，原告此部分之主張，容有誤會，並無可採。

㈤原告雖又稱縱認系爭貨物屬於雷射之零件或附件，系爭貨物亦屬符合「具有明確專用功能之雷射」，或「可視為工作機器、醫學器具、控制器具、量測器具等之雷射」之敘述，應排除於9013節中，被告未探究系爭貨物是否有9013節排除條款適用之情事，逕為不利原告之處分，違反行政程序法上有利不利均應一併注意之法律原則，構成裁量瑕疵云云。然H.S.註解對9013節關於此部分之詮釋為：「……本節不包括加了具有特別裝置的輔助設備後，而具有明確專用功能之雷射（例如：工作台、工作夾持器、用來進料和定位工作件、用來觀察及檢查操作程序等），以及因而可視為工作機器、醫學器具、控制器具、量測器具等之雷射。目前為止該類器具在標準商品分類法中分類並不明確，它們應歸入具相似功能的機器或用具內。例如包括：，(i) 雷射切削工具機……。(ii)不論是否具切割能力之雷射錫銲、雷射銅銲或雷射熔接機器及器具（第85.15 節）。(iii) 使用雷射光束平準（校正）管之儀器（第90.15 節）。(iv)醫學專用雷射器具（例如：用於眼科手術）（第90.18 節）」（本院卷第94頁反面），而系爭貨物係配合KrF 248nm Excimer Laser （氟化氪248 奈米準分子雷射）光源設備使用之零件附件，既非屬前揭H.S 註解所列因具特別裝置之輔助設備後，具有明確專用功能之雷射，即非工作台、工作夾持器、用來進料和定位工作件或用來觀察及檢查操作程序之設備，亦非屬因加了系爭貨物即可視為工作機器、醫學器具、控制器具、量測器具之雷射，復與所列應予排除之雷射切削工具機等器具不符，自與前揭詮釋不包括於9013節雷射之情形不符，原告主張自系爭貨物之功能觀之，其「明確專用」於半導體製程之雷射系統，應有9013節排除條款之適用云云，並據以指摘被告有前開之違法情事，核屬對稅則解釋之誤解，亦無足採。

㈥末查，原告所提歐盟及英國海關就相類貨物認定稅則號別之資料，對於我國海關並無拘束之效力，且送核之貨品型態、組成比例，對稅則之核定均有影響，尚難一概而論，自應由海關依實際來貨之功能與用途，認定應適用之稅則號別，原告引據之附件5 稅則號別疑義解答案例（本院卷第80-82 頁），非僅各該案件申報之中英文貨名與本案系爭貨物不同，且關稅總局稅則處就各該案件稅則適用表示之意見，亦屬個案之認定，無從比附援用，原告以上開案例中將申報貨名為「利用紫外線作高解析度之圖形轉移曝光系統之光源」，歸列稅則號別第9010.90.30號，指摘被告有違反平等原則及行政自我拘束原則之情事，難認有據。復以，原告雖稱國際間海關稅則實務，就使用於半導體製程中微影照像技術之零附件均已改列稅則8486節，即修正前9010節，被告認定違反我國以WTO 會員國簽署「關於資訊科技產品貿易」之協定，忽略我國依WTO 等國際規範應盡之義務，也忽略我國政府部門依WTO 國際規範所應尊守之準據，將國際間所要求關稅免稅化的半導體產業相關進口貨物任意改為應稅貨品，顯與法有違，且陷我國遭貿易制裁之危險，至屬非是云云，惟依法行政乃被告應恪遵之義務，在相關法律未修正前，被告依法行政並無違誤。

六、綜上所述，本件被告依系爭貨物之功能、用途，改列稅則號別為第9013.90.90號，並按稅率2.5%補徵稅款，並非無據，訴願決定遞予維持，亦無不合，原告徒執前詞，訴請撤銷，為無理由，應予駁回。

七、本件事證已臻明確，兩造其餘攻擊防禦方法均與本件判決結果不生影響，故不逐一論述，併此敘明。

八、據上論結，本件原告之訴為無理由，依行政訴訟法第98條第1 項前段，判決如主文。

臺北高等行政法院第五庭