資料來源：司法院法令判解系統
一、據本署公告第三批公私場所應申請設置變更及操作許可之固定污染源之半導體製造程序，係指從事晶片、晶圓製造、晶圓包裝、積體電路或其他半導體之生產者
內文
全文內容：一、據本署公告第三批公私場所應申請設置變更及操作許可之固定污染源之半導體製造程序，係指從事晶片、晶圓製造、晶圓包裝、積體電路或其他半導體之生產者。
二、技術研究單位如從事半導體之晶圓製造工作，則屬公告應申請許可之固定污染源，應依規定申請許可。
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