資料來源：司法院法令判解系統
本署公告「第二批公私場所應申請設置變更及操作許可之固定污染源」、公告「第三批公私場所應申請設置變更及操作許可之固定污染源」及公告「第二批應設置空氣污染防制專責單位或人員之公私場所」中所稱之炔類製造程序，係專指以化學合成方法從事炔類化合物之生產者，且化學合成過程中必須同時涉及高溫裂解（攝氏500度以上）、電子還原及吸熱反應
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全文內容：本署公告「第二批公私場所應申請設置變更及操作許可之固定污染源」、公告「第三批公私場所應申請設置變更及操作許可之固定污染源」及公告「第二批應設置空氣污染防制專責單位或人員之公私場所」中所稱之炔類製造程序，係專指以化學合成方法從事炔類化合物之生產者，且化學合成過程中必須同時涉及高溫裂解（攝氏 500 度以上）、電子還原及吸熱反應。
