資料來源：司法院法令判解系統
一、「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第二條及第三條規定該標準適用對象為：半導體製造業從事積體電路晶圓製造及封裝、磊晶、光罩製造及導線架製造等作業，且揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸及氫氟酸等各項物質之原物料年使用量，高於規定之數量者
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全文內容：一、「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第二條及第三條規定該標準適用對象為：半導體製造業從事積體電路晶圓製造及封裝、磊晶、光罩製造及導線架製造等作業，且揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸及氫氟酸等各項物質之原物料年使用量，高於規定之數量者。
二、本案台灣○○工業股份有限公司係從事液晶顯示器製造（包含光罩製造作業），倘其全廠製程中之揮發性有機物、三氯乙烯及硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸等無機酸年使用量超過前述規定，則屬「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」管制對象，應依該標準第八條規定，於 88.04.06 前向中央及當地主管機關提出污染防制計畫書。
