資料來源：司法院法令判解系統
一、「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第四條第一項規定：半導體製造業產生之硫酸廢氣，應由密閉排氣系統導入污染防治設備，並處理智每小時總排放量小於○‧一公斤，或排放削減氯應大於百分之九十五
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全文內容：一、「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第四條第一項規定：半導體製造業產生之硫酸廢氣，應由密閉排氣系統導入污染防治設備，並處理智每小時總排放量小於○‧一公斤，或排放削減氯應大於百分之九十五。另同法第四條第二項規定：「…硫酸等之廢氣若以濕式洗滌設備處理，無法證明符合前項標準時，其控制條件應符合下列之規定：…」及硫酸等酸性廢氣之排放量或削減率無法確認時，採防治設備控制條件規範之。
二、本案污染源倘硫酸排放濃度檢測值低於偵測極限（N.D.），以該偵測極限濃度值推估污染物排放量，並非污染物真實排放狀況，無法證明符合前述排放量或削減率，應依該管制標準第四條第二項之規定以防制設備控制條件，或其他經認可之較優控制條件予以規範。
