資料來源：司法院法令判解系統
一、「○○科技股份有限公司」之晶圓成品表面加工金屬凸塊製程，前經本署八十七年五月十二日（八七）環署空字第○○二八○四三號函（諒達），釋示毋需申請設置變更及操作許可在案，倘該公司僅擴增產能而未變更製造程序，且其全廠任一空氣污染物未經控制前每年之排放總量未達五十公噸時，仍非屬本署公告應申請設置、變更及操作許可之固定污染源
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全文內容：一、「○○科技股份有限公司」之晶圓成品表面加工金屬凸塊製程，前經本署八十七年五月十二日（八七）環署空字第○○二八○四三號函（諒達），釋示毋需申請設置變更及操作許可在案，倘該公司僅擴增產能而未變更製造程序，且其全廠任一空氣污染物未經控制前每年之排放總量未達五十公噸時，仍非屬本署公告應申請設置、變更及操作許可之固定污染源。
二、本署公告之「第二批應設置空氣污染防制專責單位或人員之公私場所」規定，從事晶片、晶圓製造、晶圓包裝、二極體、電晶體、液晶顯示器、積體電路或其他電子半導體之生產者，應設置甲級空氣污染防制專責人員。本案倘污染源僅從事晶圓成品表面加工金屬凸塊製造，且未有說明二之狀況，則毋需設置空氣污染防制專責人員。
