一、「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第四條規定：半導體製造業產生之廢氣應由密閉排氣系統導入污染防制設備，其揮發性有機物處理應符合排放削減率大於百分之九○或工廠總排放量每小時小於○‧六公斤；三氯乙烯應符合排放削減率大於百分之九○或工廠總排放量每小時小於○‧○二公斤，始得排放

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全文內容：一、「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第四條規定：半導體製造業產生之廢氣應由密閉排氣系統導入污染防制設備，其揮發性有機物處理應符合排放削減率大於百分之九○或工廠總排放量每小時小於○‧六公斤；三氯乙烯應符合排放削減率大於百分之九○或工廠總排放量每小時小於○‧○二公斤，始得排放。

二、前述規定，倘半導體製造業全廠所有排放管道揮發性有機物之總排放量每小時小於○‧六公斤，或三氯乙烯工廠總排放量每小時小於○‧○二公斤，即可符合該標準規定。惟主管機關申報確認其空氣污染物排放係採「排放削減率」或「工廠總排放量」擇一固定排放方式，俾利主管機關據以管制。

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• 環境部主管法規共用系統 行政函釋內容