資料來源：司法院法令判解系統
「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第二條及第三條規定該標準適用對象為：從事積體電路晶圓製造及封裝、磊晶、光罩製造及導線架製造等作業，且揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸及氫氟酸等各項物質之原物料使用量，高於規定之數量者；其中導線架製造係指製造積體電路晶片對外連接之引腳架，作業程序含研磨、拋光、電鍍、蝕刻或貼膠等
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全文內容：「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第二條及第三條規定該標準適用對象為：從事積體電路晶圓製造及封裝、磊晶、光罩製造及導線架製造等作業，且揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸及氫氟酸等各項物質之原物料使用量，高於規定之數量者；其中導線架製造係指製造積體電路晶片對外連接之引腳架，作業程序含研磨、拋光、電鍍、蝕刻或貼膠等。倘其揮發性有機物、三氯乙烯、無機酸等物質使用量符合上述規定時，即適用該標準之規定。
