資料來源：司法院法令判解系統
一、依本署公告第８批公私場所應申請設置、變更及操作許可之光電材料、元件或電子零組件製造程序，係指從事光電材料、元件或電子零組件製造，並具有塗佈、去塗佈、上膠、蝕刻或顯影等作業程序，其資本額達３萬元以上且廠房面積達50平方公尺以上者
內文
全文內容：一、依本署公告第 8 批公私場所應申請設置、變更及操作許可之光電材料、元件或電子零組件製造程序，係指從事光電材料、元件或電子零組件製造，並具有塗佈、去塗佈、上膠、蝕刻或顯影等作業程序，其資本額達 3 萬元以上且廠房面積達 50 平方公尺以上者。上述公告內容，主要係針對該製程中可能逸散之揮發性有機物加以管制。
二、本案○○光電股份有限公司平面背光源（無汞冷陰極燈管）製造程序，以銀膠、氧化鋁、螢光粉及玻璃粉末等為原料，於鈉玻璃基板進行網印、乾燥／燒結、排氣封止及模組組裝等程序，製成成品，該製程與前揭公告製程條件不同，非屬本署公告第 8 批公私場所應申請設置、變更及操作許可之固定污染源。
