資料來源：司法院法令判解系統
一、依本署公告第八批公私場所應申請設置、變更及操作許可之固定污染源規定，其中「光電材料、元件或電子零組件製造程序」係指：「從事光電材料、元件或電子零組件製造，並具有塗佈、去塗佈、上膠、蝕刻或顯影等作業程序，其資本額達３萬元以上且廠房面積達50平方公尺以上者」
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全文內容：一、依本署公告第八批公私場所應申請設置、變更及操作許可之固定污染源規定，其中「光電材料、元件或電子零組件製造程序」係指：「從事光電材料、元件或電子零組件製造，並具有塗佈、去塗佈、上膠、蝕刻或顯影等作業程序，其資本額達 3 萬元以上且廠房面積達 50平方公尺以上者。」主要係針對光電材料或電子零組件製造程序中所產生之揮發性有機物、無機酸及其他各項空氣污染物進行管制。
二、本案○○電子股份有限公司，倘以晶圓、銀膠、乙醇及丙醇等為原料，經黏晶粒、烘烤、焊線、蓋印及成型等程序進行快閃記憶卡製造者，已符合前揭公告條件，應依規定申請設置及操作許可證。
