資料來源：司法院法令判解系統
廢/停 貴轄○○科技股份有限公司函詢製程適用最佳可行控制技術及半導體製造業空氣污染管制及排放標準疑義案
要旨
貴轄○○科技股份有限公司函詢製程適用最佳可行控制技術及半導體製造 業空氣污染管制及排放標準疑義案，請查照。
內文
主 旨：貴轄○○科技股份有限公司函詢製程適用最佳可行控制技術及半導體製造業空氣污染管制及排放標準疑義案，請查照。
說 明：一、依據空氣污染防制法第 20 條規定，公私場所固定污染源排放空氣污染物，應符合排放標準。爰此本署已發布固定污染源空氣污染物排放標準及半導體製造業空氣污染管制及排放標準（以下稱半導體排放標準）等行業別適用之管制標準，公私場所排放空氣污染物，自應妥做好空氣污染防制措施，符合上述排放標準規定。
二、又依據本署於 91 年 10 月 30 日以環署空字第 0910075163Ａ 號公告固定污染源最佳可行控制技術，半導體製造程序所應採用之最佳可行控制技術者，為從事晶片製造、晶圓製造、晶圓封（包）裝、積體電路或其他半導體生產者，其揮發性有機物得採行之最佳可行控制技術為：一、可行控制技術：熱焚化技術。二、所採行技術應使空氣污染物符合排放量小於 0.6 公斤／小時或排放削減率大於或等於 92％。
三、有關該廠半導體製造程序採行活性碳吸附回收技術，非屬上開規定列舉之可行控制技術，倘該廠提出所採行技術應使空氣污染物符合排放量小於 0.6 公斤／小時或排放削減率大於或等於 92％ 之佐證資料送貴局審查，經審查認可，則屬規定之最佳可行控制技術（BACT）。
四、本案所詢有關該公司半導體製造程程序原物料量小於半導體排放標準規定用量，其適用之管制標準疑義乙節，依半導體排放標準規定，半導體製造業之揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸及氫氟酸等原物料年用量大於規定用量者，則其排放該物種應符合前揭標準規定。倘該廠三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸及氫氟酸等原物料用量少於前揭所規定之年用量者，不適用該半導體排放標準管制，惟其空氣污染物排放仍應符合固定污染源空氣污染物排放標準之規定。本案請依其製程實際操作狀況，逕依權責予以認定後復該公司。
