資料來源：司法院法令判解系統
函詢貴轄○○股份有限公司屬電子及半導體生產設備修配業，實機測試時排放氫氟酸等空氣污染物，是否屬公告第二批應申請設置、變更及操作許可之固定污染源疑義案
要旨
函詢貴轄○○股份有限公司屬電子及半導體生產設備修配業，實機測試時 排放氫氟酸等空氣污染物，是否屬公告第二批應申請設置、變更及操作許 可之固定污染源疑義案，復請查照。
內文
主 旨：函詢貴轄○○股份有限公司屬電子及半導體生產設備修配業，實機測試時排放氫氟酸等空氣污染物，是否屬公告第二批應申請設置、變更及操作許可之固定污染源疑義案，復請查照。
說 明：一、依本署公告應申請設置變更及操作許可之半導體製造程序，係指從事晶片製造、晶圓製造、晶圓封（包）裝、積體電路或其他半導體之生產者。上述積體電路晶片封（包）裝作業中若未涉及導線電鍍、浸錫、有機溶劑清洗或酸洗等步驟者，不在此限。管制重點不論實機測試，主要在規範公私場所從事上述半導體生產程序，排放揮發性有機物及無機酸等空氣污染物，應妥善做好空氣污染防制措施，以維護環境品質。
二、貴轄○○股份有限公司使用氫氟酸、鹽酸、硫酸、揮發性有機物，進行積體電路製造相關機台測試分析，修改製程條件修改作業，倘包括晶片製造、晶圓製造、晶圓封（包）裝、積體電路或其他半導體之生產程序，則屬本署公告應申請設置、變更及操作許可之固定污染源，其設置、變更及操作，應向所在縣市政府申請取得設置、變更及操作許可證，始得設置、變更及操作。
