資料來源：司法院法令判解系統
貴轄○○股份有限公司函詢申請固定污染源操作許可證之製程名稱疑慮一案
要旨
貴轄○○股份有限公司函詢申請固定污染源操作許可證之製程名稱疑慮一 案，請查照。
內文
主 旨：貴轄○○股份有限公司函詢申請固定污染源操作許可證之製程名稱疑慮一案，請查照。
說 明：一、依本署公告第 2 批公私場所應申請設置、變更及操作許可之無機酸製造程序，係指從事硫酸、硝酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸、氫氰酸或其他無機酸之生產者。另依第 8 批公私場所應申請設置、變更及操作許可之光電材料、元件或電子零組件製造程序，係指從事光電材料、元件或電子零組件製造，並具有塗佈、去塗佈、上膠、蝕刻或顯影等作業程序，其廠房面積大於 50 平方公尺以及生產設備之馬力與電熱合計達 2.25 千瓦以上者。前揭公告主要針對製程中可能產生之揮發性有機物、酸性氣體等空氣污染物加以管制。
二、本案貴轄○○股份有限公司為面板製造之上游玻璃加工廠，生產流程為玻璃經由濕式研磨、濕式切面加工後製成玻璃半成品，再使用蝕刻液（主要為四氟化碳及工業用純水反應生成之氫氟酸）並進入蝕刻機進行玻璃半成品蝕刻後，經由洗淨機清洗等程序產生產品，倘該公司完整製程同時包含生產氫氟酸及光電元件製造，屬本署公告應申請設置、變更及操作許可之無機酸製造程序及光電材料、元件或電子零組件製造程序，且屬具相關連之製造程序，則可依其製程特性，以主要製程合併申請及核發於同一張許可證，以確保許可核定資料之完整性及有效掌握空氣污染物排放情形。本案請 貴局本權責依其製程實際操作狀況予以認定後，逕復該公司。
