資料來源：司法院法令判解系統
函詢半導體製造業現地式處理設備是否應依「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」規定紀錄申報之疑義一案
要旨
函詢半導體製造業現地式處理設備是否應依「半導體製造業空氣污染管制 及排放標準」規定紀錄申報之疑義一案，復如說明，請查照。
內文
主 旨：函詢半導體製造業現地式處理設備是否應依「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」規定紀錄申報之疑義一案，復如說明，請查照。
說 明：一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準（以下簡稱排放標準）第 6條第 3 款及第 8 款規定，污染防制設備為清水洗滌吸收設施者，應記錄保養維護事項，以確保潤濕因子及填充段空塔滯留時間符合設施規範，並每日記錄各洗滌槽洗滌循環水量及廢水排放流量；以其他污染防制設備處理者，應記錄保養維護事項，並每日記錄主要操作參數。
二、公私場所以現地式處理設備處理製程廢氣，再經後端濕式洗滌塔處理，因現地式處理設備及濕式洗滌塔皆屬污染防制設備，故應符合排放標準第 6 條相關紀錄、保存、檢測與申報之規定。倘公私場所使用現地式處理設備屬於清水洗滌吸收設施者，仍應依排放標準第 6 條第 3 項規定辦理。
