水污染防治措施及檢測申報管理辦法 第 49-9 條
- 原始資料來源：全國法規資料庫、立法院法學系統
- 晶圓製造及半導體製造業、光電材料及元件製造業、印刷電路板製造業、電鍍業和金屬表面處理業符合下列情形之一者，其作業廢水應分流收集處理： 一、中華民國一百零六年十二月二十七日前尚未完成工程招標。 二、中華民國一百零六年十二月二十七日後新增製程單元及廢（污）水處理設施。 三、經主管機關查獲有繞流排放之情事涉及應進行工程改善。 四、違反本法相關規定，經主管機關裁處停工（業）或於限期改善期間內自報停工（業）、其申請復工（業）。
- 前項事業應分流收集處理作業廢水，規定如下： 一、晶圓製造及半導體製造業、光電材料及元件製造業和印刷電路板製造業： （一）研磨或切割廢水。 （二）氟系（含氟）廢水。 （三）氫氧化四甲基銨（TMAH）有機廢水。 （四）氰系（含氰）廢水。 （五）鉻系（含鉻）廢水。 （六）銅系（含銅）廢水。 二、電鍍業、金屬表面處理業： （一）氰系（含氰）廢水。 （二）鉻系（含鉻）廢水。
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