某半導體廠於25 ℃、1 atm 下排放之總廢氣流量為1000 CMM(m3/min),該廢氣中
含有HCl 及H2SO4空氣污染物,其濃度值經檢測分別為2500 與2000 ppbv。而半導體
相關法規規定該廠HCl 之排放量為不得超過0.6 kg/hr,H2SO4則不得超過0.1 kg/hr,
否則即需設置相關處理設施。
請問該廠應否設置相關處理設施,以符合法規需求?若需要設置防制設施,則其最
低處理效率為何?(原子量,H=1.0, Cl=35.5, S=32.1, O=16.0)(20 分)