智慧財產法院行政判決

原告

黃慶賢

訴訟代理人

蔡清福律師

訴訟代理人

蔡律律師

訴訟代理人

蔡馭理專利師

被告

經濟部智慧財產局

代表人

洪淑敏（局長）

訴訟代理人

陳聖

參加人

尼康股份有限公司

代表人

牛田一雄

訴訟代理人

江郁仁律師

上列當事人間因發明專利舉發事件，原告不服經濟部中華民國105 年6 月22日經訴字第10506306130 號訴願決定，提起行政訴訟，並經本院命參加人獨立參加本件被告之訴訟，本院判決如下：

主文

事實及理由

一、程序事項：

㈠被告之代表人於起訴時為王美花，嗣於本院審理期間變更為洪淑敏，並經其具狀聲明承受訴訟在卷（見本院卷二第409至410頁），經核無不合，應予准許。

㈡原告起訴聲明第1 項原為：「原處分及訴願決定均撤銷」（見本院卷一第11頁），嗣於民國106 年3 月6 日當庭變更為：「原訴願決定及原行政處分均撤銷，被告應作成舉發成立之審定」，被告及參加人並無異議（見本院卷二第473 至474 頁），而為本案之言詞辯論（本院卷二第538 至544 頁），依行政訴訟法第111 條第1 、2 項規定，自應允許。

㈢又原告雖於本件行政訴訟階段始提出「原證6 是否可證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性」、「原證2 、3 、6 、7之組合或原證2 、5 、6 、7 之組合是否可證明系爭專利請求項10不具進步性」之新爭點，惟按智慧財產案件審理法第33條第1 項規定：「關於撤銷、廢止商標註冊或撤銷專利權之行政訴訟中，當事人於言詞辯論終結前，就同一撤銷或廢止理由提出之新證據，智慧財產法院仍應審酌之」。次按，最高行政法院104 年度4 月份第1 次庭長法官聯席會議決議（下稱104 年聯席會議決議）：「不論係基於原舉發證據或新證據或新證據與原舉發證據之組合，於行政訴訟程序中倘經法院適當曉諭爭點，並經當事人充分辯論，而專利權人自行判斷後，復未向法院表明已向智慧局提出更正之申請時，依行政訴訟法第200 條第3 款及100 年12月21日修正公布，102 年1 月1 日施行前之專利法第67條第1 項第1 款或第107 條第1 項第1 款規定，法院審理之結果不論專利全部請求項或部分請求項舉發成立者，均得就全案撤銷舉發不成立之原處分及訴願決定，命智慧局為舉發成立、撤銷專利權之處分。」基此，智慧財產案件審理法第33條第1 項之立法目的，係在於減少就同一專利權之有效性爭執，循環發生行政爭訟，因此允許原告於行政訴訟中提出新證據及新證據組合。並且，為避免當事人任意擴大事實審理範圍及平衡當事人審級利益，將其限制在就同一撤銷或廢止理由提出之新證據。查原告於本件原處分階段是以原證2 、6 之組合主張系爭專利請求項1 、7 不具進步性，於本件行政訴訟階段方提出「原證6 足以證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性」之主張，係減少原證據組合中之證據數而僅剩單一引證案欲證明系爭專利請求項1 、7 缺乏新穎性，而在探究是否缺乏進步性之前，本即可就新穎性為審查，且由主張缺乏進步性改為缺乏新穎性，係有效性與否之轉降，在未提出新證據，且不用考量證據間的交互相乘作用，而限縮審理範圍，在被告即原處分機關已經對證據6 的整體技術內容曾加以審查之情況下，並不會造成突襲或延滯訴訟，職是，原告主張「原證6是否足以證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性」應納入審理範圍，應予准許。次查，原告於本件原處分階段係以原證2、6 、7 之組合主張系爭專利請求項10不具進步性，於本件行政訴訟階段方提出「原證2 、3 、6 、7 及原證2 、5 、6 、7 之組合足以證明系爭專利請求項10不具進步性」之主張，僅以原證據提出新證據組合，且由於原告於原處分階段已提出「原證2 、3 、6 、7 及原證2 、5 、6 、7 之組合足以證明系爭專利請求項5 不具進步性」之主張，系爭專利請求項5 和請求項10的技術特徵一致，相對應的證據組合亦已被被告即原處分機關審查過，因此，原告在本件訴訟階段始提出前述主張並不會造成突襲或延滯訴訟。準此，本院對於原告主張「原證2 、3 、6 、7 及原證2 、5 、6 、7 之組合是否足以證明系爭專利請求項10不具進步性」之新爭點，亦應准許。

二、事實概要：參加人前於89年11月22日以「曝光裝置及曝光方法」向被告申請發明專利，並以西元1999年11月26日申請之日本第00-000000 號專利案及2000年10月17日申請之日本第0000-000000 號專利案主張優先權，經被告編為第89124732號審查，准予專利，發給發明第146977號專利證書（下稱系爭專利）。嗣原告以系爭專利違反核准時專利法第20條第2 項之規定，對之提起舉發，參加人旋於104 年1 月9 日提出申請專利範圍更正本，經被告審查，以105 年1 月20日(105) 智專( 二)04169字第10520064240 號專利舉發審定書為「104 年1 月9 日之更正事項，准予更正。請求項1 至11舉發不成立。」之處分。原告對於原處分關於更正符合現行專利法第67條第1 項第2 款與第2 、4 項之規定，作成「104 年1 月9 日之更正事項，准予更正」部分不爭執，對舉發不成立部分不服，提起訴願，經經濟部105 年6 月22日經訴字第10506306130 號決定駁回，遂向本院提起行政訴訟。本院認本件判決之結果，若認定應撤銷訴願決定及原處分，將影響參加人之權利或法律上之利益，遂依職權命參加人獨立參加本件訴訟。

三、原告聲明求為判決原訴願決定及原行政處分均撤銷，被告應做成舉發成立之審定，並主張：

㈠原證2 、6 之組合足以證明系爭專利請求項1 、7 不具進步性：

⒈原證6 存在系爭專利請求項1 「投影光學系統具有掃描方向調整機構」之技術特徵，被告僅因原證6 將元件3a～3e命名為投影光學系統，就逕行認為該元件3a～3e必須對應系爭專利的投影光學系統（例如：原證1 元件12a ～12e ），顯然速斷而屬無稽。尤其，「系統」泛指「由一群有關聯的個體組成，根據某種規則運作，能完成個別元件不能單獨完成的工作的群體」（參見維基百科定義），例如，系爭專利之「倍率調整機構」把投影光路徑上的元件31～33及35～37之直角稜鏡、透鏡、凹面鏡組合泛稱為「戴桑型光學系統」以及元件45、47亦泛稱為「變焦距光學系統」。相同的，原證6的倍率調整機構即「投影光學系統3a～3e」（其包括例如原證6 圖11的凹透鏡及凸透鏡模組30a ～30c ），也都是泛指投影光路徑上與倍率調整（changing magnification）有關聯的光學器件總成，屬於抽象性元件概括，而非指具有固定外形構件。更有甚者，由於投影的光路徑不能被打斷或遮蔽，否則無法成像。因此，系爭專利圖2 和原證6 圖6 的投影光都是經過一連串複數個特定功能的光學器件或子系統，而與該等光學器件或子系統共同構成一個完整作用系統。如前所述，不同撰寫者既對相同或不同之系統或子系統有著不同或相同之名稱，則吾人允不宜困於單一泛指名稱，並據之而強加形式上區分內外，且竟指為實質上有所不同。被告因拘泥於名詞本身，而機械性強為誤認原證6 與原證1 或原證2的投影光學系統與掃描方向調整機構之從屬關係不同，誤會其實質上有異，或竟誤認其無法與原證2 結合，顯有不當且違法。

⒉原證6 的「投影光學系統3a～3e」在曝光裝置中的功能定位上應該對應於系爭專利的「倍率調整機構」（其係由「戴桑型光學系統」31～33、35～37及「變焦距光學系統」45、47構成），而非對應系爭專利的「投影光學系統12a ～12e 」，同一曝光裝置本有多個器件或子系統，如何將多個器件歸屬何一系統，乃專利撰稿者之任意選擇。如若拘泥或自陷於詞語之記載形式相同，而將實質上不相同之器件（例如，系爭專利的投影光學系統12a ～12e 和原證6 的投影光學系統3a～3e），硬指為相同元件，豈非與根據說明書解釋申請專利範圍的法理背道而馳？依通常概念，兩個子系統之組合可以合稱為一個系統。例如，原證6 的「平行玻璃鏡片4a～4e」在功能上為一「位移調整機構」（子系統），「投影光學系統3a～3e」在功能上為一「倍率調整機構」（子系統），兩者之組合即可以合稱為一投影光學系統。由於系爭專利的掃描方向調整機構120 同時包括「位移調整機構」及「倍率調整機構」之功能，因此原證6 的對應部件應為平行平板玻璃4a～4e（位移調整機構）及投影光學系統3a～3e（倍率調整機構）內的倍率調整光學元件（例如，凹透鏡及凸透鏡模組30a ～30c ）。綜言之，系爭專利請求項1 之曝光裝置雖因撰稿者之偏好而擁自有定義之投影光學系統（例如，元件12a～12e，其包含平行平板玻璃41、42與兩戴桑型光學系統31～33及35～37與變焦距光學系統45、47之組合）而直接對應原證6 曝光裝置中投影光學系統（即平行平板玻璃4a～4e與投影光學系統3a～3e等兩個子系統之組合）；系爭專利的掃描方向調整機構（例如，平行平板玻璃41、42與倍率調整機構內的第一組戴桑型光學系統31～33與變焦距光學系統45等倍率調整光學元件之組合），故直接對應了原證6 的掃描方向調整機構（即平行平板玻璃4a～4e與投影光學系統3a～3e內的倍率調整光學元件（例如，凹透鏡及凸透鏡模組30a～30c ）之組合）。此外，由原證6 圖2 ，當即可是認或證明上述原告之論點，從原證6 圖2 很明顯可知，投影光學系統3a～3e和平行玻璃鏡片4a～4e與放大倍率控制裝置（MAGCONT DEV，原證6 元件10）、控制裝置（CONT DEV，原證6元件11）以及驅動裝置（DR DEV，原證6 元件12）等元件共同形成一控制系統（control system），實現光軸AX1～AX5的移動。因此，原證6 投影光學系統3a～3e和平行玻璃鏡片4a～4e係在同一光學系統中之投影光路徑上連續作用以達成投影之位移調整及倍率調整目的的兩個主要光學器件模組或子系統。原證6 撰稿者所使用名稱投影光學系統3a～3e和平行玻璃鏡片4a～4e兩者因為光源的直接進出，彼此間僅存在命名或稱呼上之區別，且其間不存在任何殼體使之彼此物理上有所分隔。被告所認原證6 的投影光學系統與掃描方向調整機構為彼此分開的元件而不屬於同一光學系統，顯然是被文字表面所迷惑，而未能回歸技術的本質所使然。綜上，原證6 之曝光裝置因含有倍率調整機構與位移調整機構兩者，與系爭專利或原證2 莫不相同，亦存有兩機構組成之投影光學系統及包含其中之「掃描方向調整機構」，故其技術特徵本得與原證2 結合。

⒊原證6 可完成系爭專利請求項1 「前述掃描方向調整機構是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像之前述掃描方向之位置」之技術特徵：

⑴利用原證6 的（Dx11－Dx12）與（Dx21－Dx22）平均值變成基板或光罩沿著光軸的旋轉量並非比對重點，因為旋轉量係用於調整影像旋轉校正，而非用於調整影像在掃描方向之位移校正。其次，利用原證6 的（Dx11－Dx21）與（Dx12－Dx22）轉換成感光基板在掃描方向（X 方向）的膨脹量及收縮量才是比對重點，因為該膨脹量及收縮量係用於位移校正而決定了如何調整前述投影像之掃描方向之位置。其例示透過掃描方向調整機構120 對五個投影領域M1～M5根據旋轉量之計測結果進行旋轉校正（圓弧狀箭頭），以及在掃描方向或非掃描方向（X 方向及Y 方向箭頭）根據各該方向的膨脹量及收縮量之計測結果進行位移校正之示意圖（原證1 第36～37頁）。

⑵被告聲稱原證6 的曝光裝置透過參數（Dx11－Dx12）與（Dx12－Dx22），調整的結果就如圖6 所示，調整的是影像在基板上的y 方向（非掃描方向）位置乙節，被告顯然曲解原證6 內容，企圖混淆視聽。因為，（Dx11－Dx21）與（Dx12－Dx22）的平均值雖變成感光基板在掃描方向的膨脹／縮減量，但是原證6 並未以圖式表示此揭露內容，僅透過文字闡明。原證6 的圖6 是關於（Dy1 －Dy2 ）的計測結果和調整方式（即調整影像在基板上的Y 方向〔掃描方向〕位置），與（Dx11－Dx21）與（Dx12－Dx22）的計測結果和調整方式剛好相反。因此，原證6 圖6 恰巧可以旁證原證6 揭露（Dx11－Dx21）與（Dx12－Dx22）的計測結果係用於調整影像在基板上的X 方向（掃描方向）位置。

⒋詳言之，根據原證6 第8 欄第5 至8 行記載，係利用沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向（Y 方向）形成之複數對準標記Dx11、Dx12、Dx21及Dx22，透過至少（Dx11－Dx21）與（Dx12－Dx22）轉換成感光基板在掃描方向（X 方向）的膨脹量及收縮量之計測結果（As a result, the average valueof the differences〔Dx11－Dx21〕and 〔Dx12－Dx22〕ofthe respective positions becomes the amount of expansion and contraction of the photosensitive substratein the X-direction）。此外，根據原證6 第8 欄第49至55行記載，此掃描方向（X 方向）的膨脹量及收縮量之計測結果，於隨後的曝光階段，即作為調整投影像之掃描方向（X方向）之位置依據，控制投影光學系統3a～3e及平行玻璃鏡片4a～4e之改變光放大倍率及位移量（Then, when performing exposure to the photosensitive substrate 5, thecontrol device 11 changes magnifications of the projection optical systems 3a to 3e by means of the magnification control device 10 based on the amounts ofexpansion and contraction stored in the memory andsends instructions to a drive device 12 to drive theplane parallel glasses 4a to 4e to shift the opticalaxes）。準此，原證6 揭露的技術手段已完全揭露系爭專利「沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向（Y 方向）形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像之前述掃描方向之位置」。

⒌原證6 第7 欄第17至21行亦明確揭露標記Dyl 、Dy2 是沿掃描方向X 形成之複數對準標記（marks Dy1, Dy2…formed…successively along the scanning direction ）。原證6第7 欄第22至25行明確揭露標記Dx11、Dx12、Dx21及Dx22是沿非掃描方向形成之複數對準標記（marks Dx11、Dx12、Dx21及Dx22…formed…in Y-direction），職是，被告在舉發核駁理由中，對於原證6 揭露技術的解讀顯然錯誤。

⒍此外，被告已經承認原證6 的對準標記Dyl －Dy2 揭露了「基於…掃描方向之複數對準標記之計測結果，（以）調整前述投影像在前述非掃描方向之位置」。這個結論可以與系爭專利的技術內容作相同類比，例如系爭專利圖14揭露基於掃描方向（X 方向）之複數對準標記24a ～24j 之計測結果，以調整前述投影像在前述非掃描方向（Y 方向）之位置。相同地，原證6 相似的技術揭露內容可參考圖6 的說明。首先，原證6 第8 欄第29至33行揭露掃描方向X 形成之複數對準標記（即Dy1 及Dy2 ）係用以計測非掃描方向Y 的膨脹量及收縮量Dy1 －Dy2 （"he amount of expansion and contraction of the photosensitive substrate in the Y-direction due to its position in the X-direction can beobtained continuously by converting the differencebetween the detection signals of the mark Dy1, Dy2to the distance in the Y-direction" ）。其次，原證6第9 欄第63~67 行及第10欄第1~9 行揭露基於此掃描方向之複數對準標記之計測結果，以調整前述投影像在前述非掃描方向之位置。極其明顯者，系爭專利和原證6 在掃描方向（X 方向）之複數對準標的作用是一致的。依此結果，本領域具有通常知識者可直接而無歧異的反面論證，系爭專利和原證6 在非掃描方向（Y 方向）之複數對準標的作用也是一致的。例如，根據原證6 第11欄第6~11行內容可知，在非掃描方向（Y 方向）之複數對準標記Dx同樣可以透過Dx11－Dx21與Dx12－Dx22（可簡記為Dx1 －Dx2 ），計測出掃描方向X的膨脹量及收縮量，以調整前述投影像在非掃描方向（Y 方向）之位置（Also, when correcting the expansion andcontraction of each arbitrarily chosen position onthe photosensitive substrate in the X-direction, themagnifications of the projecti onoptical systems andthe angles of rotations of the plane parallel glasses are controlled continuously during scanning exposure）。

⒎綜上，原證6 可完成系爭專利請求項1 「前述掃描方向調整機構是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像之前述掃描方向之位置」之技術特徵。由於系爭專利與原證6 之曝光裝置兩者就掃描方向調整機構本身或其設置，基於前述，並無所異，故強欲判斷掃瞄方向調整機構與同一曝光裝置內吾人得隨意命名之某一相關特定名稱系統之從屬關係是否相同，顯屬無稽，亦可輕易判知系爭專利與原證6 兩者中相關投影光學系統與掃描方向調整機構兩者之驅動方式亦無不同，故熟習該項技術者本可組合原證2 、6的內容，而輕易完成系爭專利請求項1 的發明。再者，系爭專利請求項1 記載之投影光學系統、其結構與「調整」影像的方式，皆與原證6 實質相同；證據2 與原證6 在投影光學系統的結構上並無實質差異，雖兩者透過位移量來調整的計算方式有所不同，俾分別適用於投影光學系統本身誤差的校正以及感光基板變形的校正，然因兩者適用於不同部分的校正，兩者本無衝突之可言。更何況，原告之證據組合僅取其一，即有關感光基板變形誤差的校正，而與另一投影光學系統本身誤差的校正委無相涉，則此兩證據本得輕易組合。又因爭專利更正後請求項7 僅是與請求項1 實質相同的曝光方法，因此也可被輕易完成。故原證2 、6 的組合足以證明系爭專利請求項1 、7 不具進步性。

㈡原證6足以證明系爭專利請求項1、7不具新穎性：原證6 已然揭露系爭專利請求項1 之一種曝光裝置（元件1），其係沿既定方向（掃描方向X ）同步掃描具有圖案之光罩（元件2 ）與基板（元件5 ），透過完整投影光學系統（元件3a～3e與4a～4e之組合）於前述基板上進行前述光罩圖案之曝光者，其特徵在於：前述投影光學系統個別地具有掃描方向調整機構（元件4a～4e與3a～3e內部倍率調整光學元件之組合），以調整投影於前述基板之投影像在前述掃描方向之位置。至於系爭專利請求項1 剩餘之區別技術特徵，即「前述掃描方向調整機構是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像之前述掃描方向之位置」，，已被原證6 所完全揭露。又系爭專利更正後請求項7 僅是與請求項1 實質相同的曝光方法。綜上，原證6 本身即足以證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性。

㈢原證2 至7 之各相應組合足以證明系爭專利請求項2 至6 、8至11不具進步性：

⒈原證2 、5 、6 之組合足以證明系爭專利請求項2 不具進步性：系爭專利請求項2 為請求項1 之附屬項，而包括請求項1 之全部技術特徵，再做進一步之界定。被告及訴願決定均承認原證5 、6 之組合已揭示請求項2 所進一步界定之技術特徵。由於原證2 、6 之組合已揭露請求項1 所有技術特徵，故原證2 、5 、6 之組合足以證明系爭專利請求項2 不具進步性。

⒉原證2 、6 之組合足以證明系爭專利請求項3 、8 不具進步性：系爭專利請求項3 、8 分別為請求項1 、7 之附屬項，其包括請求項1 、7 之全部技術特徵，而再做進一步之界定。由於系爭專利請求項3 、8 進一步界定之技術特徵與請求項1、7 ，實質差別僅在於投影光學系統具有沿與前述掃描方向交叉之方向配設之複數投影光學系統模組，然而，不論原證2 和原證6 都揭露了請求項3 、8 進一步之界定之技術特徵。例如，原證2 揭露投影光學系統（元件5 ～9 投影透鏡）係具有沿與前述掃描方向交叉之方向配設之複數投影光學系統模組（元件400 ～402 、圖29～30之凹透鏡及凸透鏡模組），掃描方向調整機構（元件17～21調整機構）係調整前述複數投影光學系統模組400~402 之各模組在前述掃描方向之投影像位置（參見原證2 第5 欄第62至65行、第7 欄第12至16行及第12欄第47至59行）。再例如，原證6 揭露投影光學系統（元件3a～3e與4a～4e之組合）係具有沿與前述掃描方向交叉之方向配設之複數投影光學系統模組（元件3a～3e、30a ～30c ，圖11之凹透鏡及凸透鏡模組），掃描方向調整機構（元件4a～4e與3a～3e內部倍率調整光學元件之組合）係調整前述複數投影光學系統模組（3a～3e、30a ～30c ）之各模組在前述掃描方向之投影像位置（參見原證第6 欄第18至35行、第6 欄第35至43行及第11欄第63行至第12欄第1行；圖1 、圖11）。原證2 、6 之組合已揭露請求項1 、7所有技術特徵，故原證2 、6 之組合足以證明系爭專利請求項3 、8 不具進步性。

⒊原證2 、3 、6 之組合足以證明系爭專利請求項4 、9 不具進步性：系爭專利請求項4 、9 分別為請求項1 、7 之附屬項，其包括請求項1 、7 之全部技術特徵，而再做進一步之界定。由於原證2 、6 之組合已揭露請求項1 、7 所有技術特徵，故原證2 、3 、6 之組合足以證明系爭專利請求項4 、9 不具進步性。

⒋原證2 、6 、7 、原證2 、3 、6 、7 、原證2 、5 、6 、7 之組合足以證明系爭專利請求項5 、10不具進步性：系爭專利請求項5 、10分別為請求項1 至4 、7 及8 之附屬項，其包括請求項1 、7 之全部技術特徵，而再做進一步之界定。由於原證2 、6 、原證2 、3 、6 、原證2 、5 、6之組合已揭露請求項1 至4 、7 及8 所有技術特徵，故原證2 、6 、7 、原證2 、3 、6 、7 、原證2 、5 、6 、7 之組合足以證明系爭專利請求項5 、10不具進步性。

⒌原證2 、4 、6 之組合足以證明系爭專利請求項6 、11 不具進步性：系爭專利請求項6、11分別為請求項1、7之附屬項，其包括請求項1 、7 之全部技術特徵，而再做進一步之界定。由於原證2 、6 之組合已揭露請求項1 、7 所有技術特徵，故原證2、4、6 之組合足以證明系爭專利請求項6 、11不具進步性。

四、被告聲明求為判決原告之訴駁回，並抗辯：

㈠原證2 、6 之組合無法證明系爭專利請求項l 及7 違反專利法第20條第2 項的規定：

⒈系爭專利請求項1 於104 年1 月9 日更正後版本之記載「投影光學系統具有掃描方向調整機構」，對照系爭專利說明書第12頁之記載與圖2 、3 之顯示，投影光學系統12a 具備成像特性調整機構120 （掃描方向調整機構）。投影光學系統12a 具有上下組合2 組光學系統之構成，係由光學系統31～33、視場光闌34和第2 部份光學系統35～37所構成。第1 部份光學系統，具有直角稜鏡31、透鏡32及凹面鏡33；第2部份光學系統，具有直角稜鏡35、透鏡36及凹面鏡37，而掃描方向調整機構120 所涵括的元件應參照圖2 所示。由上可知，系爭專利的投影光學系統12a 已包含掃描方向調整機構120 ，而掃描方向調整機構120 又包含多個透鏡與反射鏡組。系爭專利請求項1 的各元件從屬（包含）關係與圖2 、3 相符。證據6 的掃描方向調整機構（又稱平行玻璃片元件，元件4a～4e）確實未被包含於投影光學系統（元件3a～3e），證據6 圖6 其實證明了成像特性調整可執行於投影光學系統之外，此差異與請求項1 的限制不相符。再者，原告所舉原證6 的掃描方向是X 方向，調整機構（元件4a～4e）調整的是影像在基板上的Y 方向（非掃描方向）位置，如圖6 與第9 欄第48行起的內容顯示原影像應落於α位置，藉由元件4a的偏轉，調整為落於α’位置。反觀系爭專利說明書第13頁對圖4 的說明，藉由位移部41、42（位移機構），其用來隨著光罩10沿X 方向（掃描方向）及Y 方向（非掃描方向）之移動，而系爭專利請求項1 僅限定「具有掃描方向調整機構，以調整投影於前述基板之投影像在前述掃描方向之位置」。承上可知，系爭專利請求項1 記載之投影光學系統12a 所具有的掃描方向調整機構120 ，其「調整」影像的投影位置的方式，與原證6 有所不同。同時，原證2 圖1 的掃描方向調整機構（元件17～21）是被包含於投影光學系統（元件5～9 ），再依據第7 、9 欄之記載，元件17～21可利用Δx1、Δx2、Δy1、Δy2等位移量來調整水平方向（shift x 、shifty）的位置與旋轉量（Rot ）。顯然原證2 與原證6對位移量來調整計算方式完全不同，無法證實原證2 與原證6組合後的計算方式為何。綜上，系爭專利請求項1 記載之投影光學系統，其結構與「調整」影像的方式，皆與原證2、6有所不同；復以證據2 與原證6 在投影光學系統的結構上有差異，結構上並非可輕易組合，且原證2 與原證6 位移量來調整計算方式完全不同，難以證實原證2 與原證6 可以輕易組合，即便組合也還是欠缺「前述投影光學系統具有掃描方向調整機構，以調整投影於前述基板之投影像在前述掃描方向之位置」，故不足以證明系爭專利請求項l 違反專利法第20條第2 項的規定。

⒉系爭專利請求項1 於104 年1 月9 日更正後版本之記載所新增的技術特徵，係對應於圖18與說明書第32頁，圖18顯示沿與前述掃描方向（箭頭方向）交叉之非掃描方向形成之複數對準標記（元件24k ～24p ），調整前述投影像在前述掃描方向之位置。前已說明爭專利請求項1 記載之「調整」影像的投影位置的方式，與原證6 有所不同的原因。再者，原證6 第8 欄第5 至10行等內容記載（Dx11－Dx12）與（Dx12－Dx22）的平均值變成基板在掃描方向的膨脹／縮減量，（Dx11－Dx12）與（Dx21－Dx22）的平均值變成基板或光罩沿著光軸的旋轉量，調整的結果就如圖6 所示，調整的是影像在基板上的y 方向（非掃描方向）位置。此外，原證6 第8欄第25至28行等內容記載Stage 6 的Y 方向控制是藉由Dy1 、Dy 2，與X 方向有關的Y 方向膨脹／收縮量控制也是藉由Dy1 、Dy2 ，承上可知，原證6 其實未揭示原告所指摘請求項1 的技術特徵。復與原證2 第7 欄及圖1 ～3 等記載shiftx、shifty、Rot 等掃描、非掃描方向位置與旋轉量等修正值計算公式並不相同，原證2 其實也沒有直接揭示原告所指摘請求項1 的技術特徵。更且，由原證2 與原證6的 記載可發現，二者的修正值之計算公式根本不同。綜上，因原證6並未揭露系爭專利請求項1 的「調整前述投影像在前述掃描方向之位置」技術特徵，且原證6 與原證2 在驅動投影光學系統與掃描方向調整機構的從屬關係不同，調整影像的方式不相同，且修正值計算公式差異頗大，熟習該項技術者應無法組合申請前既有的原證2 、6 的內容，即便勉強組合申請前既有的原證2 、6 的內容，亦無法輕易完成系爭專利請求項1 的發明，故原證2 、6 的組合不足以證明系爭專利請求項1 及7 （請求項1 所對應的方法請求項）違反核准當時專利法第20條第2 項之規定。

㈡前已說明系爭專利更正後請求項1 、7 與原證6 技術特徵的不同，包括結構與「調整」影像的方式等不同。因此，單以原證6 不足以證明系爭專利請求項1 及請求項7 （請求項1所對應的方法請求項）違反核准當時專利法第20條第1 項之規定。

㈢雖證據5 、6 之技術特徵的組合已揭示系爭專利請求項2 所附加的技術特徵，但由於因熟習該項技術者應無法組合證據2 、6 的內容已於前所述，且證據5 並未揭露證據2 、6 與系爭專利請求項1 之間具差異之技術特徵，是以由證據2 、5 、6 所揭露內容之組合，熟習該項技術者仍無法輕易完成系爭專利請求項2 之發明。

㈣原告認為原證2 與原證6 均已揭示系爭專利請求項3 、8 的「前述投影光學系統，係具有沿與前述掃描方向交叉之方向配設之複數投影光學系統模組；前述掃描方向調整機構，係調整前述複數投影光學系統模組之各模組在前述掃描方向之投影像位置。」技術特徵，並且分別於原證2 與原證6 各指摘3 處內容。然所被指摘的原證2 與原證6 該等內容，皆與系爭專利請求項3 、8 的「前述投影光學系統，係具有沿與前述掃描方向交叉之方向配設之複數投影光學系統模組；前述掃描方向調整機構，係調整前述複數投影光學系統模組之各模組在前述掃描方向之投影像位置。」技術特徵無關，復以證據2 與證據6 無法輕易組合的理由也敘明，故熟習該項技術者仍無法依證據2 、6 所揭露內容之組合而輕易完成系爭專利請求項3 、8 之發明。

㈤原告認為證據3 第13、34圖的內容與證據2 、6 等的重疊區域內容，主張系爭專利請求項4 為證據2 、證據6 與證據3的組合與修飾、置換而可輕易獲得，故系爭專利請求項4 不具進步性。然證據3 與系爭專利的元件比對已於原處分說明，證據3 雖揭示系爭專利請求項4 所附加的技術特徵，但由於證據2 與證據6 無法輕易組合而得到系爭專利請求項1 的發明，且證據2 、6 所欠缺揭示系爭專利請求項1 的部分技術特徵，該欠缺的技術特徵仍未於證據3 揭示，故證據2、3、6 等的組合與修飾、置換仍不足以證明系爭專利請求項4違反核准當時專利法第20條第2 項之規定。

㈥證據7 與系爭專利的元件比對已於原處分說明，證據7 雖揭示系爭專利請求項5 所附加的技術特徵，但是由於證據2與證據6 無法輕易組合而得到系爭專利請求項1 的發明，且證據2 、6 所欠缺揭示系爭專利請求項1 的部分技術特徵都已敘明，該欠缺的技術特徵仍未於證據7 揭示，故證據2 、6、7 等的組合與修飾、置換仍不足以證明系爭專利請求項5違反核准當時專利法第20條第2 項之規定，原處分之方式並無違誤，訴願理由書第20頁下段至第27頁之主張不可採。相同地，證據2 、6 所欠缺揭示系爭專利請求項1 的部分技術特徵也未於證據3 、5 揭示，故證據2 、3 、6 、7 與證據2 、5 、6 、7 等的組合與修飾、置換仍不足以證明系爭專利請求項5 違反核准當時專利法第20條第2 項之規定。

㈦證據4 與系爭專利的元件比對已於舉發審定書說明，證據4雖揭示系爭專利請求項6 所附加的技術特徵；但是由於證據2 與證據6 無法輕易組合而得到系爭專利請求項1 的發明，且證據2 、6 所欠缺揭示系爭專利請求項1 的部分技術特徵都已敘明，該欠缺的技術特徵仍未於證據4 揭示，故證據2、6 、4 等的組合與修飾、置換仍不足以證明系爭專利請求項6 違反核准當時專利法第20條第2 項之規定。

五、參加人聲明求為判決原告之訴駁回，並主張：

㈠原證2 、6 之組合無法證明系爭專利請求項1 、7 不具進步性：

⒈原告主張原證6 存在「投影光學系統具有掃描方向調整機構」。然而，根據系爭專利請求項1 之定義，所謂「掃描方向調整機構」是指「調整投影於前述基板之投影像在前述掃描方向之位置」，詳言之係「基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像在前述掃描方向之位置」。退萬步言，即使對於「將與系爭專利請求項1 中之投影光學系統12a ～12e 對應之構件認定為原證6 中之光學系統3a～3e與平行玻璃鏡片4a～4e之組合」不爭執，從原證6 圖6亦可得知，原證6 圖6 之發明不調整投影像在掃描方向（X 方向）之位置，僅調整投影像在非掃描方向（Y 方向）之位置，故原證6 不存在「投影光學系統具有掃描方向調整機構」。此外，原告主張「原證6 圖6 是關於（Dy1 －Dy2 ）的計測結果和調整方式（即調整影像在基板上的Y 方向（掃描方向）位置），與（Dx11－Dx21）與（Dx12－Dx22）的計測結果和調整方式剛好相反。因此，原證6 圖6 恰巧可以旁證原證6 揭露（Dx11－Dx21）與（Dx12－Dx22）的計測結果係用於調整影像在基板上的X 方向（掃描方向）位置」，並且引用原證6 說明書第8 欄第5 至8 行（As a result,the average value of the differences（Dx11－Dx21）and （Dx12－Dx22）of the respective positions becomes theamount of expansion and contraction of the photosensitive substrate in the X-direction）、第8 欄第49至55行（Then, when performing exposure to the photosensitive substrate 5, the control device 11 changesmagnifica tions of the projection optical systems 3ato 3e by means of the magnification control device10 based on the amounts of expansion and contractionstored in the memory and sends instructions to adrive devi ce 12 to drive the plane parallel glasses4a to 4e to shift the optical axes）、第11欄第6 至11行（Also ,when correcting the expansion and contraction of each arbitrarily chosen position on thephotosensitive substrate in the X-direction, themagnifications of the projection optical systems andthe angles of rotations of the plane parallel glasses are controll ed continuously during scanningexposure）之記載，但上述記載都不是「基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像在前述掃描方向之位置」之特徵。甚且，若更正後系爭專利請求項1 之技術特徵確已記載於原證6 ，原告大可不必使用「恰巧」、「反面理解」等用語而僅需明確指出記載之位置即可，但原告卻使用了「恰巧」、「反面理解」等用語，足證原告明知更正後系爭專利請求項1 之技術特徵實際上並未揭示於原證6。

⒉如上述，於原證6 中不包含（調整投影像在掃描方向之位置之）掃描方向調整機構，故即使假設原證6 基於基板中之曝光區域之外側中沿與掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整投影像在掃描方向之位置，也只會調整到投影像之非掃描方向（Y 方向）之位置，無法調整投影像之掃描方向（X 方向）之位置，因此，原證6 無法完成「前述掃描方向調整機構是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像在前述掃描方向之位置」。且由於調整投影於基板之投影像在掃描方向之位置之掃描方向調整機構在原證6 中沒有揭示或隱含，故系爭專利請求項1 之新穎性、進步性不會被原證6 （或原證2 、6 之組合）否定。而原告自行做成之表可得知，沒有包含「於X 方向調整投影像之方式」。再者，由該表亦可得知，原證2 與原證6 之間，除了「修正值和平形玻璃鏡片傾斜角度量的計算公式」（此處，原告似將「平行玻璃」誤植為「平形玻璃」）以外，沒有任何交集。亦即，該表格正是證明原證2 與原證6 之間不具組合動機最好的證據。且該表格最後之結論部分記載了「原證2 和原證6 的調整計算參數、調整影像方式適用於不同部分的校正，兩者各司其職，互不衝突，本領域具有通常知識者可以透過熟習的技術截長補短，並不妨礙原證2 和原證6 的組合」之內容，觀此內容可知，原告無異自認「企圖使用原證2 和原證6 中之相異之部分，將發揮不同效果之調整組合，來攻擊系爭專利更正後之請求項1 」。

㈡原證6 無法證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性：原證6 即使與原證2 組合亦無法否定系爭專利之請求項1之進步性，故「原證6 單獨即可否定系爭專利之請求項1 之新穎性」之主張在邏輯上顯然矛盾。此外，即使將原證6 與系爭專利請求項1 實際比對，兩者之差異已在前述中詳細說明，故原證6 無法證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性。

㈢原證2 、5 、6 之組合無法證明系爭專利請求項2 不具進步性：由於系爭專利請求項1 具有新穎性及進步性，不能以原證6（或原證2 、6 之組合）否定，故系爭專利請求項1 之附屬項即請求項2 也當然具有新穎性及進步性。亦即，原證2 、5 、6 之組合無法證明系爭專利請求項2 不具進步性。

㈣原證2 、6 之組合無法證明系爭專利請求項3 、8 不具進步性：由於系爭專利之請求項1 、7 具有新穎性及進步性，不能以原證6 （或原證2 、6 之組合）否定，故系爭專利請求項1、7 之附屬項請求項3 、8 也當然具有新穎性及進步性。亦即，原證2 、6 之組合無法證明系爭專利請求項3 、8 不具進步性。

㈤原證2 、3 、6 之組合無法證明系爭專利請求項4 、9 不具進步性：由於系爭專利請求項1 、7 具有新穎性及進步性，不能以原證6 （或原證2 、6 之組合）否定，故爭爭專利請求項1 、7 之附屬項請求項4 、9 也當然具有新穎性及進步性。亦即，原證2 、3 、6 之組合無法證明系爭專利請求項4 、9 不具進步性。

㈥原證2 、6 、7 、原證2 、3 、6 、7 、原證2 、5 、6 、7 之組合無法證明系爭專利請求項5 、10不具進步性：由於系爭專利請求項1 、7 具有新穎性及進步性，不能以原證6 （或原證2 、6 之組合）否定，故系爭專利請求項1 、7 之附屬項5 、10也當然具有新穎性及進步性。亦即，原證2 、6 、7 、原證2 、3 、6 、7 、原證2 、5 、6 、7 之組合無法證明系爭專利請求項5 、10不具進步性。

㈦原證2 、4 、6 之組合無法證明系爭專利請求項6 、11不具進步性：由於系爭專利之請求項1 、7 具有新穎性及進步性，不能以原證6 （或原證2 、6 之組合）否定，故系爭專利請求項1、7 之附屬項請求項6 、11也當然具有新穎性及進步性。亦即，原證2 、4 、6 之組合無法證明系爭專利請求項6 、11不具進步性。

㈧綜上，原處分及訴願決定並無違誤，請駁回原告之訴。

六、本件法官依行政訴訟法第132 條準用民事訴訟法第463 條準用同法第271 條之1 、第270 條之1 第1 項第3 款、第3 項規定，整理兩造不爭執事項並協議簡化爭點如下：

㈠不爭執事項：參加人日商尼康股份有限公司前於89年11月22日以「曝光裝置及曝光方法」向被告申請發明專利，並以1999年11月26日申請之日本第00-000000 號專利案及2000年10月17日申請之日本第0000-000000 號專利案主張優先權，經被告編為第89124732號審查，准予專利，發給發明第146977號專利證書（即系爭專利）。嗣原告以系爭專利違反核准時專利法第20條第2 項之規定，對之提起舉發，參加人旋於104 年1 月9 日提出申請專利範圍更正本，經被告審查，以105 年1 月20日(105) 智專三( 二)04169字第10520064 240號專利舉發審定書為「104 年1 月9 日之更正事項，准予更正。請求項1 至11舉發不成立。」之處分。原告對於原處分關於更正符合現行專利法第67條第1 項第2 款與第2 、4 項之規定，作成「104 年1 月9 日之更正事項，准予更正」部分不爭執，對舉發不成立部分不服，提起訴願，經經濟部105 年6 月22日經訴字第10506306130 號決定駁回，遂向本院提起行政訴訟。

㈡本件爭點：

⒈原證2 、6 之組合可否證明系爭專利請求項1 、7 不具進步性？

⑴原證6 是否存在「投影光學系統具有掃描方向調整機構」？

⑵原證6 是否可完成「前述掃描方向調整機構是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像之前述掃描方向之位置」？

⒉原證6可否證明系爭專利請求項1、7不具新穎性？

⒊原證2 、5 、6 之組合是否足以證明系爭專利請求項2 不具進步性？

⒋原證2 、6 之組合是否足以證明系爭專利請求項3 、8 不具進步性？

⒌原證2 、3 、6 之組合是否足以證明系爭專利請求項4 、9不具進步性？

⒍原證2 、6 、7 、原證2 、3 、6 、7 、原證2 、5 、6 、7 之組合是否足以證明系爭專利請求項5 、10不具進步性？

⒎原證2 、4 、6 之組合是否足以證明系爭專利請求項6 、11不具進步性？

七、得心證之理由：

㈠查系爭專利係於89年11月22日申請，並以1999年11月26日申請之日本第00-000000 號專利案及2000年10月17日申請之日本第0000-000000 號專利案主張優先權，經審定核准專利後，於90年12月1 日公告等情，有系爭專利專利公報附卷可參（見申請卷第134 至141 頁），因此，系爭專利有無撤銷之原因，應以核准審定時即90年10月24日修正公布之專利法為斷（下稱90年專利法），合先敘明。按凡利用自然法則之技術思想之高度創作，而可供產業上利用者，得依法申請取得發明專利，為90年專利法第19條暨第20條第1 項前段所規定。又發明如係「運用申請前既有之技術或知識，而為熟習該項技術者所能輕易完成時」，仍不得依法申請取得發明專利，復為同法第20條第2 項所明定。而對於獲准專利權之發明，任何人認有違反前揭專利法第19條至第21條規定者，得附具證據，向專利專責機關提起舉發。從而，系爭專利有無違反前揭專利法情事而應撤銷其專利，依法應由舉發人附具證據證明之，倘其證據足以證明系爭專利有違前揭專利法之規定，自應為舉發成立之處分。

㈡系爭專利技術分析：

⒈系爭專利之先前技術及所欲解決的問題（參系爭專利說明書第7 頁）:一般搬送至投影曝光裝置曝光處理之感光基板於製程中經過複數次加熱處理，任一層均反覆進行原畫圖案之曝光。主要因其在此製程中加熱處理，故會有感光基板伸縮、形狀變化之情形發生。例如，依圖26(b) 所示，平面形狀為長方形、各邊部大致為直線形之感光基板會因經歷種種製程而如圖26(b)所示，沿Y 方向成曲線狀彎曲，如圖26(c) 所示，成平行四邊形形狀變形。不過，由於發生圖26(b) 、(C) 所示變形之感光基板一曝光，曝光動作中朝X 方向之掃描移動和Y方向之變形量會逐次變化，故習知位移校正、旋轉校正及定標校正無法充份進行對準校正。未進行正確對準之曝光圖案與底面之圖案間會發生無法忽視之重疊誤差，結果，發生形成於感光基板上之多數元件特性隨每一感光基板領域而異之問題，系爭專利之先前技術之圖式如本判決附圖一所示。系爭專利係有鑑於上述問題點而作成者，其目的在於提供一種組裝時之調整容易，在裝置運用中發生再調整必要性情形下亦可短時間再調整之曝光裝置。系爭專利之目的復在於提供一種於光罩圖案掃描曝光時，可將線形校正之誤差殘留成份抑制於最小限度，於感光基板及裝置大型化發展中可實現高精細化之曝光裝置及曝光方法。

⒉系爭專利之技術內容：系爭專利係提供一種曝光裝置及曝光方法，其可將線形校正之誤差之殘留成份抑制於最小限度，可在感光基板及裝置之大型化發展中實現高度精細化者。於使光罩10和感光基板14同步並予以掃描曝光之掃描型曝光裝置中，投影光學系統12a ～12e ，具備調整投影於基板之投影像之前述掃描方向之位置之成像特性調整機構120 ，求得掃描方向之曝光誤差之非線形成份，以其為校正值，預先登錄，根據此校正值，一面連續控制投影光學系統之掃描方向之成像特性調整機構120 ，一面進行圖案曝光，系爭專利主要圖面如本判決附圖二所示。

⒊系爭專利申請專利範圍分析：系爭專利專利權人即參加人於104 年1 月9 日提出申請專利範圍更正本，且經被告審查符合現行專利法第67條第1 項第2 款與第2 、4 項之規定，准予更正，且原告即舉發人對此部分並未爭執。該更正本之請求項共11項，其中第1 、7 項為獨立項，其餘為附屬項，其內容如下:第1 項：一種曝光裝置，其係沿既定方向同步掃瞄具有圖案之光罩與基板，透過投影光學系統於前述基板上進行前述光罩圖案之曝光者，其特徵在於：前述投影光學系統具有掃瞄方向調整機構，以調整投影於前述基板之投影像在前述掃瞄方向之位置，前述掃瞄方向調整機構是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃瞄方向交叉之非掃瞄方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像在前述掃瞄方向之位置。第2 項；如申請專利範圍第1 項之曝光裝置，其中前述投影光學系統，係組合2 組具備反射稜鏡、驅動前述反射稜鏡之驅動部、透鏡、及凹面鏡之戴桑型光學系統而構成，並於一方之戴桑型光學系統之前述反射稜鏡與前述透鏡間之光程上設置倍率調整光學系統。第3 項：如申請專利範圍第1 項之曝光裝置，其中前述投影光學系統，係具有沿與前述掃瞄方向交叉之方向配設之複數投影光學系統模組；前述掃瞄方向調整機構，係調整前述複數投影光學系統模組之各模組在前述掃瞄方向之投影像位置。第4 項：如申請專利範圍第1 項之曝光裝置，其中前述投影光學系統，係具有複數投影光學系統模組；將該投影光學系統模組之投影像之一部份重疊後，於前述基板上進行前述圖案之曝光。第5 項：如申請專利範圍第1 至4 項中任一項之曝光裝置，其中前述掃瞄方向調整機構隨著在前述掃瞄方向之前述基板之形狀變化，調整前述投影像之位置。第6 項：如申請專利範圍第1 項之曝光裝置，其具備進行前述投影光學系統之倍率調整之倍率調整機構、及旋轉前述投影光學系統之投影像之影像旋轉機構中之至少一機構。第7 項：一種曝光方法，其係沿既定掃瞄方向同步掃瞄具有圖案之光罩與基板，透過投影光學系統於前述基板上進行前述光罩圖案之曝光者，其特徵在於：前述投影光學系統，包含調整投影於前述基板之投影像在前述掃瞄方向之位置之步驟。前述步驟是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃瞄方向交叉之非掃瞄方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像在前述掃瞄方向之位置。第8 項：如申請專利範圍第7 項之曝光方法，其中前述投影光學系統，具有沿與前述掃瞄方向交叉之方向配設之複數投影光學系統模組；前述掃瞄方向之位置調整，係調整前述複數投影光學系統模組之各個模組在前述掃瞄方向之投影像位置。第9 項；如申請專利範圍第7 項之曝光方法，其中前述投影光學系統，具有複數投影光學系統模組；將該投影光學系統模組之投影像之一部份重疊後，於前述基板上進行前述圖案之曝光。第10項：如申請專利範圍第7 或8 項之曝光方法，其中前述掃瞄方向之位置調整隨著在前述掃瞄方向之前述基板形狀之變化而進行。第11項：如申請專利範圍第7 項之曝光方法，其包括進行前述投影光學系統之倍率調整之步驟、及旋轉前述投影光學系統之投影像之步驟中至少一步驟。

㈢舉發證據技術分析：

⒈原證2 為1997年4 月1 日公告之美國第US5617211 號「EXPOSURE APPARATUS」專利案，係一種曝光裝置⑴，包含一發光系統⑶，以發射光束於光罩⑵上，於其係沿既定方向（arrowa）同步掃描具有圖案之光罩⑵與基板⑷，透過投影光學系統（5 ～9 ，投影透鏡）於前述基板上進行前述光罩圖案之曝光者，當光罩⑵和感光基板⑷相對於所述照明系統⑶和投影透鏡⑸至⑼中由箭頭a 所示方向同步地進行掃描，光罩⑵的整個圖案區域可以完成全的被轉移到感光基板⑷（原證2說明書第5 欄第49至57行及圖1 ）[This exposure apparatus 1 is constituted by an illumination system 3for irradiating a light beam onto a mask 2, and projection lenses 5 to 9 for projecting a pattern on themask 2 onto a photosensitive substrate (glass substrate) 4.When the mask 2 and the photosensitive substrate 4 are synchronously scanned with respect to theillumination system 3 and the projection lenses 5 to9 in a direction indicated by an arrowa, the entirepattern area on the mask 2 can be transferred ontothe photosensitive substrate 4.]。前述投影光學系統（5 ～9 ）具有掃描方向調整機構（17～21，透鏡調整機構），以調整由測量裝置測量的圖像位移量（原證2說明書第5欄第62至66行及圖1)[The projection lenses 5 to 9 respectively have lens adjustment mechanisms 17 to 21 foradjusting the imaging characteristics of the projection lenses 5 to 9, thereby adjusting the image displacement amounts measured by the measurement devices12 to 16. ] ，原證2主要圖式如本判決附圖三所示。

⒉原證3 為1998年3 月17日公告之美國第5729331 號「EXPPOSURE APPARATUS, OPTICAL PROJECTION APPARATUS AND METHOD FOR ADUJSTING THE OPTICAL PROJECTION APPRATUS」專利案，係一種投影光學系統，根據第34圖所示，在基板9 上的曝光區域9a～9c是彼此相鄰並相對於Y 軸有一預定量的重疊。曝光區域9a～9c之間的重疊區域被稱為重疊區域（原證3 說明書第27欄第41至55行、圖34）[As shown in FIG.34,exposure regions 9a －9c on the plate 9 are adjacentto each other as overlapping by a predeterminedamount in the Y direction. Here, overlapping regionsbetween the respective exposure regions 9a－9c arecalled as overlap regions.] ，原證3 主要圖式如本判決附圖四所示。

⒊原證4 係1997年2 月11日公告之美國第5602620 號「SCANNING EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD 」專利案，為一種曝光裝置，每一個投影光學系統6A～6E具有一機構，例如使用Dove稜鏡，以將轉印圖像P1～P5（即為投影圖像）相對於其光軸的一方向旋轉，和一調節機構，例如使用縮放鏡頭系統，用於調整轉印圖像P1～P5的縮放倍率。此外，調節機構9A～9E位於投影光學系統6A～6E和感光基板8 之間，可於X 軸和Y 軸上移動每個投影圖像P1～P5，每個調節機構9A～9E是由兩個可支援傾斜的玻璃板所組成。這些機制構成了影像位移／旋轉／縮放調節機構（第6 欄第31行至第44行）。而影像旋轉機構可以使投影圖像P1～P5相對於Y 軸旋轉β角度（第9 欄第1 行至第3 行及第5 圖）[The each projection optical system 6A－6E is provided with a mechanism for moving the transfer image P1－P5 in therotational direction relative to the optical axis,for example a Dove prism, and a mechanism for adjusting the magnification of transfer image P1－P5, forexample a zoom lens system... These mechanisms compose an image shift ／rotation／magnification adjusting mechanism （hereinafter referred to as an adjusting mechanism ）.Then the control unit uses the adjusting mechanisms for the respective projection opticalsystems 6A－6E to rotate the positions of transferimages P1 ～P5 by ○.]，原證4 主要圖式如本判決附圖五所示。

⒋原證5 係1999年9 月28日公告之美國第5959784 號「OPTICAL PROJECTION SYSTEMS AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS」專利案，其說明書第1 （A ）、1 （B ）圖揭露了一種曝光裝置，在一掃描型曝光裝置中，通過投影曝光光學系統可將光罩所限定的圖案聚焦至非平面的基板，該投影光學系統22包括一個固定的光學次單元24和可變的光學次單元25，固定的光學次單元24包括一個第一直角稜鏡31和第一光學組34，第一直角稜鏡31的斜面被安裝到一個稜鏡支架30，該第一光學組34包括一凹面鏡33和一透鏡32（第4 欄第34行至第40行），可變的光學次單元25包括一第二直角稜鏡42，可變稜鏡支架40和一個第二光學組43。第二光學組43類似於第一光學組34，包括一透鏡44和凹面反射鏡45。固定的光學次單元24與可變的光學次單元25的不同點在於，三個壓電元件41A 、41B 、41C 連接第二直角稜鏡42的斜邊面42C 至可變稜鏡支架40（第4 欄第58行至第66行），聚焦控制器300 提供驅動電壓給壓電裝置41A 、41B 、41C 以驅動可變稜鏡支架40[The optical projection system 22 of Example Embodiment 1 further comprises a fixed optical subunit 24and a variable optical subunit 25. The fixed opticalsubunit 24 comprises a first right-angle prism 31and a first optical group 34. The hypotenuse face ofthe first right angle prism 31 is mounted to a prismholder 30. The first optical group 34 comprises aconcave mirror 33 and a lens 32.（Col. 4 Line 34~40;Fig. 1(A) ）The variable optical subunit 25 comprises a second right angle prism 42, a variable prismholder 40, and a second optical group 43. The secondoptical group 43 is similar to the first opticalgroup 34, comprising a lens 44 and a concave mirror45. The variable optical subunit 25 differs from thefixed optical subunit 24 in that three piezoelectricelements 41A, 41B, 41C attach the hypotenuse surface42C of the second right angle prism 42 to the variable prism holder 40. （Col.4 Line 58~66; Fig. 1(A) ）.]，原證5 主要圖式如本判決附圖六所示。

⒌原證6 為1997年4 月29日公告之美國第5625436 號「SCANNING TYPE EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD」專利案，係一種曝光裝置，其係沿既定方向（X ）同步掃描具有圖案之光罩（2 ）與基板（5 ），透過投影光學系統（3a～3e與4a～4e之組合）於前述基板上進行前述光罩圖案之曝光者，（原證6 說明書第6 欄第3 至4 行、第18至40行、圖1），該投影光學系統（3a～3e與4a～4e之組合）具有掃描方向調整機構（4a～4e與3a～3e中倍率調整光學元件【例如凹透鏡及凸透鏡模組30a ～30c 】之組合），以調整投影於前述基板之投影像在前述掃描方向之位置，（原證6 說明書第6 欄第23至27行、第30至35行、圖2 、圖6 ）。掃描方向調整機構（4a～4e與3a～3e中倍率調整光學元件【例如，凹透鏡及凸透鏡模組30a~30c 】之組合）是基於前述基板（5 ）中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向（X ）交叉之非掃描方向（Y ）形成之複數對準標記（Dx11、Dx12、Dx21、Dx22 ） ，透過至少（Dx11－Dx21）與（Dx12－Dx22）轉換成感光基板在掃描方向（X ）的膨脹量及收縮量之計測結果（原證6 說明書第7 欄第17至25行、第8 欄第5 至8 行、圖2 、圖4A、圖4B）。此掃描方向（X ）的膨脹量及收縮量之計測結果，於隨後的曝光階段，即作為調整投影像之掃描方向（X ）之位置依據，控制投影光學系統（3a～3e）及平行玻璃鏡片（4a～4e）之改變光放大倍率及位移量（原證6 說明書第8 欄第49至55行、第11欄第6 至11行）[FIG. 1schematically shows the structure of a scanning typeexposure apparatus according to an embodiment of thepresent invention. （Col.6 Line 3～4; Fig.1）. Theplurality of light fluxes transmitted through themask 2 form pattern images of the illumination areasM1 to M5 of the mask 2 on respective projectionareas P1 to P5 on a photosensitive substrate 5 viathe projection optical systems 3a to 3e. In thiscase, the projection optical systems 3a to 3e areone-to-one erecting systems. The respective projection optical systems 3a to 3e are provided withmagnification control devices 10 for changingmagnifications of the projection optical systems byadjusting the air pressure between optical elementsof each projection optical system. Further, planeparallel glasses 4a to 4e are disposed in respectivelight paths between the projection optical systems3a to 3e and the photosensitive substrate 5. Theprojection positions（projection areas P1 to P5 ）ofthe pattern images on the photosensitive substrate 5are changed by changing angles of the respectiveplane parallel glasses 4a to 4e with respect tooptical axes AX1 to AX5 to shift the optical axes ofthe projection optical axes. The projection areas P1to P5 on the photosensitive substrate 5 are in atrapezoidal shape. As shown in FIG. 3, adjacentprojection areas（e.g., P1 and P2, P2 and P ）alongin a Y-direction（nonscanning direction ）aredisplaced in an X-direction （scanning direction）bya predetermined amount from each other…（Col.6 Line18～40; Fig.1 ）. As shown in FIG. 4, the alignmentmark D is constituted of marks Dy1, Dy2 （represented by the marks Dy ）formed in the vicinity of thetransfer region 5a of the photosensitive substrateor the pattern region 2a of the mask 2 approximatelysuccessively along the scanning direction, and marksDx11, Dx12, Dx21, Dx22（represented by the mark Dx）formed at lateral ends of the marks Dy1, Dy2 so asto be spaced away for a predetermined distance fromeach other in the Y- direction. （Col.7 Line17～25;Fig.4 ）As a result, the average value of thedifferences （Dx11－Dx21）and （Dx12－Dx22）of therespective positions becomes the amount of expansionand contraction of the photosensitive substrate inthe X-direction.（Col. 8 Line 5 ～8; Fig.4）Then,when performing exposure to the photosensitivesubstrate 5, the control device 11 changes magnifications of the projection optical systems 3a to 3e bymeans of the magnification control device 10 basedon the amounts of expansion and contraction storedin the memory and sends instructions to a drivedevice 12 to drive the plane parallel glasses 4a to4e to shift the optical axes. （Col. 8 Line 49～55）Also, when correcting the expansion and contractionof each arbitrarily chosen position on the photosensitive substrate in the X-direction, the magnifications of the projection optical systems and the anglesof rotations of the plane parallel glasses arecontrolled continuously during scanning exposure. （Col.11 Line 6 ～11）] ，原證6 主要圖式如本判決附圖七所示。

⒍原證7 為1997年5 月27日公開之日本特開平第0 －000000號「位置ずれ補正方法」專利案，係一種曝光裝置，其中掃描方向調整機構（12a ～12e 或12a ～12e 與5 ～9 中倍率調整光學元件之組合）隨著前述基板（4 ）之形狀變化，調整前述投影像之位置（原證7 說明書第9 段、第17段、第18段、圖11）[The present invention was made under thissituation and the purpose is to provide the position-shift-correction method which can correct thepositional displacement of each projection imagecorrectly resulting from deformation of a substrate.（Par.9）.In the optical path between each projectionoptical system 5-9 and the substrate 4, the parallelplate glass 12a-12e is arranged respectively. Theoptical axis of each projection optical system isshifted by changing the angle to the optic axes AX1－AX5 of this parallel plate glasses 12a－12erespectively. The projection position of the images（projection area ）P1－P5 of sub-regions M1－M5 onthe substrate 4 is changed（Par.17; Fig.11）. Thedriving device 32 has the function to change theangle to the optic axes AX1-AX5 of the parallelplate glass 12a －12e accordingly, and the magnificat ion control device 30 carries out projecting magnification of the projection optical systems 5－9 likethe above, and it adjusts it. The rotary drive 33rotates independently the image pivot means 18a －18e （Par.18; Fig.11）] ，原證7 主要圖式如本判決附圖八所示。

㈣原證6 揭示具有「投影光學系統具有掃描方向調整機構」：

⒈由系爭專利請求項1 、7 記載一種曝光裝置，透過投影光學系統於基板上進行圖案之曝光，其並未記載投影光學系統之具體組成構件，該發明所屬技術領域中具通常知識者可知，系爭專利之「投影光學系統」係於曝光裝置中，將光罩圖案成像於感光基板上之光學系統，其由複數的光學構件（子系統）或模組所組成，故凡設置於光罩與感光基板之間之光學子系統之總成，均可對應系爭專利所稱之「投影光學系統」。系爭專利請求項中之掃描方向調整機構係為因應感光基板產生之形變，而於掃描過程中用來作為影像校正之調整機構，以調整投影於基板之投影像在掃描方向之成像位置。參酌系爭專利圖1 ～4 及專利說明書第12頁記載投影光學系統12a ～12具有成像特性調整裝置，其包含位移機構、旋轉校正機構及倍率調整機構。

⒉經查，原證6 揭示一種曝光裝置，具有：在一掃描型曝光裝置中，通過相對於一投影光學系統並根據該投影光學系統之一放大率在一既定的方向以及一速度比例掃描一光罩與一基板以將光罩上圖案區域的整個表面曝光於基板（原證6 說明書第2 欄第30至35行），提供多個照明光學系統相對於各個光源的各自光束，用於照明光罩圖案區域的各個區域（原證6 說明書第6 欄第13至18行）；配置多個對應於相應的照明光學系統的投影光學系統，該等投影光學系統有各自對應的照明光學系統，對應的照明光學系統照明各個投影區域的對應區域，使得圖像投射至所述基板上（原證6 說明書第6 欄第13至18行），以及根據該投影光學系統之一放大率，沿著既定的方向（X 方向）；一儲存裝置，用於獲得和儲存所述基板的形狀變化（原證6 說明書第2 欄第35至36行）；一倍率改變裝置，用於根據所述基板的形狀變化改變至少一投影光學系統的放大率（原證6 說明書第2 欄第37至40行）；以及成像位置改變裝置，根據倍率的變化改變通過所述至少一投影光學系統投影所述圖像所投射的位置（原證6說明書第2欄第40至43行以及第1 圖）。而各個投影光學系統3a至3e設置有倍率控制裝置20，通過調整各投影光學系統的光學元件之間的空氣壓力，改變投影光學系統的放大倍率（原證6 說明書第6 欄第23至27行）。各個倍率控制裝置20是由兩個具有較大的曲率半徑的平凹鏡片30a 和30b 和雙凸透鏡30 所組成（原證6 說明書第11欄第62至12欄第5 行、第11圖）。旋轉校正機構，用以校正光罩或感光基板之旋轉（原證6 說明書第7 欄第6 至7 行) 。

⒊次查，由系爭專利說明書及原證6 所揭示的內容，本領域具有通常知識者可瞭解，一般曝光裝置的投影光學系統至少具有位移調整部（位移調整機構），用以調整光在基板上投影圖案之位置，以及倍率調整部（倍率調整機構），用以調整投影圖案之影像倍率及旋轉校正機構，用以校正光罩或感光基板之旋轉。故由原證6 說明書揭示之內容可知，該曝光裝置中之構件3a～3e之光學系統與構件4a～4e之平行玻璃鏡片於曝光裝置中之投影光學系統中係為成像位置改變裝置。再者，由原證6 說明書第2 欄第64行至第3 欄第2 行及第2欄第49行至53行揭示「成像位置改變裝置為多個相同厚度設置在相對於所述投影光學系統各自的光軸，按照基板形狀的變化，多個平面平行鏡片分別根據其各自的光軸分別位移不同的角度」，「依據形狀的變化，隨著在移動方向(X方向) 之變化，至少一個投影光學系統在所述之掃描方向之圖像位置亦會跟著改變」，其揭示在掃描方向之影像的位置會依據基板形狀變化作調整，故原證6 已揭示系爭專利請求項1 、7之「投影光學系統具有掃描方向調整機構」。

⒋又查，被告於原處分認為「原證6 之掃描方向調整機構的成像位置改變裝置（平行玻璃鏡片4a～4e）與投影光學系統（3a～3e）為彼此分開的元件，但系爭專利的平行玻璃鏡片（41、42）卻是包含在掃描方向調整機構（原證1 元件120 ，圖2 ）之中（亦即在投影光學系統【原證1 元件12a ～12e】之中），故原證6 其實並不存在投影光學系統具有掃描方向調整機構」，另被告於行政答辯理由㈡之⑶主張「證據6的掃描方向調整機構（又稱平行玻璃元件，元件4a～4e）確實未被包含於投影光學系統（元件3a～3e），證據6 圖6其實證明了成像特性調整可執行於投影光學系統之外，此差異與系爭專利請求項1 的限制不相符」云云，惟系爭專利請求項之曝光裝置（方法），其中具有一「投影光學系統」，該投影光學系統係為一將光罩圖案投影至感光基板上之光學模組（系統），其泛指於投影光路徑上包含投影光學子系統、成像調整機構（changing magnification）及其它有關聯的光學器件之子系統或模組之總成，由於系爭專利請求項1、7中並未明確界定投影光學系統之組成構件，且原證6 的「平行玻璃鏡片4a～4e」在功能上為一「位移調整機構」（子系統），「投影光學系統3a～3e」為一具有倍率控制裝置20是由兩個具有較大的曲率半徑的平凹鏡片30a 和30b 和雙凸透鏡30所組成之「倍率調整機構」（子系統），且兩者均為設置於投影光路徑上之光學系統之子系統，兩者之組合即可以合稱為一投影光學系統，且具有調整掃描方向之成像調整功能，故其可對應系爭專利的掃描方向調整機構。職是，原證6 實已揭露系爭專利請求項1 、7 之「投影光學系統具有掃描方向調整機構」之技術特徵。

㈤原證6可完成「前述掃描方向調整機構是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像之前述掃描方向之位置」:

⒈查原證6 說明書第7 欄第17至25行及圖2 、圖4A、圖4B揭示對準標記Ｄ分別形成於光罩及感光基板上，由原證6 圖1 及圖4A顯示該標記D （圖1 以虛線標示）係形成於基板⑸之曝光區域(5a)之外側且（Dx11,Dx12 ）與（Dx21,Dx22 ）標記（非掃描方向標記）係與掃描方向（X 方向）交叉形成，而利用該對準標記作為對準校正（原證6 說明書第7 欄第55至58行），其是由標記Ｄy1,Dy2（以Dy表示，為一沿掃描方向【X 軸方向】設置之標記），及Dx11、Dx12、Dx21、Dx222（以Dx表示，為一沿非掃描方向【Y 方向】設置之標記）組成，另由原證6 說明書第7 欄第65行至第8 欄第10行揭示「步驟⑵通過相對地掃描標記和光束來測量標記DX11，DX12在x 方向上的位置。步驟⑶移動移動台6 的位置直到標記DX21，DX22位於對準傳感器PM的檢測範圍內，然後可偵測到標記DX21，DX22在X 方向的位置。因此，各別位置之（DX11－DX21 ） 及（DX12－DX22）的差異平均值變為感光基板在x方向上的膨脹量及收縮量，並且（DX11－DX12）及（DX21－DX22）差異的平均值，表示基板繞光軸的旋轉量」，係透過至少（Dx11 －Dx21 ）與（Dx12－Dx22）轉換成感光基板在掃描方向（X ）的膨脹量及收縮量之計測結果。再者，由原證6 說明書第8 欄第29至41行揭示「可以藉由將標記Dy1 ，Dy2 的檢測信號與Y 方向的距離之間的差值轉換來連續地獲得由於其在X 方向上的位置而得到在Y 方向上的感光基板的膨脹量及收縮量，經由依據上述步驟⑵和⑶中所獲得的值來變化感光基板的移動速度以校正感光基板在X 方向上的膨脹量及收縮量。在本例中，因為標記Dx僅形成於感光基板之兩端點，所以無法依據X 方向不同位置來校正膨脹量及收縮量，然而，若增加Dx之量測點為3 或更多的量測點，則可以量測到量測點間之位置之膨脹量及收縮量，可實現連續的校正」（The amount of expansion and contraction ofphotosensitive substrate in the Y-direction due toits position in the X-direction can be obtainedcontinuously by concerting the difference betweenthe detection signals of the mark Dy1,Dy2 to thedistance in the Y-direction. The expansion andcontraction of the photosensitive substrate in theX-direction can be corrected by changing the speedof moving the photosensitive substrate with respectto the design value based on the values obtained inthe above processes 2) and 3).In this case, themasks Dx are formed only on both ends of thephotosensitive substrate, so that it is impossibleto correct the expansion and contraction inaccordance with various position in the X-direction.However, if the number of the measuring points isincreased by forming marks Dx on three or morepoints and the amount of expansion and contractionof each position between the measuring points ismeasured, approximately continuous correction can berealized）, 故原證6 已揭露利用Dx（非掃描方向），Dy（掃描方向）標記作X 方向( 掃描方向) 及Y 方向( 非掃描方向) 之連續校正。職是，原證6 亦揭示系爭專利請求項1 、7 之「掃描方向調整機構是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像在前述掃描方向之位置」之技術特徵。

⒉次查，被告於行政答辯書理由㈡之⑷主張「原證6 的掃描方向是X 方向，調整機構（元件4a～4e）調整的是影像在基板上的Y 方向（非掃描方向）位置，如圖6 與第9 欄第48行起內容顯示…。反觀系爭專利說明書第13頁對圖四的說明，藉由位移部41、42（位移機構），其用來隨著光罩10沿X 方向（掃描方向）及（非掃描方向）之移動，而系爭專利請求項1 僅限定『具有掃描方向調整機構，以調整投影於前述基板之投影像在前述掃描方向之位置』，故系爭專利請求項1 記載之投影光學系統12a 所具有的掃描方向調整機構120 ，其調整影像位置的方式，與原證6 有所不同」云云。惟查：

⑴本院於106 年4 月6 日言詞辯論期日，就原證6 是否已揭示「利用於非掃描方向之標記之計測結果，調整投影像在掃描方向之位置」之技術特徵，請兩造及參加人針對原證6 說明書第8 欄第29至46行揭示內容中DX（非掃描方向標記）、DY（掃描方向之標記）與X 方向（掃描方向）、Y方向（非掃描方向）之成像位置校正之關係為何表示意見。原告主張略以「…但DY1-DY2 所減的方向就是呈現感光基板在Y 方向的收縮量，可對應到圖6 ，由此可直接推知雖DX1 、DX2 於原證6 沒有圖式說明，但有圖6 說明可知DX1-DX2 是做X 方向的調整，被告稱原證6 圖6 沒有對準標記是錯誤的，故原證6 可直接揭露系爭專利請求項1 的內容」等語。至於被告則主張略以「原證6 說明書第8 欄第28至33行可否證明系爭專利請求項1 形成複數對準標記之計測結果，由原證6 第4B圖搭配第1 圖來看，可知DY1、DY 2是沿著掃瞄方向排列，非沿著非掃描方向排列，並未揭露系爭專利請求項1 之末四行技術內容」云云，參加人主張「從原證6 所揭露之內容來看，其係針對Y 方向即非掃描方向進行調整，此與系爭專利X 方向即掃描方向兩者間係互相垂直，因此無法透過非掃描方向之調整來完成掃描方向位置之偏移，因為當進行非掃描方向調整時X並不會變動，於此相對在進行掃描方向之調整時，Y 同樣也不會變動，此二掃描機構完全不同，足以證明原證6 並未揭露掃描方向調整機構之相關技術特徵」云云。

⑵惟查，原證6 圖6 為依據感光基板之膨脹量及收縮量來校正光軸示意圖，DY1-DY2 呈現感光基板在Y 方向的膨脹量及收縮量，以作為Y 方向之校正，其顯示成像於Y 軸方向之校正結果，原證6 之圖6 雖未顯示X 軸方向之校正，其並不表示原證6 僅可作Y 方向之校正，由原證6 說明書第8 欄第5 至8 行揭示「各別位置之（DX11－DX21）及（DX12－DX22）的差異平均值變為感光基板在x 方向上的膨脹量及收縮量」及原證6 說明書第2 欄第64行至第3 欄第2行揭示「成像位置改變裝置為多個相同厚度設置在相對於所述投影光學系統各自的光軸，按照基板形狀的變化，多個平面平行鏡片分別根據其各自的光軸分別位移不同的角度」、第2 欄第49至53行揭示「依據形狀的變化，隨著在移動方向(X方向) 之變化，至少一個投影光學系統在所述之掃描方向之圖像位置亦會跟著改變」，由前揭原證6 說明書第8 欄第29至41行揭示內容可知，DY1 －DY2 呈現感光基板在Y 方向的膨脹量及收縮量，以作為Y 方向之校正，同樣的，（DX11－DX21）及（DX12－DX22）的差異平均值變為感光基板在X 方向上的膨脹量及收縮量，其可作為X 方向之校正，原證6 已揭示可依據感光基板上之DX（非掃描方向標記）、DY（掃描方向之標記）作為感光基板於X 方向（掃描方向）、Y 方向（非掃描方向）之成像位置校正，故原告主張「…但DY1-DY2 所減的方向就是呈現感光基板在Y 方向的收縮量，可對應到圖6 ，由此可直接推知雖DX1 、DX2 於原證6 沒有圖式說明，但有圖6 說明可知DX1 －DX2 是做X 方向的調整」為有理由，準此，被告及參加人主張僅就原證6 之圖6 及部分相關段落說明而未審究原證6 說明書整體所揭示之內容，而認為原證6 未揭示系爭專利請求項之該技術特徵，實有誤解。

㈥原證6 足以證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性：

⒈經查，對應系爭專利請求項1 ，7 ，原證6 圖1 、圖2 、圖4 、圖11及其說明書第6 欄第3 至22行揭示一種曝光裝置⑴及曝光方法，其係沿既定方向（掃描方向X ）同步掃描具有圖案之光罩（2 ）與基板（5 ），透過完整投影光學系統（元件3a～3e與4a～4e之組合）於基板上進行光罩圖案之曝光者，前述投影光學系統（3a～3e）個別地具有掃描方向調整機構（由4a～4e之平面平行鏡片與3a～3e內部之倍率調整光學元件所組成），以調整投影於前述基板之投影像在前述掃描方向之位置（第6 欄第22至35行）（理由亦可參得心證之理由㈣），其已對應揭示系爭專利請求項1 之「一種曝光裝置，其係沿既定方向同步掃描具有圖案之光罩與基板，透過投影光學系統於前述基板上進行前述光罩圖案之曝光者，其特徵在於：前述投影光學系統具有掃描方向調整機構，以調整投影於前述基板之投影像在前述掃描方向之位置」之技術特徵及系爭專利請求項7 之「一種曝光方法，其係沿既定掃描方向同步掃描具有圖案之光罩與基板，透過投影光學系統於前述基板上進行前述光罩圖案之曝光者，其特徵在於：前述投影光學系統，包含調整投影於前述基板之投影像在前述掃描方向之位置之步驟」之技術特徵。

⒉次查，原證6 說明書第7 欄第17至25行、第8 欄第5 至8 行、圖2 、圖4A、圖4B揭示掃描方向調整機構（4a～4e與3a～3e中倍率調整光學元件〔例如凹透鏡及凸透鏡模組30a ～30c 〕之組合）是基於前述基板（5 ）中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向（X ）交叉之非掃描方向（Y ）形成之複數對準標記（Dx11、Dx12、Dx21、Dx22），透過至少（Dx11－Dx21）與（Dx12－Dx22）轉換成感光基板在掃描方向（X）的膨脹量及收縮量之計測結果。再者，由原證6 說明書第8 欄第29至55行；第11欄第6 至11行揭示該掃描方向（X ）的膨脹量及收縮量之計測結果，係於隨後的曝光階段，即作為調整投影像之掃描方向（X ）之位置依據，控制投影光學系統（3a～3e）及平行玻璃鏡片（4a～4e）之改變光放大倍率及位移量（詳細理由參見得心證之理由㈤），其已對應揭示系爭專利請求項1 「掃描方向調整機構是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像在前述掃描方向之位置」及系爭專利請求項7 「步驟是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像在前述掃描方向之位置」之技術特徵。

⒊綜上，原證6 已揭示系爭專利請求項1 、7 所有技術特徵，職是，原證6 足以證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性。

⒋另被告於106 年4 月6 日言詞辯論期日主張「系爭專利請求項1 所指曝光區域請參系爭專利圖1 （簡報第3 頁左圖）編號14A ，對準標記要在曝光區域外側；複數對準標記可參系爭專利第18圖編號24的十字標記，反觀原證6 第1 圖或第10圖，於基板標示即編號5 外側看不到沿著非掃描方向的十字標記，故原告以原證6 說明單獨系爭專利不具新穎性是不可能的，因為原證6 並無在非掃描方向上有對準方向的十字標記排列，原告以原證6 第4B圖說明每個小方格為對準標記是錯誤的說明，因十字標記才是對準標記。原證6 第八欄第5至10行有提到兩種校正機制，以原證6 第4B圖來看，此運算機制與系爭專利不同，原證6 並無在非掃描方向形成瞄準標記，原告以原證6 否定系爭專利新穎性不成立」云云。然查，系爭專利請求項1 、7 係記載「掃描方向調整機構是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像在前述掃描方向之位置」，故對準標記係設置在基板中之曝光區域之外側中且沿掃描方向交叉之非掃描方向形成。次查，由原證6 圖1 及圖4A均顯示該標記D （圖中以虛線標示）係形成於基板(5) 之曝光區域(5a)之外側且（Dx11,Dx12 ）與（Dx21,Dx22 ）（合稱為Dx）標記（非掃描方向標記）係與掃描方向（X 方向）交叉形成，且由原證6 說明書之內容可知，該標記亦作為影像校正之用，故原證6 中沿非掃描方向（Y 方向）所設置之（Dx）標記，可對應系爭專利請求項1 、7 之非掃描方向標記，至於標記是否為十字標記之形狀，因請求項1 、7 中並未界定標記之形狀，故不得以說明書及實施例之內容限縮請求項之範圍，職是，該標記之形狀可依據設計需求作選擇，而非僅限於十字形，被告之主張並非可採。

㈦原證2 及原證6 之組合可證明系爭專利請求項1 、7 不具進步性；

⒈因原證6 足以證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性，已如得心證之理由㈥所述，由於原證6 揭露系爭專利請求項1、7之整體技術特徵，自當具有系爭專利說明書所載之功效，故系爭專利請求項1 、7 為發明所屬技術領域中具通常知識者依據原證2 及原證6 之組合所能輕易完成。職是，原證2 及原證6 之組合亦可證明系爭專利請求項1 、7 不具進步性。

⒉至於被告固雖主張「原證6 與原證2 調整機構位置不同，參原證2 第28圖，其調整機構是位於光罩板上，是調整光罩板並非調整基板。由原證2 圖1 可知其與原證6 在投影光學系統結構上有差異，即便以原證2 第17圖都無法與原證6 結合否定系爭專利之進步性」，參加人亦主張「原證2 與原證6兩者係應用於不同部分之校正技術，各司其職，顯見原證2與原證6 兩者並非具有實質關聯或運用於解決相同問題之技術，可知兩者欠缺結合之動機」云云。惟查，因原證6 已揭示系爭專利請求項1 、7 之整體技術特徵，自當具有系爭專利說明書所載之功效，故單獨由原證6 足以證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性及進步性，原證2 及原證6 之組合自當可證明系爭專利請求項1 、7 不具進步性。

㈧原證2 、5 、6 之組合足以證明系爭專利請求項2 不具進步性：

⒈系爭專利請求項2 為依附於系爭專利請求項1 之附屬項，其更進一步界定「其中前述投影光學系統，係組合2 組具備反射稜鏡、驅動前述反射稜鏡之驅動部、透鏡、及凹面鏡之戴桑型光學系統而構成，並於一方之戴桑型光學系統之前述反射稜鏡與前述透鏡間之光程上設置倍率調整光學系統」之附屬技術特徵。

⒉原證6 足以證明系爭專利請求項1 不具新穎性之理由如前述。

⒊查原證6 揭示由「平行玻璃鏡片4a～4e」所構成之「位移調整機構」，各個投影光學系統3a至3e設置有倍率控制裝置20，通過調整各投影光學系統的光學元件之間的空氣壓力，改變投影光學系統的放大倍率（原證6 說明書第6 欄第23至27行），各個倍率控制裝置20是由兩個具有較大的曲率半徑的平凹鏡片30a 和30b 和雙凸透鏡30所組成（原證6 說明書第11欄第62 行 至第12欄第5 行），比較原證6 與系爭專利請求項2 之附屬技術特徵，原證6 並未揭示系爭專利請求項2由戴桑型光學系統所構成之投影光學系統。

⒋惟查，原證5 揭示一種投影光學系統及具有該投影系統之曝光裝置，其中該投影光學系統（22），係組合2 組具備反射稜鏡（31、42）、驅動前述反射稜鏡之驅動部（300 ）、透鏡（32、44）、及凹面鏡（33、45）之戴桑型光學系統而構成（原證5 說明書第4 欄第34至40行、第58至66行、第5欄第37至40行、圖1(A)），故原證5 及原證6 之組合已揭示系爭專利請求項2 之附屬技術特徵，此亦為兩造所不爭執（參見舉發審定書第15頁理由㈨之4 及起訴狀第19頁理由㈠）。因原證5 及原證6 均為曝光裝置之投影光學系統，兩者為相同技術領域，且於曝光裝置中均位於光罩於感光基板之間，以作為將光罩圖案正確投射於感光基板之系統，故兩者所欲解決及達成之功效相同，故發明所屬技術領域中具通常知識者在參酌原證6 所揭示之光學系統有合理動機會組合原證5所揭示之戴桑型光學系統而完成系爭專利請求項2 之發明，故原證5 及原證6 之組合足以證明系爭專利請求項2 不具進步性。

⒌承上，因原證5 及原證6 之組合即足以證明系爭專利請求項2 不具進步性，職是，證據2 、證據5 及證據6 之組合亦足以證明系爭專利請求項2 不具進步性。

㈨原證2 、6 之組合足以證明系爭專利請求項3 、8 不具進步性：

⒈系爭專利請求項3 、8 分別為依附於系爭專利請求項1 、7之附屬項，其均更進一步界定請求項1 、7 「其中前述投影光學系統，係具有沿與前述掃描方向交叉之方向配設之複數投影光學系統模組；前述掃描方向調整機構，係調整前述複數投影光學系統模組之各模組在前述掃描方向之投影像位置」之附屬技術特徵。

⒉原證6 足以證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性之理由已如得心證之理由㈥所述。

⒊經查，原證6 圖1 、11及其說明書第6 欄第18至43行、第11欄第63行至第12欄第1 行揭示投影光學系統（元件3a～3e與4a～4e之組合），係具有沿與前述掃描方向交叉之方向配設之複數投影光學系統模組（元件3a～3e、30a ～30c 、圖11之凹透鏡及凸透鏡模組）；掃描方向調整機構（元件4a～4e與3a～3e內部倍率調整光學元件之組合），係調整前述複數投影光學系統模組（3a～3e、30a ～30c ）之各模組在前述掃描方向之投影像位置，故原證6 已揭示系爭專利請求項3、8 之所有技術特徵，由於原證6 揭露系爭專利請求項3 、8 之整體技術特徵，自當具有系爭專利說明書所載之功效，故系爭專利請求項3 、8 為發明所屬技術領域中具通常知識者依據原證2 及原證6 所能輕易完成，職是，原證2 及原證6 之組合亦可證明系爭專利請求項3 、8 不具進步性。

㈩原證2 、3 、6 之組合足以證明系爭專利請求項4 、9 不具進步性：

⒈系爭專利請求項4 、9 為依附於系爭專利請求項1 、7 之附屬項，其更進一步界定「其中前述投影光學系統，係具有複數投影光學系統模組；將該投影光學系統模組之投影像之一部份重疊後，於前述基板上進行前述圖案之曝光」之附屬技術特徵。

⒉原證6 足以證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性之理由已如得心證之理由㈥所述。

⒊經查，原證6 圖3 及其說明書第6 欄第37至50行、第50至55行揭示投影光學系統（元件3a～3e與4a～4e之組合），係具有複數投影光學系統模組（元件4a～4e或4a～4e與3a～3e中倍率調整光學系統光學元件之組合）；將該投影光學系統之投影像（P1～P5）之一部分重疊後，於前述基板上(5)進行前述圖案之曝光，故原證6 已揭示系爭專利請求項4 、9 之所有技術特徵，由於原證6 揭露系爭專利請求項4、9之整體技術特徵，自當具有系爭專利說明書所載之功效，故系爭專利請求項4 、9 為發明所屬技術領域中具通常知識者依據原證2 、原證3 及原證6 所能輕易完成，職是，原證2 、原證3 及原證6 之組合亦可證明系爭專利請求項4 、9 不具進步性。原證2 、6 、7 、原證2 、3 、6 、7 、原證2 、5 、6 、7 之組合均足以證明系爭專利請求項5 、10不具進步性：

⒈系爭專利請求項5 為依附於系爭專利請求項1 至4 之附屬項，其更進一步界定「其中前述掃描方向調整機構隨著在前述掃描方向之前述基板之形狀變化，調整前述投影像之位置。」之附屬技術特徵，又系爭專利請求項10為依附於系爭專利請求項7 或8 之附屬項，其更進一步界定「其中前述掃描方向之位置調整隨著在前述掃描方向之前述基板形狀之變化而進行」之附屬技術特徵。

⒉原證6 已揭示系爭專利請求項1 、7 、3 、8 、4 、9 所有技術特徵，原證5 及原證6 之組合足以證明系爭專利請求項2 不具進步性之理由已如前述。

⒊經查，原證6 說明書第2 欄第49至53行及第2 欄第54行至第3 欄第2 行揭示「隨著在移動方向（X 方向）之形狀的變化，至少一個投影光學系統在所述之掃描方向之圖像位置亦會跟著改變」，其已對應揭示系爭專利請求項5 、10之附屬技術特徵。故原證6 已揭示系爭專利請求項5 （依附於系爭專利請求項1 、3 及4）、系爭專利請求項10之所有技術特徵。由於原證6 揭露系爭專利請求項5 （依附於系爭專利請求項1 、3 及4 ）、10之整體技術特徵，自當具有系爭專利說明書所載之功效，另原證5 及原證6 之組合足以證明系爭專利請求項2 不具進步性，故系爭專利請求項5 、10為該發明所屬技術領域中具通常知識者依據原證2 、6 、7 、原證2、3 、6 、7 、原證2 、5 、6 、7 之組合所能輕易完成，職是，原證2 、6 、7 、原證2 、3 、6 、7 、原證2 、5、6 、7 之組合均足以證明系爭專利請求項5 、10不具進步性。原證2 、4 、6 之組合足以證明系爭專利請求項6 、11不具進步性：

⒈系爭專利請求項6 、11分別為依附於系爭專利請求項1 、7之附屬項，其更進一步界定「其具備進行前述投影光學系統之倍率調整之倍率調整機構（步驟）、及旋轉前述投影光學系統之投影像之影像旋轉機構（步驟）中之至少一機構（步驟）」之附屬技術特徵。

⒉原證6 足以證明系爭專利請求項1 、7 不具新穎性之理由如前述。

⒊經查，原證6 圖1 、11及其說明書第6 欄第23至27行、第11欄第63行至第12欄第1行揭示投影光學系統（元件3a～3e與4a～4e之組合），係具有沿與前述掃描方向交叉之方向配設之複數投影光學系統模組（元件3a～3e、30a ～30c 、圖11之凹透鏡及凸透鏡模組）；其中，倍率控制裝置20是由兩個具有較大的曲率半徑的平凹鏡片30a 和30b 和雙凸透鏡30所組成（原證6 說明書第11欄第62行至第12欄第5 行）。承上可知，原證6 已揭示系爭專利請求項1 、7 之「其具備進行前述投影光學系統之倍率調整之倍率調整機構（步驟）、及旋轉前述投影光學系統之投影像之影像旋轉機構（步驟）中之至少一機構（步驟）」之附屬技術特徵，由於原證6 揭露系爭專利請求項6 、11之整體技術特徵，自當具有系爭專利說明書所載之功效，故系爭專利請求項6 、11為發明所屬技術領域中具通常知識者依據原證2 、4 、6 所能輕易完成，職是，原證2 、4 、6 足以證明系爭專利請求項6 、11不具進步性。

八、綜上所述，原證6 已揭示一「投影光學系統具有掃描方向調整機構」，並可完成「前述掃描方向調整機構是基於前述基板中之曝光區域之外側中沿與前述掃描方向交叉之非掃描方向形成之複數對準標記之計測結果，調整前述投影像之前述掃描方向之位置」，原證6 足以證明系爭專利請求項1 、7不具新穎性，原證2 、6 之組合亦足以證明系爭專利請求項1 、3 、7 、8 不具進步性，原證2 、5 、6 之組合足以證明系爭專利請求項2 不具進步性，原證2、3、6之組合足以證明系爭專利請求項4 、9 不具進步性，原證2 、6 、7 、原證2 、3 、6 、7 、原證2 、5 、6 、7 之組合均足以證明系爭專利請求項5 、10不具進步性，且原證2、4、6之組合足以證明系爭專利請求項6 、11不具進步性，準此，系爭專利請求項1 至11有得撤銷之原因，被告所為系爭專利請求項1 至11舉發不成立之處分，於法尚有未洽，訴願決定未予糾正，而維持原處分，亦非妥適。職是，原告聲明求為撤銷訴願決定及原處分，並命被告應就發明第146977號「曝光裝置及曝光方法」專利為舉發成立應予撤銷之處分，即無不合，應予准許。

九、本件事證已明，兩造其餘爭點、主張或答辯，已與本院判決結果不生影響，爰毋庸一一論列，併此敘明。

據上論結，原告之訴為有理由，爰依智慧財產案件審理法第1 條，行政訴訟法第98條第1 項前段，判決如主文。

智慧財產法院第一庭