揮發性有機物空氣污染管制及排放標準第 三 章 製程設施

本章適用對象為公私場所具有石化製程之設施。但下列石化製程之設施不適用本章規定： 一、產製食用酒精之製程。 二、以石化中間產品為原料進行物理加工之製程。 三、排氣中揮發性有機物排放量小於三百五十mg／min（揮發性有機物排放量以甲烷表示）之批次操作製程。 四、排氣流量小於六十Nm3／hr之連續操作製程。 五、其他經中央主管機關公告之製程。

1. 石化製程原（物）料或產品輸送管線不得破損，且排放管道排氣應以密閉集氣系統收集。但採密閉集氣系統有困難並報經主管機關核可者，不在此限。
2. 前項排氣之排放標準如下表。但未採密閉集氣系統者，應適用削減率之規定。
3. 第一項以密閉集氣系統連通至鍋爐或加熱爐處理者，其鍋爐或加熱爐負荷應維持削減率達百分之九十五。
4. 石化製程排放管道排氣採非破壞性物料回收處理方式者，其削減率達百分之八十五或揮發性有機物排放濃度三百ppm以下。

1. 石化製程排放管道之污染防制設備應符合下列規定： 一、廢氣導入處設置流量計及連續紀錄設施。 二、設置溫度量測器及連續紀錄設施，設置位置如下： （一）熱焚化爐爐膛內。 （二）觸媒焚化爐觸媒床前後。 （三）冷凝器冷凝液出口端。 三、使用前款以外之污染防制設備者，應設置足以有效監視其正常操作之連續監測及紀錄設施，並提出書面資料報經主管機關核可。
2. 前項使用焚化設施為污染防制設備者，其溫度量測器所得之連續三小時平均溫度，不得低於標準操作溫度三十℃以上。
3. 公私場所依第一項設置流量計有困難者，報請地方主管機關核可後，得以其他監測方式替代。