電子工程 100 年半導體工程考古題
題目為考試當年公告版本,實務標準請以現行規範為準。
在熱生長SiO2機制中,SiO2厚度X與生長時間t之關係式為X2+AX=B(t+τ),其中τ為t = 0 時初始厚度Xo所需之相對應生長時間,已知A = 0.1 μm,B = 0.01 μm2/hr,Xo = 0.01 μm,請求出再生長2 hr後之總氧化層厚度為多少?(20 分)
已知矽晶體鑽石結構之晶格常數(lattice constant)為5.43×10-8 cm,請繪出矽晶體中矽 原子與四個相鄰原子間之空間關係圖,並求出相鄰兩原子間之距離為多少?(15 分)
在矽材料中已知常溫下之本質載子濃度ni = 1.5×1010 cm-3,1kT/q = 0.0259 V,q = 1.6×10-19 C,熱 平衡下之電洞濃度po = 5×1010 cm-3,電洞之位移率μp=850 cm2/V.S,電子之位移率 μn=120 cm2/V.S,請求出該材料之熱平衡電子濃度no=?電阻率(resistivity)ρ=? (15 分)
在理想p-n接合面中,假設流入空乏區之電流等於流出之電流,p區與n區之摻雜濃度 比值為NA/ND=5,電洞與電子之擴散係數(diffusion coefficient)比值為Dp/Dn=1/2, 擴散長度(diffusion length)比值為Lp/Ln=1/3,請求出在順偏壓下空乏區內電洞與電 子電流之比值Ip/In=?(20 分)
在雙極性電晶體n+pn中,令(nEo,pEo)、(nBo,pBo)、(nCo,pCo)分別為射極、 基極、集極於熱平衡時之(電子,電洞)濃度,WEB、WBC分別為射基極與基集極 間之空乏區寬度,當工作於順向作用(forward active)區時,請繪出元件各區域之 電子濃度n(x)與電洞濃度p(x)之分布曲線圖。(15 分) 六、p-n結構太陽電池之面積為A = 2 cm2,在入射光功率為Pin = 100 mW/cm2之照射下,已知 光電功率轉換效率為12%,開路電壓為Voc = 0.5 V,短路電流密度為Jsc = 30 mA/cm2,請 求出該元件之填充因素(fill factor)FF =?照光下光電流是由p或n端流出元件?(15 分)