電子工程 97 年電子元件考古題
題目為考試當年公告版本,實務標準請以現行規範為準。
說明蕭特機二極體(Schottky diode)內鏡像電荷(image charge)導致位障高度下降 (barrier height lowering)的效應, ㈠畫出電子位能圖及其受外加電壓影響而改變的情形加以說明。(15 分) ㈡此效應在蕭特機二極體I-V 特性上造成的影響為何?(5 分)
㈠畫出一個原型(proto type)npn 電晶體的結構圖並且標明三個端點電流以及射極 電子電流和射極電洞電流的方向。(5 分) ㈡射極注入效率γ(emitter injection efficiency)是那兩個電流的比值?(3 分) ㈢基極傳輸因素αT(base transport factor)的定義為何?(3 分) ㈣電晶體α定義為IC/IE,假設基極-集極間沒有累增電流放大(avalanche multiplication gain),則α和γ與αT之關係為何?(3 分) ㈤電晶體的β= IC/IB,如何設計電晶體各區域的摻雜濃度和厚度使β≒100。(6 分)
㈠畫出一個pn 接面被光照射後其I-V 曲線(包含順偏和反偏部分)隨入射光強度(light intensity)而改變的情形(需註明強度變化的方向)。(8 分) ㈡說明此元件操作在第三象限時對應到那種光電元件的應用,並說明圖形上曲線的 變化和該元件的那些規格有關。(6 分) ㈢說明此元件操作在第四象限時對應到那種光電元件的應用,並說明圖形上曲線的 變化和該元件的那些規格有關。(6 分)
一個p+n二極體操作在順向直流偏壓下其穩態電流為IF,在時間t=0 時外加電壓由順 偏切換至逆偏(reverse bias)。 ㈠畫出n 型半導體內自t>0 後的電洞濃度隨位置和時間的變化情形。(5 分) ㈡畫出偏壓切換前後的電流對時間圖形。(5 分) ㈢解釋造成此電流波形的原因。(10 分)
長通道n 型MOS 電晶體操作在三極管區(triode region)時的I-V 方程式是 DS DS T GS ox D V V V V L W C I ) 2 ( − − = µ 。 ㈠當閘極電壓影響到移動率µ 的大小時,說明上式需如何修正?(6 分) ㈡當通道變短汲極電壓使得電子在水平方向的速度飽和時(不考慮通道的串聯電阻), 說明上式需如何修正?(7 分) ㈢當通道變短必須考慮通道串聯電阻時,說明I-V方程式需如何修正?假設源極電阻 RS等於汲極電阻RD。(7 分)