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電子工程 99 年電子元件考古題

民國 99 年(2010)電子工程「電子元件」考試題目,共 5 題 | 資料來源:考選部

0 題選擇題 + 5 題申論題

一個均勻摻雜的pn 接合面濃度是na=1019 cm-3 以及nd=1014 cm-3。若ni=1010 cm-3, kT/q=0.026 V。(每小題5 分,共20 分) 當外加偏壓V=0 時,空乏區兩側邊緣的少數載子濃度分別是多少? 當外加偏壓V=0.6 V 時,空乏區兩側邊緣的少數載子濃度分別是多少? 當外加偏壓V=0.6 V 時,空乏區兩側邊緣的過量少數載子(excess minority carrier) 濃度分別是多少? 當外加偏壓V=0.6 V 時,空乏區兩側邊緣的多數載子濃度分別是多少?
一個N+複晶矽-二氧化矽-p 型矽基板的MOS 電容器內,當基板摻雜濃度減少時,請 說明下列各參數有何變化,並簡單解釋。(每小題4 分,共20 分) 累積區電容。 空乏區電容。 反轉區電容。 平帶電壓(flat-band voltage)。 臨界電壓(threshold voltage)。
什麼是複晶矽閘極空乏現象(poly-Si gate depletion)?(10 分) 它對MOS 元件的各項特性有何影響?(10 分)
說明BJT 元件的基極採用矽鍺化合半導體有何優點?(10 分) 鍺在基極的濃度須如何設計,為什麼?(10 分)
畫出pn 接面受不同的光強度照射時的I-V 曲線圖(標明光強度大小)。(6 分) 在上圖中指出p-i-n 光二極體(photodiode)和雪崩光二極體(avalanche photodiode) 的工作區域。(6 分) p-i-n 光二極體和雪崩光二極體應用在光纖通訊領域時各有何優點?(8 分)

電子工程 99 年其他科目

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