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電子工程 103 年電子元件考古題

民國 103 年(2014)電子工程「電子元件」考試題目,共 5 題 | 資料來源:考選部

0 題選擇題 + 5 題申論題

對於一般常見的n 型半導體(如矽、砷化鎵、氮化鎵與氧化鋅),通常費米能階 (Fermi Level)會隨著摻雜電子濃度增加而更接近導帶(Conduction Band),如 果高摻雜電子濃度,費米能階甚至會深入導帶內部;但是對於p 型半導體,無論 摻雜電洞濃度如何增加,費米能階總是不會深入價帶(Valence Band)內部,請 說明原因。 請說明如何量測半導體薄膜的片電阻(Sheet Resistance)?什麼是轉移長度 (Transfer Length)? (每小題10 分,共20 分)
請說明什麼是長基區二極體(Long-Base Diode)?什麼是短基區二極體(Short- Base Diode)?兩者在順向電流的物理機制有何不同? 對於一金屬與半導體的蕭特基接觸(Schottky Contact),半導體為n 型矽單晶材 料,它的能隙(Energy Gap)是1.1 eV,電子親和力(Electron Affinity)是4.05 eV, 功函數(Work Function)是4.15 eV;金屬為金,它的功函數是5.1 eV。請問蕭 特基能障是多少?此值會和我們實際量測計算的能障值常常會有所不同,請說明 原因。 (每小題10 分,共20 分)
在npn 雙極性接面電晶體(Bipolar Junction Transistor,BJT)中,關於嘉莫圖 (Gummel Plot)的電流對電壓的特性曲線,若集極電流(IC)與基極電流(IB) 取對數,基極對射極電壓(VBE)為線性,請繪出對數的集極與基極電流對電 壓【log(IC 與 IB)-VBE】的特性曲線圖,並說明各線段的電流物理機制。 現今發展一種所謂的矽鍺(SiGe)異質雙極性接面電晶體(Heterojunction Bipolar Transistor,HBT),請說明這種元件的射極、基極與集極材料分別為何?比較傳 統的雙極性接面電晶體,這種元件可以提供什麼優點?並說明原因。 (每小題10 分,共20 分)
在金氧半場效電晶體(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor , MOSFET)中,何謂熱載子(Hot Carrier,載子可為電子或電洞)? 何謂熱載子 注入(Hot Carrier Injection,HCI)? 應如何控制或改善熱載子注入現象? 在金氧半場效電晶體的製程中常常使用金屬矽化物(Silicide),請說明金屬矽化 物在金氧半場效電晶體的結構是什麼?它可以提供什麼優點? (每小題10 分,共20 分) 103年公務人員高等考試一級暨二級考試試題 全一張 (背面)
在黃光室的微影製程中,對於光阻有所謂的軟烤(Soft-Bake)與硬烤(Hard- Bake),請說明它們的功能各為何?使用溫度範圍各為何? 在製作矽元件或矽積體電路時,我們常用氮化矽(Silicon Nitride,Si3N4)作為絕 緣層或披覆層(Passivation Layer),如果要以氮化矽作為絕緣層與披覆層,應該 分別使用何種技術成長?請說明原因。 (每小題10 分,共20 分)

電子工程 103 年其他科目

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