如下圖所示,有一攪拌加熱製程。其中F1 = F2 = 5 m3/min;而每個混合槽之體積(V)
均為10 m3;基本上,V, F1與F2均為定值。此製程之主要的干擾(disturbance)來源
是進料流F2之溫度變化(即T2);而設計控制系統之主要目的為維持出口之溫度(
T4)達到相當精確地控制。另一方面,溫度量測儀器(即T1~T5)與控制閥均已被
固定;你不能去改變它們,但也不一定要全部使用到它們。請問:
若採用單一迴路之回饋控制系統(single-loop feedback control system)是否可行?
請詳述你的見解。(8 分)
F2
請設計出一種你認為最理想的控制策略(繪圖並說明)。又你設計的各個控制器
應是那一種類型(P, PI, PID 或其他)?(12 分)
T2
F1
T5
T3
T1
T4
Heating
medium
(請接背面)
94 年第二次專門職業及技術人員檢覈筆試試題
類 科: 化學工程技師
全一張
(背面)